等离子体化学相关论文
过氧化氢(H2O2)作为最重要的绿色氧化剂，广泛应用于化学合成、环境、医疗、半导体材料等领域.近年来，发展绿色合成方法(H2和O2直接合......
该文根据热力学和动力学分析,以TiCL+O为体系,使用高频等离子体化学气相淀积法;制备TiO超细粉的成核温度范围为1500~1836K .......
简要介绍了等离子体在能源环境领域的应用研究进展,在环境方面等离子体技术可实现无机及有机气态污染物脱除、废水处理以及固废的......
日益广泛地利用具有极端的状态参数(温度、速度、接触时间等)的过程,是现代技术和工艺的基本发展趋势之一。为了研究出生产化学产......
对1mmHg左右的低压气体施加一电场进行辉光放电,气体中的少量自由电子将沿电场方向被加速。在压力低,距离长的条件下,电子的运动......
随着科学技术的迅猛发展,出现了越来越多的新兴学科,等离子体化学就是其中之一.顾名思义,等离子体化学反应是在等离子体中进行的,......
Ⅰ.概况 国际等离子体化学会议(ISPC)每两年举行一次,主要交流等离子体化学如下几方面的研究和发展情况:合成,诊断,等离子体刻蚀,......
等离子体化学是等离子体技术与化学相互渗透结合而产生的一门新兴学科.借助等离子体中的能量粒子和活性成份所产生的物理和化学过......
等离子体化学是六十年代等离子体技术应用于化学领域而形成的一门新兴交叉学科。它建立在放电物理、放电化学、反应工程学和真空......
东北大学金属材料研究所的平井敏雄教授等的研究小组与阿尔匹斯电气公司共同采用等离子体化学气相生长法在世界上首次成功地合成......
概述了第9届国际等离子体化学会议的论文和活动情况,对这个领域的发展提出了一些看法。
Summarizes the papers and activities o......
采用脉冲ＴＥＡＣＯ２激光诱发ＳＩＨ４＋ＣＨ４等离子体化学气相反应，合成了粒度分布均匀的纳米ＳｉＣ球型陶瓷粉末，采用傅里叶红外光谱、Ｘ射线衍射、元素分析、透射电子......
阐述了电子回旋共振等离子体化学气相沉积法淀积半导体器件端面光学膜的优良特性，介绍了淀积反射率小于１０－４的１３１０ｎｍ半导体激光器端面增透膜技......
1879年Crookes在研究气体放电以后,提出了物质第四态的概念。本世纪二十年代Lang-muir专门用“等离子体”来命名这一物质状态。五......
等离子体化学发展二十多年来,在化学的许多领域里取得了重大进展。由于等离子体化学反应有许多优于普通化学反应的特点,所以引起......
上海市化学化工学会理论化学学组等离子体化学专业组于1983年12月21—22日在南昌路会所。第一次举行了上海地区等离子体化学年会......
非晶态硅是近十多年来迅速发展起来的新型电子材料。它在能源器件—太阳能电池等多种器件和集成电路中都有重要的应用。等离子体技......
研究了微波电子回旋共振等离子体化学汽相沉积低温氮化硅薄膜在５—１０６Ｈｚ频率范围内的介电性能．由于低温氮化硅薄膜为具有分形结构的纳米非......
采用直流等离子体化学气相沉积技术,在高速钢、Si(100)和Si(111)基体上沉积TiN膜,并对膜的晶体结构、表面形貌、断口结构、显微硬......
本文应用感应耦合高频等离子体化学光谱法,分析了半导体材料和大规模集成电路工艺中所使用的多种高纯试剂。为求得最佳工作条件对......
由复旦大学和上海物理学会主办的第四届全国低温等离子体科学和技术交流会于1987年8月25～27日在上海召开。来自科学研究机构、高等......
微弧氧化是一种表面处理的新技术,是通过热化学、等离子体化学和电化学的共同作用,在金属表面原位生成氧化物陶瓷膜的方法。通过调......
对于等离子体化学与等离子体加工领域中所用的典型颗粒尺寸范围而言,压力对传热的影响主要通过努曾(Knudsen)效应.对于努曾数不太......
捷克斯洛伐克布拉迪斯拉发夸美纽斯大学研究人员发明了一种汽车发动机废气电净化器。它利用等离子体化学反应,消除废气中的二氧化......
第七届国际真空冶金和冶金镀膜会议于1982年11月26日──11月30日在东京经团联会馆举行。参加会议的有美国、苏联、西德、英国、日......
本文给出了用低压直流等离子体法高速率化学气相合成金刚石薄膜的实验结果。其生长速率高达80μm/h左右,它是常规CVD法的80倍。利......
本文介绍了发明专利—双阴极直流辉光放电装置的结构及其性能,由于实现了工作气压 P、工件沉积温度 T、工件负偏压 V 可以分别独......
金刚石薄膜是高新技术特种功能材料。目前国内、国际上对其制备方法、应用开发竞争激烈。金刚石薄膜的研制成功将为金刚石独特的......
用热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法（ＰＣＶＤ）合成：ｃ－ＢＮ薄膜获得成功。实验结果表明，灯丝温度、反应气压、衬底温度、灯丝与衬底距离对薄膜质量......
利用直流磁控溅射装置淀积ｎｃ－ＺｎＯ薄膜，而以ＳｉＯ２／Ｓｉ，Ａｎ／ＳｉＯ２／Ｓｉ和玻璃为基片．应用磁控溅射技术淀积压电ｎｃ－ＺｎＯ薄膜可以减小电子对ｎｃ－ＺｎＯ薄膜表面的轰击损伤，增加电子与反应粒......
本文利用脉冲电沉积的方法制备氧化镍电色材料并研究了沉积条件对其反应速度的影响。发现在较大的脉冲电源开关比及适当的反向刻蚀......
用Ｘ射线衍射技术、红外吸收光谱、扫描电子显微镜、Ｘ射线光电子能谱对热丝辅助射频等离子体化学汽相沉积法制备的立方氮化硼（ｃＢＮ）薄膜的......
1 引 言 单纯靠离子轰击加热的直流等离子体化学沉积 TiN在刀具、刃具及各种耐磨工件上的应用已取得良 好的结果,就其工艺而......
气相双电荷离子及其电荷转移反应在电离层化学、等离子体化学、激光及热核聚变等领域都起非常重要作用。近年来,关于双电荷离子的......
本文简述了PCVD技术的原理、特性、设备。并对其制备的TiN、TiC、Ti(C_xN_y)超硬膜进行了显微硬度和化学成份等分析,最后介绍了该......
本文依据等离子体化学气相沉积法(PCVD)制备SnO_2导电薄膜的过程,提出一种数学模型。通过数值计算,讨论了沉积的关键参量—活性粒......
本工作以Ｃ＿３Ｈ＿６＋ＳｉＨ＿４混合的气体及ＳｉＨ＿４＋ＮＨ＿３混合气体为反应物，用激光等离子体化学气相反应法合成了纳米级的ＳｉＣ和Ｓｉ＿３Ｎ＿４陶瓷粉末材料，用红外谱、Ｘ射线衍射、透射电子......
微波诱导低级醇的等离子体化学反应王真，洪品杰，张承聪，戴树珊（云南大学化学系，昆明，６５００９１）关键词微波，等离子体化学，低级醇等离子体能产生大量的......
目前研制无害化处理有机卤化物及其工业废料的有效方法具有特殊意义。这是由于最近10－15年来各种各样含卤物质的化学和工艺的蓬勃发......
改进激光拉曼光谱仪的样品池为石英玻璃制作的连续流动的气体，样品室，用紫外光束射入样品室来激活气体在垂直于紫外光束和探测激光束......
