反应气体相关论文
在4℃、8.5MPa压力下，1.072L 反应釜内，采用定容法，通过反应引起的温度变化，研究了不同反应气体在抑制剂存在下对天然气水合物生成的影......
采用常压化学气相沉积法(APCVD)在浮法玻璃生产线上直接制备低辐射镀膜玻璃(在线LOW-E)具有产量大、成本低、膜层硬度大、耐久性强......
应用RF(射频)磁控溅射设备在超白玻璃和石英玻璃等非晶基体上生长Nb掺杂TiO2薄膜。在固定的电源功率、频率、靶基距和溅射时间的条......
会议
由于一种或多种杂质(或组分)容易与其他杂质或组分以及容器内壁表面、阀门和充装系统润湿表面发生反应,反应性气体混合物的保质期......
本文研究了连续化学气相沉积过程中Nb_3Sn的某些生长特点与其载流能力之间的关系,发现由于沉积条件在沉积室空间内的自然变化,造成......
前言工业方面对碳表面同CO_2、O_2或空气的反应性,常常是根据在有选择的温度和气体流速下,用炭的损耗进行测定。调查文献后认为各......
在氢化无定形半导体膜的制造上,一般采用冲击放电等等离子化学气相沉积法。由于高能粒子的冲击,使半导体膜表面或内部形成等离子......
一、绪言碳的化学反应可分为下面三种。 1) 气化反应 2) 层间化合物生成反应 3) 与金属和陶瓷的固—固相反应这里不讨论第二种反......
本文报道了用CVD动态沉积法连续制备YBCO超导带的实验结果。以Y(TMHD)_3、Ba(TMHD)_2、Cu(TMHD)_2为挥发源,高纯Ar和O_2分别为载流......
由于氮化钛材料的高硬度、高熔点、高导电率,以及在惰性气体中的高温稳定性,所以它在工业应用上是很有前途的材料。用“晶须“的......
在温度为 674～ 791Ｋ和氧分压为 8.1～ 30 .4ｋＰａ时 ,研究了ＭｏＯ2 氧化成ＭｏＯ3的动力学 ,用微电子微天平测定了反应时重量的增大。反应相对于氧浓度......
反应溅射存在不稳定性,需要对反应溅射过程进行非线性控制。分析了迟滞效应的不稳定特性,提出了基于PEM的非线性动态平衡控制法。......
利用X射线衍射(XRD),X射线光电子能谱(XPS)及活性测试对铈钛复合氧化物的结构及催化脱硫特性进行了研究。结果表明:当铈-钛摩尔比(......
本发明涉及到从甲醇和醋酸生产丙烯酸的过程,其中在反应区A,甲醇在非均相催化剂气相反应中部分氧化成甲醛,由此得到的产品气体混合......
本发明提供一种应用锆钨介孔分子筛催化剂制备乙腈的方法,包括如下步骤:将原料醋酸与氨分别汽化后,预热,醋酸与氨的摩尔比为1:2.5-......
本文研究了制备纳米硅粉的工艺参数：获得了最佳工艺参数：激光功率密反１６００Ｗ／ｃｍ２，硅烷浓度１０％，高纯氩稀释，反应气体流量１００ｃｍ３／ｓ，反应池压力２６．７ｋＰａ。改变工艺参数可制......
报道了反应溅射沉积ＴｉＯ２薄膜，得到ＴｉＯ２薄膜的特性如沉积速率、透射率、导电性能、吸收系数等与反应气体的流量、溅射功率有关。通过控制氧气......
介绍了测定a－Si：HTFT闽值电压的实验方法。重点研究了改变a－SiNx：H薄膜淀积时反应气体NH3／SiH4流速比以及a－SiNx:H膜厚对a－Si：HTFT阈值电压......
研究了燃焰法沉积金刚石薄膜的质量均匀性，指出反应气体流量比是影响金刚石薄膜质量均匀性的主要因素．基片表面沉积区径向温度梯度使......
磁控溅射法制备ＳｉＯ２ 膜传统上采用射频溅射工艺，但它成本较高，效率较低，无法充分满足大面积镀膜工业生产的需要。近年来，反应磁控溅射在解......
资料来源:Giesserei.-1990,4.-127;专利号:德国 DE—OS38 18 258(B22C9/12);申请日期:1988年5月28日;公布日期:1989年12月7日;申......
用射频等离子体化学气相沉积法（ RFCVD）和 CH4、 N2与 Ar组成的混合气体制备掺氮类 金刚石薄膜（ a－ C:H:N）。用原子力显微镜（ AFM），俄歇电......
本文研究以单脉冲TEACO_2激光诱导乙烯-氧爆燃反应,测定了激光频率、反应气体总压力、C_2H_2和O_2的比例以及金属Pt-Rh及电解银表......
介绍了新近研制出的一种电阻加热式 CVD/ L PCVD Si C专用制备系统 ,并利用该系统以 Si H4、C2 H4和 H2 作为反应气体在直径为 5 0......
本文报导了十二种甲基膦酸二烷基酯化合物的化学电离条件的研究结果。采用甲烷、甲醇和异丁烷做反应气体,获得了最佳压力和温度以......
用工业原料以不同方法制备了几种低温合成甲醇Cu—ZnO—Al_2O_3催化剂。发现用NH_4HCO_3为沉淀剂,使Cu~(++)、Zn~(++)共沉淀,捏和......
四氢呋喃是制造高分子化合物的基本原料之一,由此可以制成尼龙6-6、丁苯橡胶及卡普纶等,所以利用农业副产品糠醛经脱羰制成呋喃,......
氢化物-原子吸收分光光度法是近年来发展起来的一种新的分析方法。本文提出一个新结构的氢化物系统,包括氢化物发生器和自动加液......
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术以甲烷(CH4)和硅烷(SiH4)作为源反应气体在Si(111)衬底上合成了纳米晶态SiC薄膜。通过X射线衍射(......
在质谱分析方面,化学离子化(CI)是一种比较新的离子化方法,是在1966年由Field与Munson开发的。它在阐明有机化合物结构方面与电子......
介绍一种用微电量滴定法来测定总有机卤素量(TOH)的分析仪。微电量滴定法是在电解液中,用一个带有电子的电极,由它产生电流及所经......
采用管式连续流动反应器,研究了在电解银催化剂上甲醇氧化为甲醛的动力学,测定了在颗粒状的催化剂上空速为11000时~(-1)、反应温度......
自1969年Holak把氢化物发生技术用于原子吸收光谱分析以来,在各个领域均已得到广泛应用。在此期间,一些工作者对影响氢化物生成的......
甲烷和二氯甲烷混合反应气体的负离子化学电离质谱,对多肽和核苷等极性有机化合物的分析能提供有关[M+Cl]-离子和分子结构的信息,......
采用日本理学(Rigaku PTC-10A型)热分析与国产SP-230SE型气相色谱仪,建立热-色联用技术装置。用已知物的热分解反应考察同步性、逸......
采用了等离子体增强化学气相沉积法(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD)在聚酰亚胺(Polyimide,PI)牺牲层上生长氮化硅......
采用FT-IR光谱法,对铝粉催化下的α-萘乙酸合成反应气体产物进行现场动态测定,并对固相中间产物和最终产物取样分析。结果表明反应......
化学气相沉积(CVD)是制备固体薄膜,生产复合材料的重要方法之一。但由于沉积温度较高,使应用范围受到很大限制。因此,对降低CVD的......
接触法生产H_2SO_4和固体SO_3的制备,是现行统编高一教材的一个课堂演示实验。过去介绍这方面的资料和经验以及具体的方法也很多,......
化学气相沉积(CVD)起始于19世纪末,先后用于钛、锆等金属的提纯以及金属丝和金属板的耐磨、耐热表面保护。本世纪50年代西德金属......
