离子束刻蚀相关论文
为了提高窄带滤光膜的有效镀膜面积，用电子束与离子辅助沉积技术制备了大尺寸光通信滤光膜。利用离子束刻蚀原理修正膜层均匀性，研究......
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性，用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性，用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度，并研究不同离子束......
作为X射线波段的一种重要色散元件,金透射光栅主要用于激光惯性约束核聚变（ICF）实验中的等离子体诊断,以及X射线天体物理研究的高能......
高效率的太阳能电池是太空工作站、空间卫星、临近空间飞艇、长航时太阳能侦察飞机等航天飞行器主要能源的提供者。随着国家太空战......
本文介绍了我所64×64HgCdTe长波焦平面器件的最新进展.该器件采用我所自己研制的LPB薄膜材料,离子束刻蚀反型成结.In柱倒装互连结......
在GaN基多层外延膜结构上利用聚焦Ga离子束(FIB)刻蚀技术研制亚微米尺度的空气柱/Ⅲ族-氮化物的二维八重准晶型光子晶体.在相同的......
介绍了色分离光栅的设计原理,对CSG的制作工艺进行了研究.用套刻的工艺方法,以30°的离子束入射角,能量为450eV、束流密度为80mA/c......
本文介绍了色散延迟线的工作原理以及在超宽带雷达上的应用,探讨了研制工艺以及通过微机程序控制步进距离实现沟槽反射阵列色散延......
采用磁控溅射,紫外线光刻和离子束刻蚀制备了LaCaMnO/EuCuO/LaCaMnO磁性隧道结.通过对获得的磁性隧道结的I-V特性测量,本文发现非......
适用于深空探测的可见-短波红外成像光谱仪需要同时满足宽谱段覆盖、高光谱分辨率和轻小型化要求.本文采用凸面分区复用型光栅设计......
根据由离子束刻蚀HgCdTe pn结C-V曲线,判定其为线性缓变结;由1C3-V曲线斜率可知杂质浓度分布梯度。利用泊松方程(零偏压时耗尽层宽......
红外高光谱的应用对于微型集成滤光片的需求越来越明显。通过改变间隔层的光学厚度，保持基本膜系不变，在1.9～2.4 μm 的红外光谱范围......
介绍了离子束刻蚀技术的特点及其基本原理,并以某型号离子束刻蚀机为例,重点介绍了该设备组成结构与工作原理.同时,根据以往维修经......
基于严格耦合波分析,研究凸面闪耀光栅的衍射特性;采用全息光刻-离子束刻蚀法制作中心周期为2.45μm、曲率半径为51.64 mm、口径为......
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40 eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅，即300，600和1200 ......
采用磁控溅射,紫外线光刻和离子束刻蚀制备了LaCaMnO/EuCuO/LaCaMnO磁性隧道结.通过对获得的磁性隧道结的I-V特性测量,本文发现非......
基于耦合模理论，利用数值解法对啁啾光纤光栅特性进了全面的分析，并利用柱面镜全息曝光干涉法制作啁啾光纤光栅图形，和反应离子束刻蚀......
实现了一种新型刻蚀深度实时检测系统，整个系统对温度漂移，气体流动与外界振动等环境因素极不敏感，系统测量误差小于０．９８％，实现了在真空环境......
Near-field holography enhanced with antireflection coatings——an improved method for fabricating diff
Near-field holography(NFH), with its virtues of precise critical dimensions and high throughput, has a great potential f......
阐述了利用离子束刻蚀技术制作线列长方状拱面石英微透镜阵列的工艺方法，对所制微光学元件的光学性能进行了测试和讨论，所制成的石英......
1C 复合材料,包扩炭/炭聚丙烯腈均聚物及鸟头二酸共聚物环化机理的模拟 L. A. Beltz and R. R. Gustarson 2 聚乙烯纤维转化成炭......
纳米孔是目前单分子测序的一项重要技术。作者以氮化硅绝缘材料为基底,采用微加工技术设计和制备了自支撑氮化硅悬空膜结构,然后利......
采用全息－离子束刻蚀微细加工技术在石英基板上成功地刻蚀出了１２００线／ｍｍ、闪耀角５°１０’的锯齿槽形闪耀光栅．对全息光刻、显影等掩模制作工艺和......
本文对宽束离子束刻蚀技术进行了研究，并运用宽离子束对微透镜阵列进行了刻蚀，表明宽离子束可进行微米、亚微米刻蚀。
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二元位相型菲涅耳透镜列阵器件的研制及其应用实验郭晴，王汝笠，陈高峰，傅艳红，王君（中国科学院上海技术物理研究所，上海２０００８３）二元位相型菲涅耳......
采用非对称五层光波导模型，分析了光纤布拉格反射滤波器特性，讨论实现窄带和宽带高反射滤波器的结构参数．文中报道关于光纤布拉格反射......
光刻胶作为离子束刻蚀的掩膜已得到了普遍采用，由于它在受到离子束轰击时会发热收缩、不利于刻蚀线条高宽比的提高，限制了它的进一步......
超光滑光学表面广泛地应用在短波段光学领域,如同步辐射光束线的反射镜、软X射线波段的多层膜基底等.其表面的粗糙度通常要求小于0......
介绍了用离子束抛光法获得硅的超光滑表面的方法，并给出了不同抛光条件下表面粗糙度的原子力显微镜（AFM）测量结果，其中最好的表面粗糙......
采用侧墙工艺技术研制深亚微米ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形
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本文概述了LB超薄抗蚀层用于光刻研究的历史及现状，指出：发展实用化的LB超薄抗蚀层技术对于微电子工业中深亚微米乃至纳米水平的微细......
美国国家标准技术研究所和哈佛大学正在研究一种新的微细刻蚀方法,即用粒子束代替光束.热心于搞光刻的人也很高兴的知道这种方法......
本文论述了新兴纳米加工技术－ＳＴＭ（ＳｃａｎｎｉｎｇＴｕｎｎｅｌｉｎｇＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）的原理、实验方法、结构形成的机理和最新成果，并分析了它的发展潜力和当前需要研究的主要课题。
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采用Kaufman离子源刻蚀微透镜列阵并采用实时检测系统对刻蚀深度进行了控制。提出了测量微透镜列阵衍射效率的一种方法。对测量误......
研制了一台具有二级透镜的聚焦离子束（ＦＩＢ）装置。它利用液态金属离子源：镓和金硅合金。离子束束斑在０．３μｍ左右，最小束斑达０．２１μｍ。能稳定、长时间......
叙述了采用氩离子束刻蚀的方法制作线列长方形拱面石英微透镜阵列．所制单元石英微透镜底部的外形尺寸为（300×106）um2，平均冠高7．07μm，......
本文阐述了化学辅助离子束刻蚀(Chemiclly-assisted ion beam milling)、淀积(后统称离子束修补)技术的基本原理以及实现的过程,同......
采用离子束刻蚀制备线列熔凝石英柱微透镜阵列，准分子激光扫描消融法淀积性能均匀且稳定性良好的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ高温超导薄膜，湿法刻蚀制备超导薄......
从理论上研究了波导耦合型刻蚀光纤布拉格反射器的特性。采用正交模式耦合理论描述其中的光栅辅助正反向模式耦合，用非正交模式耦合......
利用光刻及氩离子束刻蚀制作面阵硅场发射器件，采用扫描电子显微镜和表面探针等分析所制样品的表面微结构形貌，定性讨论了刻蚀用氩离......
采用准分子激光扫描消融法淀积YB32C23O7-δ高温超导薄膜，利用常规光刻工艺制备线列高温超导薄膜器件，采用离子束刻蚀制备与高温超导......
在ＺｒＯ２、ＩｎＰ、Ｓｉ及ＳｉＯ２即融凝石英衬底上用氩离子束刻蚀制作面阵矩底拱面状微透镜阵列，给出了氩离子束在不同的入射角度下刻蚀器件的速率与离子束......
