电子回旋共振相关论文
随着科技发展的需要,人们对传感器应用方面的要求越来越高,高灵敏、低成本、易制造的传感器成为研究者努力克服的壁垒。其中石墨烯......
光电传感器作为工业机器的神经元部件,在高速非接触式信息采集和系统响应处理中地位举足轻重。光电类传感器的研究伴随新材料的发......
电子回旋共振放电产生的等离子体在微电子工业中材料加工、空间电推进方面有着广泛的应用。为了研究微波等离子体电子回旋共振的放......
本文介绍各种类型ＥＣＲ等离子体源和工艺研究，以及由此发展形成的几种新型刻蚀技术。
This article describes the various types of EC......
技术的革新使科学家能够以不断增加的步速,从试验、仿真及观测中收集数据,数据容量已从近来的十亿字节、千兆字节,达到现在的万亿......
随着机械工程技术的发展,人们对自动控制过程中的精度要求与速度要求越来越高,而光电传感器具备非接触、可靠性高、高精度、反应快......
该文简要描述了一台频率为2.45 GHz 的电子回旋共振(ECR)等离子体源的特性测试，表明放电室内的等离子体密度和电子温度与静态磁场、......
量子点结构的生长与特性的研究是一项具有重要理论意义和应用价值的课题.近年来,自组装量子点的生长与研究越来越受重视,而自组装......
随着纳米工程技术的发展，通过控制原子键合实现特定纳米结构与形貌的表面制造成为研究热点。在电子回旋共振（ECR）等离子体中，电子的运......
等离子体表面改性技术有许多优异的性能，具有广泛的工业应用前景。本论文对各种表面改性方法的优缺点进行了较详细的论述，同时使用微......
多晶硅(Poly-Si)薄膜以其优异的光电性能与较低的制备成本,在能源信息产业中日益成为一种非常重要的电子材料,在大规模集成电路和......
实验上研究He在金属中的行为时,常用He离子注入的方法获得含He样品,然而常规He注入的方法存在注入损伤和He分布局域化、不均匀等问......
采用自洽微波功率吸收的二维混合模型,对电子回旋共振等离子体源中的各种物理参量(电离速率、等离子体密度、位势、电子温度)进行......
为粒子加速器提供束流的装置称为注入器.提供的束流能量低于100 keV,流强在mA量级的注入器被定义为低能强流(LEHC)注入器.该种注入......
采用自行设计和加工的微波电子回旋共振装置、进气系统和工艺程序,以三甲基铝为前躯体,氧气为氧化剂,HF处理过的单晶硅片为基片,在......
目的研究在电子回旋共振等离子体辅助法生长GaN时的离子密度对其质量的影响. 方法用朗缪尔探针测量离子密度,用X射线双晶衍射及霍......
根据研制分离作用RFQ和升级改造1MeV ISR RFQ的需要,设计了一台ECR O~+离子源及低能输运(LEBT)系统.低能输运系统使用2个静电透镜......
以C4F8为源气体,Ar为稀释气体,用电子回旋共振化学汽相淀积的方法制作了非晶氟化碳薄膜;使用XPS和FTIR分析薄膜的化学组分和成键类......
研制成功了一台新的高电荷态ECR离子源,该离子源主要为原子物理实验提供各种高电荷态离子束流,是基于中国科学院近代物理研究所14.......
为了经济地考验空间电离层等离子体对处于其中的飞行器表面的作用，需要在地面建立等离子体环境模拟器。本文就是为空间电离层环境模......
针对ECR大面积磁场的模拟和设计.在了解ECR磁场的构成的基础上,通过模型推理和实测修正得到小磁块的场强分布函数,进而得到叠加磁......
提出了一种生长p-Si薄膜的ECR-PECVD等离子体系统。系统采用永磁铁和线圈相结合，改善反应室磁场的均匀性；微波窗口设计成多层结构．避......
电子回旋共振离子推力器（ECRIT）属于静电型推力器，其工作原理是利用微波能和圆台型放电室内永磁体环产生的外加磁场产生高电离度的电......
在真空环境下，用采集板模拟离子作用将电子束从ECR中和器中引出，实验研究ECR中和器结构以及工作参数对引出电子束流和中和器性能的影......
电子回旋共振离子推力器作为静电式电推力器的一种，具有高比冲、低推力的特点，目前已被应用于深空探测器的主推进系统。变推力电子回......
介绍了新型电子回旋共振（EcR）低温等离子体技术以及其工业主要用途，电子回旋共振等离子体通过电子回旋共振吸收微波能量来产生高密度......
介绍了电子回旋共振(ECR)波的传播与吸收的数值求解方法.通过数学变换,消除积分的奇异性,有效地解决了指数积分数值计算困难,用数......
为改善DLC膜的内应力及导热问题,采用ECR微波等离子体化学气相沉积及中频磁控溅射的方法制备掺Cu类金刚石膜,研究溅射电流对薄膜中......
综述了制备深亚微米/纳米CMOS器件的离子蚀刻新技术:考夫曼(Kaufman)离子铣蚀刻、氟基气体多晶硅蚀刻、氯基或溴基气体硅深蚀刻、......
C4F8和CH4为源气体，采用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积（ECR-CVD）方法，在不同气体混合比条件下沉积了非晶氟化碳（a-C：F）薄膜低k层间介......
电子回旋共振离子推力器是一种无阴极静电型推进装置,具有比冲高、无电极烧蚀和寿命长的优点,可用于深空探测和长寿命卫星。在其放......
介绍了HL-2A装置电子回旋共振加热系统打火保护装置的改进.在改进设计过程中,实测了2类光电转换模块、4种型号的运算放大器芯片,定......
文章介绍了ECR离子源的发展历史和一般原理;给出了它产生高电荷态离子所必须的工作条件;着重讨论了磁场对源内等离子体性能的影响......
文章着重介绍了最近研制出的高质量宽带隙立方氮化硼薄膜的三种制备方法和结构特性:(1)用射频溅射法在Si衬底上制备出立方相含量在......
电子回旋共振离子推力器是一种静电式离子推力器,具有无电极烧蚀、比冲高、寿命长等优点,在未来的深空探测上具有广泛的应用前景。......
为了降低a—Si：H薄膜中的氢含量，提高其稳定性，在我们MWECR—CVD系统中引入了热丝装置，热丝对等离子体的热辐射使等离子体升温，既促进了......
用微波ECR等离子体源离子注入(PSII)法,在硅片(100)上制备了类金刚石(DLC)薄膜,工作气体采用CH4气体,研究了不同的气体流量对薄膜......
用电子回旋共振（ECR）等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮（LiPON）薄膜．X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见......
电子回旋共振微波等离子体技术（ECR－MP）在表面处理，等离子体刻蚀和薄膜制备，尤其是高品质的激光惯性约束聚变薄膜靶的制备中有着重要的......
分别应用郎缪尔双探针和离子灵敏探针对非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体的电子参数、空间分布和离子参数进行了测量,分析了气......
利用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,以SiH4和N2为反应气体进行了氮化硅钝化薄膜的低温沉积技术的研究.采用原子......
本文在低温下利用ECR-CVD技术沉积SiO2薄膜,讨论了沉积速率和薄膜折射率随工艺条件变化的关系.直径6英寸片内均匀性达到96%,重复性......
用电子回旋共振等离子体进行了硅基材料的刻蚀技术研究,进行了沟槽刻蚀实验,得到了较为陡直的侧壁.制作了精细图形,等离子体损伤较......
用修正后的漂移理论研究了电子回旋共振现象,从回旋共振分析求得了表征弛豫过程的横向和纵向弛像时间τ1和τ2,并指出了τ1和τ2所......
对电子回旋共振等离子体中使用的电子能量分析器实验曲线偏离理想情况的几种现象进行了讨论,并提出了相应的修正和拟合的方法.......
