中频磁控溅射相关论文
在严苛海洋环境下,传统单一的Ti掺杂类金刚石薄膜(DLC)无法满足减摩耐磨及耐腐蚀性能的要求,仍需进一步探索。为促进DLC薄膜在严苛海洋......
乳化液泵作为煤矿机械中的常用设备,是一种能把机械能转化为液压能的能量转换装置,它的正常运行是煤矿安全生产的一个关键因素。由......
3D显示技术自问世以来就一直备受关注,并且逐步融入人们的生活。发展至今,3D技术在影视娱乐、医学影像、智能驾驶等多个领域的应用......
本文利用中频脉冲磁控溅射方法,采用重量2﹪的Al掺杂Zn(纯度99.99﹪)为靶材制备平面透明导电ZnO:Al薄膜,利用湿法腐蚀方法,将平面ZAO薄......
铝合金已经被广泛应用于纺织机械.为了提高耐磨性,铝合金表面微弧氧化(MAO)是一种非常有效的方法.通过合适的溶液配方和电参数调节......
采用Ti 靶电弧离子镀与Al 靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,在不锈钢基体上制备了TiAlN 薄膜样品。并与电弧离子镀制备的TiN 薄膜在......
利用中频磁控溅射方法,在(111)硅片上制备了CrN、CrTiN和CrCN薄膜.采用X射线衍射(XRD)分析显示:CrN薄膜呈现比较随机的取向,而CrTi......
采用中频磁控溅射技术,使用N2和Ar混合气体作为反应气体,分别溅射硼靶和石墨靶,在单晶硅衬底上制备了BCN薄膜.利用傅立叶变换红外......
本文利用中频磁控溅射方法制备ZnO:Al(ZAO)透明导电薄膜,研究了溅射功率对ZAO薄膜电学、光学以及绒面表面形貌的影响,获得了适合太......
本文提出在铝合金微弧氧化涂层表面中频磁控放电沉积Cr-DLC,以期获得高耐磨、低摩擦系数的高利用率的硬质薄膜。由于金属氧化......
采用中频磁控溅射方法,在氧化铟(ITO)玻璃上采用氧化钨(WO3)陶瓷靶沉积薄膜,研究溅射气压对WO3薄膜结构与光学性能的影响规律,并对......
采用中频磁控溅射法制备了镱铒共掺Al2O3薄膜,铒镱掺杂浓度分别为0.3%,3.6%(摩尔分数,全文同).讨论了三价铒离子529 nm和549 nm光......
采用中频磁控溅射技术,以W、Al复合靶(面积比为1∶1)为靶材,在氩气和甲烷混合气体中于n(100)型单晶硅表面沉积了一系列Al、W共掺杂......
利用中频磁控溅射方法沉积制备了掺铒Al2O3薄膜,室温下测量了薄膜在1535nm波长处的光致发光光谱和抽运功率、掺铒浓度、退火温度对......
用中频磁控溅射方法(MFS)在SiO2/Si基底上制备了五组固定掺铒浓度不同镱铒浓度比率的镱铒共掺Al2O3薄膜样品。优化了实验参数,扫描电......
随着近几年光伏产业的迅速发展,如何增加太阳电池生产的安全性和减少太阳电池生产过程中的污染和耗能逐渐成为人们研究的课题之一。......
利用中频磁控溅射技术制备了Ti-Si-C三元碳基纳米复合薄膜,考察了沉积条件对薄膜微结构、组成和性能的影响,研究了薄膜微观结构与薄......
主要研究了孪生磁控溅射技术制备不同含氮量的CrNx涂层,以及N2流量对涂层组织、结构性能、耐腐蚀性能的影响.试验设备采用自行研制......
由于膜基附着力不好,膜层脱落问题是工业生产中磁控溅射镀制黑膜最常见的问题。本实验采用阳极线性离子源和霍尔点源辅助磁控溅射......
使用中频磁控溅射方法进行正交实验,在Si基底上沉积非晶硅薄膜。利用n&k测试、拉曼光谱和XPS等方法表征,研究工作气压、电流、衬底......
利用中频磁控溅射法在普通玻璃衬底上沉积掺铝氧化锌(ZnO ∶ Al,简称AZO)薄膜,通过调整溅射功率密度参数得到沉积速率与功率密度之......
采用Ti靶电弧离子镀与Al靶中频磁控溅射相结合的复合工艺,分别在单晶硅抛光面和高速钢抛光面两种基体上成功地制备了TiAlN薄膜样品......
设计了-套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置,并在Si(111)衬底上沉积AIN薄膜.用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AIN薄膜......
采用中频磁控溅射结合无灯丝离子源技术沉积梯度Cr/CrN/CrNC/CrC膜层,设计两组正交实验对膜层中界面Cr层及梯度层沉积的工艺参数对......
采用新型中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2/Zr复合薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)......
以甲烷为先驱气体通过中频磁控溅射Ti80Si20靶材在硅和不锈钢基底上制备TiSi-C:H薄膜,研究了甲烷流量对薄膜沉积速率、结构、力学和......
采用中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2-Zr复合薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)......
用中频磁控溅射制备了钛酸锶钡Ba0.6Sr0.4TiO3(简称MF-BST)薄膜,并对该薄膜进行原位晶化。XPS表明,MF-BST薄膜的表面成分Ba0.58Sr0.42Ti......
采用SP0806AS中频磁控溅射镀膜机,在硅(100)和高速钢基体上,采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜。研究表明,在功率为5~7kW下薄......
以常见的几种高速钢和硬质合金为基体材料,运用有限元软件分析了基体表面MoS2软涂层的残余热应力。结果表明:高速钢表面涂层的最大残......
采用中频磁控溅射结合离子源技术沉积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC膜层。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)、Raman光谱和俄歇深层剥层分别对膜......
采用LABVIEW软件控制N2气体流量,辅助中频磁控溅射制备不同占空比的(Al,Ti)N周期性多层膜,分别利用x射线衍射仪、场发射扫描电镜、纳米......
为改善DLC膜的内应力及导热问题,采用ECR微波等离子体化学气相沉积及中频磁控溅射的方法制备掺Cu类金刚石膜,研究溅射电流对薄膜中......
用中频磁控溅射工艺分别制备了掺铒Al2O3薄膜和镱铒共掺Al2O3薄膜,室温下测量了它们的光致发光特性.结果表明:镱铒共掺Al2O3薄膜光......
采用中频磁控溅射法在玻璃基体上制备Al掺杂ZnO薄膜(AZO),分别利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、分光光度......
介绍了等离子体磁控溅射原理和矩形磁控靶,探讨了几种新型等离子体非平衡磁控溅射技术,其中包括脉冲磁控溅射和离子辅助溅射,重点分析......
太阳能集热器是太阳能热水器的核心部件,平板集热器可以作为建筑材料与建筑完美融合,满足城市对太阳能的利用与建筑一体化的要求.......
采用中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2-Zr复合薄膜。观察了MoS2-Zr复合薄膜表面......
使用中频磁控溅射法制备了具有光学减反射与电学钝化的复合功能的氮化硅(SiNx)薄膜,并对其结构和性能进行了综合研究。结果表明:在常......
用热丝弧光放电离子源辅助的中频磁控溅射装置在单晶硅和渗氮钢质活塞环上沉积CrN涂层,并用X射线衍射、原子力显微镜和电子显微镜......
采用中频磁控溅射和多弧离子镀相结合的工艺在M2高速钢麻花钻表面沉积制备了MoS2/Zr复合涂层,考察了复合涂层的表面形貌及力学性能......
作为红外窗口的保护层,含氢非晶碳膜(a-C:H)是薄膜材料研究的热点。本文利用中频非平衡磁控溅射技术,以氩气和甲烷混合气体为工作气体......
用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性......
采用中频磁控溅射技术在单晶硅表面制备含铝类金刚石(Al-DLC)薄膜,利用原子力显微镜、X射线光电子能谱仪、红外光谱仪、纳米压痕仪和......
刀具表面涂覆MoS2固体润滑涂层能够降低刀具在切削过程中的摩擦力,改善切削工况,然而存在涂层硬度低、高温下性能衰减快等缺陷。文中......
ZnO:Al(ZAO)薄膜的光学、电学以及结构特性与衬底温度有关,以掺杂质量2%Al的Zn(纯度99.99%)金属材料做靶,采用中频磁控溅射技术研究衬底温度......
设计了一套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置,并在Si(111)衬底上沉积AIN薄膜。用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AIN薄膜的......