刻蚀法相关论文
目的 优化纸基微流控芯片刻蚀法制备条件,研究改性滤纸的微观结构和性能,并将纸基微流控芯片应用于沙门氏菌的比色检测。方法 制作......
减反射玻璃在汽车、光伏、显示、建筑等支柱产业有大量的应用需求。理论表明,具有梯度折射率结构是减反射膜获得优异减反射性能的......
将多巴胺负载于二氧化硅表面,再用氢氟酸刻蚀二氧化硅得到空心多巴胺纳米粒子,该方法简单易操作.再引入壳聚糖对空心多巴胺进行表......
前言由于碳纤维在机械特性、尺寸稳定性、耐热性、耐化学药品性、耐腐蚀性、导电性、吸附性、生物适应性等众多领域中具有独特的......
扫描隧道显微镜纳米加工技术的研究扫描隧道显微镜ＳＴＭ（ＳｃａｎｎｉｎｇＴｕｎｎｅｌｉｎｇＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）不但具有时物质表面原子结构的三维成象能力，而且通过控制ＳＴＭ针尖发射电子、离子及针......
ＳＴＭ（扫描隧道显微镜）作为一种新型的纳米加工工具，在微电子制造，量子、分子器件的制作以及在原子分子尺度内的操作与构建等方面有极大的应......
提出了一种新的简单的线性光学方法 ,可以使用在多层波导的光传播计算中 ,尤其是在光探测器的设计中。把设计值与目前普遍采用的BP......
美国国家标准技术研究所和哈佛大学正在研究一种新的微细刻蚀方法,即用粒子束代替光束.热心于搞光刻的人也很高兴的知道这种方法......
无显影气相光刻是我国首先发现的一项干法腐蚀技术。通过对其机理的不断研究发现，添加在光刻胶中的添加剂促进HF气体在高温下离解得......
美国伊利诺伊州的Motorola公司的Y.Bukhman等发明一种激光辅助等离子体化学刻蚀方法。此等离子体化学刻蚀系统是由
Y. Bukhman e......
本文介绍了一种全干法二步刻蚀制造高发射效率的场发射阵列（ＦｉｅｌｄＥｍｉｔｔｅｒＡｒｒａｒｙ－ＦＥＡ）的方法。首先利用等离子刻蚀（ＰｌａｓｍａＥｔｃｈｉｎｇ－ＰＥ）的各向同性在由ＳｉＯ２掩模的硅衬底上刻出平顶尖锥......
采用典型的半导体光刻工艺用ＢＨＦ／ＨＮＯ３溶液成功地刻蚀了ＰＺＴ（５２／４８）薄膜。研究了薄膜的微观结构对微图形的制作精度的影响。结果表明，在薄膜中晶粒团聚区......
德国Wurzburg大学的研究人员成功地采用二维光子晶体作为脊形波导激光器中的一个反射镜。这一进展可开发出用于集成光路的片上半导......
在焊补导轨拉伤方面,我们采用了阳极刻蚀法去油污、然后用银锡铋合金焊补导轨拉伤,效果良好,去油污迅速、简便、干净,焊补牢固。......
继2005年初利用拉曼效应或稀土掺杂硅的激光实验之后,美国Brown大学的Jimmy Xu小组首次成功观察到了纳米结构硅的激光输出。该小组......
研究了用于制备悬空结构的叠层光刻胶牺牲层工艺.讨论了工艺中常遇到的烘胶汽泡、龟裂、起皱、刻蚀电镀种子层时产生的絮状物和悬......
合成了一种用于形成囊泡的全氟代表面活性剂 ,确定了合成及提纯该表面活性剂的条件 ,并对其结构进行了表征 .结果表明 ,该表面活性......
提出了一种基于准分子激光制备45°微反射镜的新方法──激光阶梯刻蚀法,介绍了该方法的工艺流程。通过优化参数制备了微反射镜样......
研究了源漏整体刻蚀欧姆接触结构对AlGaN/G N高电子迁移率晶体管(HEMT)的欧姆接触电阻和金属电极表面形貌的影响。利用传输线模型(......
随着超短脉冲激光的谱及,使用多光子激励法的扫描型荧光显微镜已经引起关注。以前,这类装置主要形式是把超短脉冲激光器组合到反......
低温镀铁镀层与基体金属的结合强度是衡量镀层质量的主要指标,而阳极刻蚀是保证一定的结合强度的关键。我厂从1977年开展直流低温......
利用纳米球刻蚀法制备了二维六角密排三角形银纳米阵列,通过加入铬过渡层并改变其位置和改变金属沉积角度,研究它们对点阵结构的影......
用荷能重离子径迹刻蚀的方法在高分子多聚物膜(PET)上制备出单锥形纳米孔.刻蚀过程通过监测跨膜电流来控制,最大刻蚀电流Imax不同,......
复杂空心结构具有独特的形貌与结构特征,表现出独特的物理化学特性,在储能等研究领域取得了广泛关注。最近,武汉理工大学的麦立强......
最近,我们摸索出的硝酸刻蚀法制备有SERS(Surface Enhanced Raman Scattering,表面增强拉曼散射)活性的银表面,有良好的热稳定性,......
表面增强拉曼散射（ＳＥＲＳ）是近十几年来迅速发展起来的一种有力的表界面分析手段。本文简要地介绍了作者对激光拉曼制样技术的改进，以及ＳＥＲＳ在金......
多组分氧化物Ａｇ－Ｂｉ－Ｖ－Ｍｏ－Ｏ催化作用的光电子能谱研究宋伟，李静，窦伯生（中国科学院长春应用化学研究所长春１３００２２）关键词 钼钒酸铋，助剂Ａｇ，ＸＰＳ，Ａｒ~＋刻蚀，氧化还原对于......
提出了一种简单制备纳米级碳纤维电极的新方法.微米级碳纤维经电化学刻蚀后,用循环伏安扫描法电化学沉积电泳漆,再经烘烤,绝缘漆固......
研究了157 nm激光刻蚀光纤三维微结构的基本性能。实验结果表明,石英材料的刻蚀率随脉冲数的增加呈下降的趋势,大光斑的刻蚀率高于......
一、干法刻蚀简介刻蚀是形成图形的必不可少的技术。长期以来,在半导体器件加工工艺中一直延用在化学药品溶液中进行腐蚀的湿法腐......
在研究抗蚀剂上形成微细图形的刻蚀技术的同时,对真实地复印出所形成微细图形的加工技术进行了研究.其中利用了加速离子的直进性的......
日本学者研究出一种用于制备 IC 图案的干式刻蚀法,此法用液氮来冷却试样。此技术显著改善了超导薄膜的临界电流密度,其 J_c 值比......
本文报道了硅各向异性腐蚀结合静电键合工艺制备出的大面积场发射阵列。阵列密度为１０￣６个／ｃｍ￣２，且具有良好的均匀性。该工艺简单、易于控制，是......
总结了近几年金属基超疏水表面的研究成果,介绍了其常见的制备方法一电化学沉积法、阳极氧化法、溶胶一凝胶法、分子自组装法、飞......
在以透射电镜(TEM)手段研究氧化铝负载MoS2 基加氢催化剂的活性相时，载体的衬度干扰会带来多方面的负面影响。本论文采用HF 酸......
日本引田公司已经研制了比InSb霍耳元件的温度系数大为改善而又价廉的外延型GaAs霍耳元件〈VHG-110〉、〈VHG-210〉等两种新产品......
三、刻蝕和剝离大多数表面波器件有金属薄膜的叉指结构。有时电极达几百甚至几千条,而且通常要求线条间不短路。在下节,我们将讨......
1 简介rn现在各种产业对衍射、折射式和混合式的微小光学器件有着强烈的需求.随着这一领域的快速发展,已为微小光学元件的制造、复......
二氧化钛作为一种知名的宽禁带半导体材料，特别是锐钛矿型纳米结构在光催化、太阳能转换、裂解水制氢、化学传感等多方面实际应用中......
