磁控溅射技术相关论文
表面增强荧光(Surface Enhanced Fluorescence,SEF)是指分布于贵金属表面或其溶胶附近的荧光分子,其荧光发射强度较之自由态荧光发射......
铬涂层是一种综合性能优异的防腐涂层,即使在潮湿的环境中也不会被腐蚀。此外,铬涂层具有良好的装饰性能、机械性能和耐热性,十分......
在航天装备系统中,滑动电接触部件被广泛应用,担负着电路系统中电流的接通、分断、导流、隔离的工作,发挥着重要的作用。随着装备......
镍基宽温域自润滑薄膜在宽温域范围内具有优异的力学性能、抗氧化性能及摩擦学性能,对提高服役于宽温域下的摩擦部件的使用寿命和......
利用热电材料的塞贝克效应和佩尔捷效应设计制造的热电器件,可以直接实现热能和电能直接转换,从而可用于热电发电和热电制冷。近年......
会议
利用磁控溅射技术在铸造Ni32Co23Cr8Al2Si合金上溅射了相同成分的纳米晶涂层.900℃的75%Na2SO4+25%NaCl(质量分数)混合盐热腐蚀试验......
在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/Nb2O5双层薄膜,得到了不同色彩的镀膜玻璃.用光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不......
本文采用磁控溅射技术制备了调制周期λ=12nm,20nm,40nm的Cu-Zr纳米多层膜,调制比η=1.通过X射线衍射、扫描电子显微镜对多层膜的......
本团队采用磁控溅射后硫化法制备铜锌锡硫电池。先在玻璃衬底上共溅射SnS2,Cu以及ZnS三种化合物,然后在硫化氢气氛中高温退火而成。......
氢在ZnO∶Al中是一种n型掺杂,所以它能够降低应用于太阳电池的AZO透明导电薄膜的电阻率.但是由于在ZnO中H和Al的掺杂机制不同,为了......
在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/TiO2双层薄膜,得到了不同色彩的装饰膜.通过光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同......
会议
CoSiN薄膜可以作为超大规模集成电路Cu布线互连材料使用。本文利用磁控溅射技术制备了CoSiN/Cu/CoSiN/SiO2/Si薄膜。利用四探针测......
使用脉冲直流反应磁控溅射在不同基底偏压的条件下制备Nb2O5薄膜。制备过程为金属Nb靶在纯氧环境中反应完成。使用光谱仪,原子力显......
以高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获......
本文阐述了交流溅射技术的原理、特点及其应用。
This article describes the principle, characteristics and applications of ......
以Zn-Al(Al:2wt.%)合金为溅射靶材,采用直流反应磁控溅射的方法,在普通玻璃衬底上制备Al掺杂ZnO(AZO)薄膜。通过对衬底温度的调制,......
针对二氧化钒(VO2)薄膜在可调谐太赫兹功能器件中的应用,利用低温磁控溅射技术,在太赫兹和光学频段透明的BK7玻璃上制备出高质量的......
近年来,ZrN由于其独特的物理和化学特性引起了人们越来越广泛的关注.ZrN是一种金黄色的难溶硬质化合物,分解温度高,化学稳定性......
依赖于科学直觉与试错的传统材料研究方法日益成为新材料研发的瓶颈,而材料基因组技术可以全面提高先进材料从发现到应用的速度......
本文通过把"自清洁玻璃"技术与高性能的"双银Low-E玻璃"技术复合起来进行研究,在同一片玻璃上两边都进行镀膜,一面通过辊涂工艺镀......
对极低浓度气体的检测一直是各种分析仪器面临的巨大挑战,在气体分析仪器的前端设置富集器可以使系统的探测能力提升1-3个数量级。......
本文采用磁控溅射技术沉积InGaZnO(IGZO)薄膜,制备具有底栅结构的薄膜晶体管(TFT).测试并分析IGZO TFT的电学性能和在不同波长紫外......
氧化镓(Ga_2O_3)是一种新型的超宽禁带半导体材料,带隙约为4.9eV,相比于第三代半导体,具有禁带宽度更大、吸收截止边更短、生长成......
磁控溅射技术相对于其他成膜技术具有无法比拟的优良性能,比如沉积速度快、温度低、环保等优良的性能,因此该技术得到了广泛的应用......
因出色的磁性能,烧结钕铁硼材料已成为当今最受欢迎的稀土永磁材料,广泛应用于电子、电力机械、医疗器械、航天航空等领域。但是其......
钛合金、高温合金等难加工材料被广泛应用于航空航天等领域。但是它们具有较低的导热系数,使刀具所受的切削力和切削温度很高,加快......
表面工程提高材料摩擦磨损、耐腐蚀性能的同时,还赋予材料新的表面功能,为解决人类发展中遇到的资源、能源等问题起到了不可替代的......
本文应用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al_2O_3基底上制备MgB_2/Ta多层膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原......
采用平面磁控溅射技术在玻璃上制备的金属铝膜,随氩气压强的升高及膜层的加厚而铝膜表面变得粗糙、反射率下降。以渐变不锈钢-碳为......
新型真空镀铬建筑玻璃在昆明诞生一种新型真空镀铬建筑玻璃目前在昆明通过航空航天部云南管理局技术鉴定。这种镀铬玻璃是昆明航天......
利用直流磁控溅射装置淀积nc-ZnO薄膜,而以SiO2/Si,An/SiO2/Si和玻璃为基片.应用磁控溅射技术淀积压电nc-ZnO薄膜可以减小电子对nc-ZnO薄膜表面的轰击损伤,增加电子与反应粒......
介绍了X光激光薄膜锗靶的制备工艺,在厚度为90nm的formvar膜上,采用磁控溅射技术沉积30~60nm厚的锗膜.对锗膜的应力进行了初步的测试与分析,制得的薄膜经干......
用离子束辅助非平衡中频磁控溅射技术,在Si,高速钢或不锈钢基体上分别沉积得到了具有多组分过渡金属层缓冲的W梯度掺杂类金刚石碳(......
1 硬涂层 近三年来已能在几何形状复杂的三维构件上,采用PVD涂层工艺均匀地涂复几种性质不同的硬质层,如TiN,TiCN和TiAIN等,迄今所采......
采用透射电子显微术(TEM),研究了用磁控溅射技术在柔性金属基体上制备的、钇稳定的ZrO2(YSZ)为过镀层的YBa2Cu3O7-y(YBCO)薄膜的横断面结构。所得YBCO膜的超导临界转变温......
Ni3Al合金是一种新型高温合金,IC-6合金是不含Cr而含14%Mo的Ni3Al合金。由于高温下Mo极易氧化升华,因此为使IC-6合金在高温下可靠工作,需选择NiCrAlX涂层作为IC-6合金的保护涂......
在室温下,分别利用常规磁控溅射和反应磁控溅射技术交替沉积Si薄膜和Si1-xNx薄膜在单晶硅基体上制备了Si/Si1-xNx纳米多层膜。接下......
利用多靶磁控溅射技术在SiO_2/Si基体上沉积Cu/Cu(Ge,Zr)多层薄膜,采用四探针仪(FPPT),X射线衍射仪(XRD),高分辨透射电镜(HRTEM),X......
研究了Ti-1100高温钛合金表面溅射NiCrAlY涂层对钛合金在600℃~800℃空气中氧化性能的影响。结果表明:由于在涂层表面形成均匀连续的A......
一、引言:现代大功率微波管已普遍采用无截获栅控电子枪。由于阴影栅一般采取紧贴阴极面的结构,而控制栅与阴极的距离又很近,阴极......
本文简单地回顾了磁控溅射源的发展过程,综述了一些关于磁控溅射的基础研究的成果和磁控溅射技术的应用。
This article briefly ......
利用磁控溅射技术制备了晶粒尺寸为300nm~400 nm的GW102K(Mg-10Gd-2Y-0.5Zr)微晶薄膜.通过动电位极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)研究......