工作气压相关论文
对于表面形状复杂的异形工件,在薄膜沉积过程中由于受到阴影效应的影响,将会造成薄膜厚度的不均匀以及表面性能和结构的差异,工件......
高速铁路在世界各国范围内建成和运行的同时,作为快捷、舒适、节能交通工具,超高速列车将成为轨道交通的下一个发展方向。而随着列......
用离子氮化处理的方法，在LD-75型离子热处理炉上对H13钢试样进行处理，研究了不同压力对离子渗氮层相组成及耐磨性能的影响。通过X射......
本文研究了利用中频脉冲磁控溅射法和Zn:Al合金靶反应溅射制备ZnO:Al透明导电膜时,工作气压、靶电压、O/Ar、本底真空度等参数对材......
本方法是利用根据钢铁研究院的“动态平衡式空心阴极光源”组装的光源装置,在中型水晶摄谱仪上进行氧化钨(WO_3)中微量磷的测定。......
本文介绍了一种适用于ＣＯ＿２激光器的气体循环控制系统。该系统所采用的可编程序控制方法和系统结构不仅能够精确地控制激光器的工作气压......
本文报导了用ＳＦ＿６＋Ｎ＿２混合气体反应离子刻蚀Ｓｉ及其剖面的实验结果，研究了在刻蚀时，混合气体的成份和射频功率密度对Ｓｉ的蚀速影响以及Ｓｉ的负载效应，通......
本文依据金属的索未菲自由电子模型的量子统计理论结果，对提高考夫曼型离子源束流密度进行了研究，取得了一些有价值的结果。
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理论计算了氩离子束溅射Y－Ba－CU－O靶的组分原子溅射率，得出了溅射过程中存在Cu原子溅射率偏低的“择优溅射”效应。通过分析原位形成高......
自Liu和Cohn的理论研究预测可能存在一种硬度可与金刚石相比的氯化碳（－C。N4）材料以来，科技工作者采用各种技术、方法试图合成这种材料......
通过求解量子系统的密度矩阵方程，采用迭代法计算了光泵腔式ＮＨ３分子远红外激光的输出功率密度。在此基础上，对光泵腔式远红外激光的工作......
采用半经典密度矩阵理论并运用迭代法对小型光泵腔式ＮＨ＿３分子亚毫米波激光器的工作气压、输入输出网栅的功率反射系数等工作参数进行了......
利用射频磁控反应溅射法，以Ar、CH4为原料气体，在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1－x薄膜，研究了极板间距对沉积的影响。结果表明，随......
1978年与1980年,美国海军实验室提出了用CWCO_2激光激发甲烷中的含氘成分而直接从甲烷中富集氘的设想。这种方法可以省去介质回收......
生产油泵油咀精密偶件要求有很高的加工精度和表面光洁度,对刀具质量也就有较高的要求。刀具质量稍有降低即不能使用,或使用寿命......
在普通离子氮化过程中,零件小孔、窄槽的内部常常会产生氮化不上、辉光集中和弧光放电三个问题。国内外一些离子氮化工作者把这些......
介绍了在辉光离子渗金属技术中,引入阴极电弧源,对普通碳钢(10、60)和T_(12)钢进行离子渗钛的结果。探讨了工艺参数与渗层厚度的关......
采用室温直流磁控溅射Fe-Si组合靶的方法,经过后续Ar气氛围退火,在单晶Si（111）衬底上生长β-FeSi2薄膜。研究了溅射功率、工作气压、......
中国人民解放軍第七四二四工厂在党的“九大”和九届二中全会精神鼓舞下,发揚了“一不怕苦,二不怕死”的革命精神,經过30多天的奋......
五空气弹簧的特性参数 1.有效面积A_E和负荷F关系有效面积A_E是空气弹簧上作用
Five air spring characteristics of the parame......
采用电弧离子镀工艺制备CrAlSiN 薄膜，研究了不通氮气流量下薄膜微观形貌、组织结构以及薄膜性能的变化。采用扫描电子显微镜、......
西德 KaVo 公司七十年代生产的气涡轮牙钻机,转速高,切削力大,颇受医疗单位欢迎。但经过多年使用后,机器自然磨损,转速下降,切削......
为提高效率,减少各牙科综合治疗机单机压缩机的损耗,避免口腔科治疗室因压缩机运转产生的噪音,我们采用3W—0.8/10型压缩机对15台......
介绍了运用计算机模拟方法,对DHD-340和DHD-360等,无阀气动冲击器动态特性进行的究研。寻求各结构设计参数间的匹配关系,及其对冲......
应用ＨＣＤ法在Ｃｒ１２ＭｏＶ试件上镀制了超硬ＴｉＮ膜层，并进行了与特定冲压拉深凹模工作条件相同或相近的磨损、摩擦和硬度测定试验，分析了膜层的显微结构和......
选用Ni_(65)Co_(35)合金靶材，利用射频磁控溅射的方法成膜，采用四探针法测量磁电阻率，分别研究了溅射工艺参数（工作气压、偏压、功率、......
系统地研究了射频磁控反应溅射中工艺参数对ＧｅＸＣ１－Ｘ薄膜沉积速率的影响。结果表明，当气体流量比超过某值后，沉积速率有较大的下降。沉积速率......
用溅射方法制备了几批Co／Cu多层膜和夹层膜样品，通过测试发现：Co／Cu多层膜样品的巨磁电阻与制备条件有关。在较高本底真空和较低工作气......
本文研究了稀土元素对离子渗氮层的影响。结果表明、稀土元素对离子渗氮具有很强的催渗作用,5Cr21Mn9Ni4N不锈钢和38CrMoAl钢用加......
本文从理论上分析了双层辉光离子渗金属的溅射问题及渗入机理，提出了四种渗入模型。
In this paper, the sputtering problem and ......
本文采用双层辉光离子渗金属技术进行了普通碳钢的镍铬共渗研究。选择源极电压,工作气压,阴极电压,极间距等工艺参数为因子进行了......
通过对１０钢加弧辉光离子渗铝、渗钛试样的测定，定义试样背面渗层厚度Ｄｂ．与正面渗层厚度Ｄｆ的比值Ｒ＝Ｄｂ／Ｄｆ为绕射性的定量表示，研究了工件负偏压、工作......
分析了双层辉光离子渗金属生产过程中的主要工艺参数及其影响．结果表明，源极表面放电功率是影响渗层质量的主要因素．井进行了实验验证......
辉光放电钎焊是一种真空钎焊，本文利用可编程控制器对加热温度曲线进行了闭环控制，保证了控温精度，提高了钎焊接头质量。
Glow disch......
室温下,采用射频磁控溅射法在玻璃和聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)上沉积了掺铝的氧化锌(ZnO:Al,AZO)透......
利用射频磁控溅射的方法,在不同的工作气压(0.2Pa～4.0Pa)下,制备了一系列的本征TiO2薄膜。在2～340K的绝对温度下,测得所有制备态的本......
用ＲＦ磁控放电方法以纯金属钛做靶材在氩氧混合气体中制备了ＴｉＯ２薄膜，Ｒａｍａｎ光谱测量表明，在２Ｐａ工作气压下制备的ＴｉＯ２薄膜为锐钛矿结构，而在０２Ｐａ工作气压下制......
本文探讨了用平面磁控溅射法制备ＴｉＯ２薄膜．研究了ＴｉＯ２薄膜结构随溅射条件（衬底温度、氧分压、工作气压）的变化．用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）测薄膜结构，用Ｘ射线光电......
目前,在半导体工业中,干刻蚀占所有刻蚀方法中的20%,其余为湿化学刻蚀方法。然而,湿化学方法已经达到了其极限,因此,在十年内,上......
本文报道了ESi_x在SF_6-Ar、SF_6-N_2混合气中的反应离子刻蚀(RIE)的实验结果。研究了在SF_6-N_2的混合气中刻蚀WSi_x时,气体成分......
