光刻技术相关论文
当今世界离不开信息产业，信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术，即微电子技术。集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术。......
以专利家族为研究视角,阐述技术路径动态演化过程中的路径依赖。专利家族自引会对技术主路径造成干扰,通过对主路径进行调整,提出......
经过数亿年的进化,节肢类昆虫已经进化出具有优越成像性能的复眼。这类眼睛具有密排的小眼均匀分布在一个弯曲的宏观眼球表面。这......
分布反馈（DFB）半导体激光器因其光谱线宽窄、稳定性好在多领域得到广泛应用。通过将光栅制作于器件表面,避免了二次外延工艺,减少了D......
极紫外光刻技术被认为是下一代最有潜力的光刻技术,对推动集成电路发展具有重要作用.极紫外光源是极紫外光刻技术的源头,其技术水......
利用热电材料的塞贝克效应和佩尔捷效应设计制造的热电器件,可以直接实现热能和电能直接转换,从而可用于热电发电和热电制冷。近年......
会议
对用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术作了阐述,对无铬相移掩模(CPM)、交替相移掩模(APSM)以及高透衰减相移掩模(......
围绕微细电化学加工技术的探索以及在微型机械/MEMS中的应用,构建了基于微细电化学加工用电源、微进给机构、状态检测模块和计算机......
通过分步光刻技术将不同功率F等离子体处理HEMT(高电子迁移率晶体管)和常规耗尽型HEMT制备在同一原片上。通过对比得出。F等离子体......
LIGA技术是微加工技术的一个重要手段,有着其它技术所不能够相比的优越性能.BSRE自1993年起开展了这项技术的研究工作,经历了近十......
UV-LIGA技术吸收了集成电路光刻技术和LIGA技术的优点,利用UV-LIGA技术,在我们研制的UV-LIGA深度光刻设备上可将光刻图形转移到很......
本文简要论述提高光刻分辨率的几种所谓增强光刻技术,如相移掩模技术,离轴照明和光学邻近效应校正的基本原理和相关技术.......
等离子体极紫外（EUV）光源被公认为是最有前途的EUV光源，针对它的研究已经在全世界范围内展开了激烈的竞争。在实现极紫外光刻（EUVL）技术......
本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程及发展趋势,对光刻技术在集成电路和半导体分立器件的微细加工以及印刷电路板、平板显示器......
利用光刻技术与电化学技术相结合,制备了平面叉指电极,并创新性的利用该叉指电极作为电形成法制备磷脂泡囊的电极体系,成功制备出......
正弦结构光场普遍应用于精密光学的三维测量,其正弦性直接或间接影响三维测量的精度。根据正弦条纹的周期性和对称性等几何特征,以......
研究了多层微图案的成像特性,将基于光刻技术制作的微米级和高透光微图案附着在透明玻璃基板上,这种带有图案的玻璃基板堆叠约50层......
This work has demonstrated that with silver superlens, the resolution of conventional optical lithography can be improve......
日前,上海新阳发布公告,宣布其自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品已通过客户认证,并成功 取得第一笔订单。上海新阳表示,KrF(248......
为了追求光泵气体THz激光器更高的输出功率和更好的光束质量,设计制作了复合型金属网栅耦合输出镜.描述了复合型金属网栅输出镜相......
文章介绍了中国IC制造业的机会，阐明光刻技术是实现晶体管微缩的关键，其就像照片放大机的原理，光刻技术将IC电路图印在晶圆上。......
Producing the Smallest DRAM Cell Available to Date Through the Development and Implementation of 6F2
As lithography progresses into the sub-100 nanometer (nm) realm, the capital investment and technology needed to achieve......
众所周知，电脑芯片是电脑的关键部件。现在的芯片制造工艺采用光刻技术，因而在一块芯片上刻制晶体管的数目受到波长的局限。目前最新......
这篇论文描述混合器基于极端薄的超导的 NbN 拍摄的超导的热电子幅射热测定器(HEB ) 的设计和制造。高质量的电影取向附生地在高抵......
接触指导和外部力量地是影响房间取向的二个重要因素。PDMS 底层上的像密纹的模式被制作用软平版印刷术，并且相对模式的重力的地方......
日本物理学家研制出到目前为止波长最短的发光二极管（LED）。由厚木市NTT基础研究实验室的Yoshitaka Taniyasu和同事一起研制的LED由......
2006年3月，IBM公司宣告实现了最小尺寸（29．9am）的高质量光刻图样（见本刊2006年第5期），Jacqueline Hewett解释了其光刻技术的工作原理和对......
多晶和复材料中,形变过程可能发生在晶内或者可能是晶界滑移造成的。检测晶粒形貌的变化,可以给出解释和选择塑性形变微观机制的......
已提出的各种可能机理有束流引起的化学反应,高电流密度使表面局部区域内原子加热导致的局部原子的蒸发、熔化、再结晶等,有些结......
We have set up a novel system for shaping the Gaussian laser beams into super-Gaussian beams.The digital micro-mirror de......
亚利桑那大学研究人员开发出一种一步法元素硫共聚工艺。这种被称为“逆硫化”的工艺,通过使二烯单体与液硫直接聚合,形成热机械及......
结合聚苯乙烯纳米球自组装技术和微机械制造技术提供了一种制备Spindt场致发射阵列阴极的新方法,并成功制备了集成度较高且均匀分......
暗场对准技术是利用光学暗场成像原理和微光真空光电探测技术，使投影光刻硅片上的标记获得大幅值、高信噪比的对准信号通过双池偏差......
介绍了立体微细光刻技术研究的意义、发展趋势、工作原理和基本实现方法，旨在促进此项高新技术的应用发展．
This paper introduces ......
Ｘ射线光刻综述＝Ｘ－ｒａｙｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ－ａｎｏｖｅｒｖｉｅｗ［刊，英］／Ｐｅｃｋｅｒａｒ．Ｍ．Ｃ．…Ｐｒｏｃ．ＩＥＥＥ．－１９９３．８１（９）．－１２４９～１２７４论述了Ｘ射线光刻的基本原理，讨论了分辨率、硅片产量及工艺范围等问题。把Ｘ射线...
X-ray lithography overview ......
本文扼要介绍了一种崭露头角的微电子机械系统（ＭＥＭＳ）的应用前景，以及它的最新工艺技术。并预示在推进ＭＥＭＳ工艺的前提下，ＭＥＭＳ产品将大有作为。
This......
日本东京日立有限公司的中心研究实验室正在研究1—G bit动态随机存取存储器线路的光刻技术.超大规模集成线路制造技术的发展取决......
近几个月来的经济发展速度明显放慢,人们对此产生的最大疑问是:“经济会开始滑坡进而导致衰退,还是要‘软着陆’呢?”半导体设备......
