溅射相关论文
采用磁控溅射技术在载玻片上制备了钨铜薄膜,研究了薄膜的结构与性能.结果 表明,薄膜的沉积速率和铜含量随铜靶电流的增大而升高,......
复杂的表面微结构在自然界中普遍存在,它们赋予生物组织优异的物化功能.受此启发,各类仿生结构在工程领域(如微机电系统、能源材料......
高电荷态离子（Highly Charged Ion HCI）是核电荷数较高同时外壳层电子被大量剥离的离子。高电荷态离子的研究对天体物理、量子色动力......
目前关于三元硫族化合物Ag Bi S2的研究报道仍然不多,但是在其基础理论计算研究、实验室合成制备以及各方面的应用上或多或少都能......
本文包含两方面的研究内容:1.低能离子辐照植物的剂量-效应曲线拟合和马鞍型剂量-效应产生机制;2.低能离子在生物靶表面的溅射效应......
学位
用射频磁控溅射制备了Ge-SiO薄膜.在N的保护下对薄膜进行了不同温度的退火处理.使用X射线衍射谱(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)分析......
采用射频磁控溅射的方法在硅衬底上生长出高质量的MgZnO薄膜.用X射线(XRD)、原子力显微镜(AFM)分别研究了在200、400、600和800℃......
通过硒化溅射CuInGa 合金靶得到的CIG 合金预制膜是一种制备结晶性良好的CuInGaSe2 吸收层的方法。这种方法能够保证薄膜大面积的......
硒化锑(Sb2Se3)凭借原材料绿色低毒、价格低廉、一维结构贡献良性晶界、二元单相组成易于制备、理想带隙匹配高吸光系数、优异的载......
会议
采用射频磁控溅射方法制备Ni/SiO纳米复合涂层,获得了镍成分为7.25﹪(at)(LNi)、13.96﹪(at)(MNi)、19.20﹪(at)(HNi)3种复合涂层,研究了......
具有宽发光波段的荧光材料在照明、光通讯等许多技术领域均发挥着关键作用。众所周知,由过渡金属离子的d-d 跃迁或稀土离子的d-f ......
平面型有机/无机混合金属卤化物钙钛矿太阳电池由于其制备工艺简单及开路电压高等特点引起了广泛的关注[1].溅射法制备致密二氧化......
会议
该文采用倒筒式直流溅射(ICS)方法，辐射方式加热基片，通过电机带动旋转基自在 基片两面同时溅射沉积YBCO高温超导双面薄膜。在加热温......
本论文采用双离子束溅射沉积技术制备了非晶的Si-SiO2薄膜,XPS的测试表明Si是以单原子或低价氧化物的形态存在于薄膜内;在波长为24......
本文描述SOI材料制备工序中,注氧机对SOI材料在离子注入过程中产生粒子污染,影响其顶层硅的性能,结合SIMS测试和ICP-ABS测试的结果......
溅射技术现已应用于印制电路板工业中.已有溅射/电镀法制备的二层型挠性覆铜板产品问世.溅射技术还可制备半加成法中的铜籽晶层.作......
利用飞行时间谱仪(TOF)技术测量了1～ 5MeV Si离子轰击SiO产生的Si能谱和溅射产额.发现在1～2MeV时SiO的溅射过程可以利用核溅射理论来......
Cu和O都无毒性且在地球上储量丰富,铜的氧化物有Cu2O和CuO,它们都是p型半导体[1-4].Cu2O具有直接带隙,其带宽约为2.0eV,Cu2O还具有......
Intrinsic zinc oxide films, normally deposited by radio frequency (RF) sputtering, are fabricated by direct current (DC)......
Antistatic and antireflection (ASAR) coating using indium tin oxide (ITO) by magnetron reactive sputtering (MRS) techniq......
钼金属具有熔点高、导电导热性好、热膨胀系数低、耐腐蚀性能强及环境友好等优点,利用钼金属加工制备的溅射靶材已广泛应用于电子......
氧化亚铜(Cu2O)薄膜在太阳能电池及其它光电器件上有重要应用,它具有无毒、制备成本低、材料广泛易得等优点。制备Cu2O薄膜的方法......
用转矩磁强计和磁秤研究了直流溅射RFe_2(R: La,Ce,Pr,Nd,Sm,MM)非晶薄膜的饱和磁化强度M_s和平行膜面的单轴磁各向异性K_u的温度......
用从Nd:YAG激光器发出的波长532nm的激光(能量约为10mJ/pulse)溅射由BN、ZrN粉末分别压成的直径13mm、厚度约2～5mm的固体压片样品,......
采用辉光放电质谱法(GDMS)对高纯铟中铁、铜、铅、锌、铊、镉、锡等14种元素进行了测定,对仪器工作参数进行了优化,对预溅射过程时......
本文提出了一种利用硅橡胶模板对二氧化硅纳米粒子进行图形化组装的方法.首先,采用浇筑法制备了硅橡胶基底并通过激光打标机加工制......
本文对溅射二硫化钼(MoS_2)膜和聚四氟乙烯(PTFE)膜在边界润滑条件下的摩擦学性能进行了研究。结果表明,与未镀膜的轴承钢相比,这......
利用脉冲激光沉积法在真空条件下生长的氧化物薄膜通常存在氧元素缺失现象.在以往研究中,上述氧元素缺失的原因被归结于等离子体中......
本文介绍了 RF溅射制备湿度敏感膜技术 ,讨论了衬底温度、工作气体及压力、放电电压及时间对湿敏膜感湿特性的影响。实验结果表明 ......
如何将各种材料镀制成所需要的薄膜,这是镀膜技术和薄膜光学的基本问题之一。所谓镀膜工艺主要指蒸镀技术和监控方法。下面着重介......
本文通过倒筒式直流对靶溅射 (ICP)方法 ,在 3英寸范围内LaAlO3 和蓝宝石 (Al2 O3 )单晶基片上成功实现了两面同时沉积YBCO(YBa2 C......
在现代大型薄膜连续生产线中 ,其生产效率主要受以下两因数的影响 :溅射器的沉积速率和靶材的使用周期。本实验研制了一种圆筒形靶......
一、前言用物理气相沉积的方法,在工模具表面镀覆一层超硬的金属陶瓷薄膜(如 TiN,TiCAl_2O_3等),可以成倍的提高工模具的寿命,还......
采用具有不同体积百分数N_2气的Ar溅射气体作磁控溅射,可获得SiC膜沉积层。研究了沉积膜的化学组分、质量和导电性能,结果为沉积......
采用电化学方法并结合物相分析技术研究了溅射CoCrAlY涂层对Ni_3Al金属间化合物热腐蚀抗力的影响。结果表明,Ni_3Al金属间化合物的......
对新型渗硼剂Ｂ（Ｃ２Ｈ５）３的渗硼工艺进行了研究。结果表明：在正常渗硼工艺条件下，基体表面没有形成连续致密的渗硼层，而是形成了一层数μｍ厚的硼碳......
对各种铝合金(2017,7075,6082,5754,5083,360.0)进行离子渗氮,研究化学成分及工艺参数对形成氮化铝层的关系。通过对简单和较复杂......
以工业纯铁表面形成Fe-11W-7Mo-23Co型合金为例,阐述了双层辉光离子多元共渗的源极成分设计思路。通过对工业纯铁表面进行W、Mo、C......
高频溅射技术原理是在真空中充以惰性气体氩 ,在高压电场的作用下 ,氩气电离使阴极与阳极间产生辉光放电 ,经磁场作用增强等离子体......
溅射镀膜是一种把薄的金属沉积层夹在两层有机膜之间的工艺溅射镀膜是一种特殊的精饰工艺.它能赋予塑料部件以金属的外表,增加消......
ＭＣｒＡｌＸ涂层是一种性能优良的高温合金保护涂层，目前常用磁控溅射的方法获得。然而这类涂层内常出现尺寸粗大的锥状鼓胞，致使涂层性能下降。......
