直流磁控溅射相关论文
透明导电氧化物薄膜(TCO)因其透光导电性能而广泛应用于电子信息、微波屏蔽等日常生活和国防科技等领域。其中锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜因......
针对脉冲激光法和升华法制备SiC薄膜时,沉积速率比较低、薄膜厚度不均匀等问题,本文采用真空直流磁控溅射技术,利用一种高含碳量的SiC......
由于拥有优异的磁性能,近年来,烧结钕铁硼材料已成为时下最热门的稀土永磁材料,被广泛应用于电子、医疗、航空航天等领域,但是其耐......
对于表面形状复杂的异形工件,在薄膜沉积过程中由于受到阴影效应的影响,将会造成薄膜厚度的不均匀以及表面性能和结构的差异,工件......
采用柱状靶多弧直流磁控溅射法,室温下在玻璃衬底上制备了CuN薄膜.用X射线衍射方法研究了不同氮气分压对CuN薄膜晶体结构及晶粒尺......
成本 低等诸多优点[1-2]而被认为是适用于平板显示领域最有前景的 TFT 技术.在过去十多年里,氧化物 TFT 的性能得到很大程度的地提......
Cr2AlC属于三元层状化合物MAX相,其兼具有金属和陶瓷的综合性能,如金属的导热、导电、可加工性,陶瓷的抗氧化性、耐磨性等。本研究利......
非晶合金由于没有晶态材料中常见的晶界、缺陷,宏观上表现为各向同性,具备很多晶体材料所不具备的物理和化学性质.非晶薄膜在理论......
近年来,随着显示技术的迅速发展,非晶氧化铟镓锌薄膜晶体管由于其较好的均匀性和高迁移率得到了广泛的应用.通常沉积IGZO薄膜技术......
近年来,由于氧化物薄膜晶体管(TFT)具有迁移率高、均匀性好、对可见光透明以及成本低等诸多优点广泛被应用于平板显示领域如有源矩......
Cr2AlC属于三元层状化合物MAX相,其兼具金属和陶瓷的综合性能,如金属的导热、导电、可加工性,陶瓷的抗氧化、耐腐蚀等性能,可以预......
使用直流磁控溅射技术制备氧化锌薄膜。用紫外可见分光光度计、原子力显微镜、X射线衍射等表征了氧化锌薄膜的光学性质和结构。使......
作者采用直流磁控溅射和后热处理的方法制备出了具有较纯超导相和高度C-轴织构的(CuT1)-1223超导薄膜。超导转变温度为101K。薄膜......
采用一种新的种子层材料:(NiFe)Cr,通过改变种子层中Cr原子的含量,使得在其上生长的NiFe/FeMn双层膜的织构和晶粒尺寸产生极大的差......
VOx films fabricated by direct currect (DC) magnetron sputtering using a high pure vanadium metal target (99.99%) are re......
采用直流磁控溅射的方法分别在普通玻璃与硅片上制备了氧化钒薄膜, 在大气及真空氛围下分别对样品采取了退火处理, 测量了退火前后......
采用直流反应磁控溅射的方法制备ZnO薄膜, 用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和紫外-可见光谱仪(UV-Vis)分别表征ZnO薄膜的晶体结......
用直流磁控溅射法在190 ℃玻璃基底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,利用荧光分光光度计研究了ITO薄膜的光致发光性能。结果表明,室温下IT......
采用直流磁控溅射法,结合氧化法热处理在硅基底上制备VO2薄膜,通过SEM、XRD、XPS、FTIR红外透射率等测试,从多角度分析了氧化热处理对......
本文介绍了采用直流磁控溅射方法在单面抛光Si基底上制备Nb薄膜,通过SEM,EDS,XRD的分析,探究了不同溅射功率薄膜的表面形貌和均匀......
单晶NbN薄膜在超导电子学的研究中有着诱人的应用前景,如制作SIS法,研究Josephson隧道效应等等.本文着重讨论了利用直流磁控溅射工......
本文用直流磁控溅射的方法制备了3个系列含有不同厚度的Co/W的双层膜.用铁磁共振和振动样品磁强计测量了Co/W双层膜的磁学性质.用......
非晶铟镓锌氧(Amorphous Indium Gallium Zinc Oxide,α-IGZO)薄膜具有迁移率高、均匀性好等特点,并且在可见光波长范围有较高的光......
在SiO2/Si衬底上采用直流磁控溅射沉积复合金属薄膜Pt/Ti作为电极,薄膜电导率高,结构致密且表面无空洞等缺陷;在Pt/Ti/SiO2/Si结构......
通过直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了一系列铝掺杂氧化锌透明导电薄膜,研究了氧气分压和衬底温度对铝掺杂氧化锌透明导电薄膜的......
为了在柔性不锈钢基底上构建一维纳米TiO2结构,提高柔性染料敏化太阳能电池的效率,本研究先采用直流磁控溅射的方法在不锈钢基底上......
本文主要采用直流反应磁控溅射的方法,在玻璃、石英及Si衬底上制备锐钛矿相TiO2薄膜,通过测量其晶体结构(XRD)、表面形貌(SEM、SPM)、......
在高温、高真空或高低温循环等苛刻条件下,液体润滑剂由于无法满足使用要求使润滑剂面临严峻的挑战。在这些环境中,固体润滑膜可以......
用MgB2靶,控制直流磁控溅射工作在异常辉光放电或弧光放电状态,在SrTiO3衬底上原位一次性得到了MgB2超导薄膜,其起始转变温度为32K,零......
纳米固体材料是由具有量子表面效应和体积效应的超微粒子构成的块状固体材料.是近年来出现的一个新的非常活跃的领域.本文介绍采......
Carbon nitride (CNx) and diamond-like carbon (DLC) coatings were prepared by dc magnetron sputtering at room temperature......
非结晶的公司 x C1 ? x 小粒的电影在 n-Si (100 ) 上被准备由 dc 磁控管劈啪作响的底层。磁性和磁致电阻(先生) 上的公司集中,电影......
采用直流磁控溅射技术制备TiAlCN薄膜,研究了直流电流对TiAlCN薄膜的薄膜成分、微观结构、机械性能和摩擦性能的影响.研究表明:随......
采用直流磁控溅射设备制备ZnO/Al复合非晶硅电池背电极,在实际生产线上研究对比了使用ZnO/Al复合背电极与Al背电极的非晶硅电池性......
论述了钇钡铜氧高温超导薄膜在大气中的不稳定性,对比二氧化硅,阐明了氮化硅薄膜作为保护层的优点,并报导了做潮湿实验前后的对比实验......
研究直流磁控溅射中溅射功率对TbFeCO磁光薄膜成分均匀性、厚度均匀性、克尔旋转角θk和矫顽力Hc的影响。实验结果表明对于全金属互化物相(100%IM)TbFeCo合......
室温下,用直流磁控反应溅射方法在 N2 / Ar 混合气体中淀积了 Al N 薄膜,所用衬底是(100)面的半绝缘 Ga As 单晶片.研究了反应条件,如反应气压、反应......
在室温下用直流磁控反应溅射的方法制备了AlN薄膜.用AES方法和XPS方法分析了AlN膜和AlN/GaAs界面.在AlN/GaAs界面发现了O—Al键,没有发现O—Ga键或O—As键.本文通过实验证明,AlN/GaAs界......
在玻璃基底和四种硅基底上用反应式直流磁控溅射法制备了ZnO薄膜.用AES和XRD对薄膜结构和组分进行测试,结果表明,五种基底上生长的ZnO......
对不同氧流量下用直流磁控溅射法制备的ITO薄膜进行退火处理,并对退火后ITO薄膜的光电特性进行分析.结果表明,N2气氛下退火可以改善IT......
本文研究了磁光盘生产中 Ar气压强对直流磁控溅射 Tb Fe Co磁光薄膜均匀性的影响 ,通过调整溅射气压来提高薄膜的厚度均匀性和成分......
研究了用直流磁控溅射技术在 80~ 1 40目的镍基合金微粒表面包覆 1 0μm左右的金属铬膜的方法 ,讨论了工艺的影响和膜的性能 ,指出......
采用在硅上磁控溅射金属钛膜再热氧化的工艺制备了多晶氧化钛薄膜 .测量了 Ag/ Ti Ox/ Si/ Ag电容器的 I-V和 C- V特性 .结果表明 ......
一、前言随着工业、特别是航天、航空、国防等工业的发展,对材料提出的要求越来越多,越来越高,仅靠研制新材料是不可能满足的。表......