离子束刻蚀相关论文
为了提高窄带滤光膜的有效镀膜面积，用电子束与离子辅助沉积技术制备了大尺寸光通信滤光膜。利用离子束刻蚀原理修正膜层均匀性，研究......
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性，用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性，用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度，并研究不同离子束......
作为X射线波段的一种重要色散元件,金透射光栅主要用于激光惯性约束核聚变（ICF）实验中的等离子体诊断,以及X射线天体物理研究的高能......
高效率的太阳能电池是太空工作站、空间卫星、临近空间飞艇、长航时太阳能侦察飞机等航天飞行器主要能源的提供者。随着国家太空战......
根据由离子束刻蚀HgCdTe pn结C-V曲线,判定其为线性缓变结;由1C3-V曲线斜率可知杂质浓度分布梯度。利用泊松方程(零偏压时耗尽层宽......
红外高光谱的应用对于微型集成滤光片的需求越来越明显。通过改变间隔层的光学厚度，保持基本膜系不变，在1.9～2.4 μm 的红外光谱范围......
基于严格耦合波分析,研究凸面闪耀光栅的衍射特性;采用全息光刻-离子束刻蚀法制作中心周期为2.45μm、曲率半径为51.64 mm、口径为......
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40 eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅，即300，600和1200 ......
基于耦合模理论，利用数值解法对啁啾光纤光栅特性进了全面的分析，并利用柱面镜全息曝光干涉法制作啁啾光纤光栅图形，和反应离子束刻蚀......
光刻胶作为离子束刻蚀的掩膜已得到了普遍采用，由于它在受到离子束轰击时会发热收缩、不利于刻蚀线条高宽比的提高，限制了它的进一步......
采用Kaufman离子源刻蚀微透镜列阵并采用实时检测系统对刻蚀深度进行了控制。提出了测量微透镜列阵衍射效率的一种方法。对测量误......
从理论上研究了波导耦合型刻蚀光纤布拉格反射器的特性。采用正交模式耦合理论描述其中的光栅辅助正反向模式耦合，用非正交模式耦合......
发展了用于实现ＩＣＦ靶面均匀照明的大口径连续型位相元件设计的新方法，并且在工艺上进行了初步试制。等厚干涉图显示达到了预期的大口径......
针对超精细加工的技术要求,叙述了离子加工应用技术的发展概况、各型号离子束刻蚀机的性能及使用效果,阐述了离子镀膜的基本原理与......
本文介绍了光刻和离子束刻蚀的相关知识，并探索了正胶S1813的光刻条件和Ar+离子束刻蚀的工艺条件，并用摸索出的条件制备了高温超导约......
电控液晶微透镜是一种新型光学元器件,集电调焦、电摆焦和可执行若干特殊成像功能于一体。通常情况下,电控液晶微透镜的金属或金属......
聚苯乙烯纳米球作为新型纳米材料的骨架和模板,其研究和应用引起了人们的广泛关注。基于聚苯乙烯纳米球已经成功制备出核壳结构纳......
采用高分辨率成像光谱仪对CO2等温室气体浓度的监测已逐渐成为各国研究的重点,高效率浸没光栅是高分辨率成像光谱仪的关键元件,因......
相对与传统的体硅材料而言Si纳米线、Si纳米锥、多孔硅等Si纳米材料具有表面效应、量子尺寸效应、量子隧道效应等特性,表现出独特......
用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成布拉格－菲涅耳元件所需的波带片图形，通过离子束刻蚀方法将波带片图形转写到多层膜上......
研究了衍射强度均匀分布的二元位相光栅的设计原理，利用微电子工艺加工了１６个衍射点强度均匀分布的二元位相光栅，并给出了实验结果。
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在点衍射干涉仪中小孔掩模的主要作用是通过衍射产生接近理想的球面波用于干涉测量,其直径、圆度及三维形貌对测量精度有决定性影......
针对蓝宝石有序纳米结构的制备,使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar＋离子束在不同参数下刻蚀蓝宝石（C向）表面形成的自组织纳米结构......
对用不同方法制备的软Ｘ光激光实验用的Ａｌ衰减膜样品，用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）结合氩离子束刻蚀进行了组分的表面和深度分布分析，结果表明表面氧化层主......
通过对多台阶衍射光学元件（MDOE）刻蚀工艺中的误差分析,提出了一个反映整体刻蚀误差的参数——误差偏度。重点研究了误差偏度的变化......
随着纳米技术的飞速发展，小型化和微型化也已成为艺术创作的一种时尚。以雕塑为例，英国当代微雕大师威拉德借助显微镜，在针眼里成功雕......
本文对用于惯性约束聚变中的莫尔光栅、自支撑金透射光栅和多层介质膜脉宽压缩光栅的制作工艺进行了较为系统的研究,而用于惯性约......
本论文主要包括三方面的工作,钛酸锶（SrTiO3,以下简称STO）的光致发光,STO的光催化性能,以及硅纳米点阵在HF酸电化学腐蚀形成Si纳米柱......
在高功率固体激光装置中,熔石英光学元件有着大量的应用。为了提升熔石英的透光性,往往会在熔石英表面镀制增透膜,但这些光学膜层......
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步......
建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型 ,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程。通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射......
从标量衍射理论出发,在傅立叶光学的基础上,建立一个数学模型,分析台阶侧壁倾斜对多阶菲涅耳透镜衍射效率的影响.并通过实验,分析......
球面闪耀光栅是国家同步辐射实验室光化学光束线中1米Seya-Namioka单色仪中最重要的色散光学元件.用于真空紫外波段同步辐射光束线......
平面薄膜是ICF分解实验的重要靶型 .以半导体技术结合重掺杂自截止腐蚀制备厚度为 3— 4μm的Si平面薄膜 ,以热蒸发结合脱膜工艺制......
利用光刻热熔成形工艺及离子束刻蚀制作128×128元凹微透镜阵列。所制硅及石英凹微透镜的典型基本图形分别为凹球冠形、凹柱形......
衍射光学元件在国防、生产及科研等领域起着越来越重要的作用．使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作１６阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合ＣＣＤ相机．进......
采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺,在熔石英基片上成功地刻蚀出200 l /mm、线空比4:6、槽深70 nm、刻划面积60×20......
介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模......
用低能氩离子束(Ar+)处理了多孔铝阳极氧化膜(AAO)表面.扫描电子显微镜和原子力显微镜结果表明,Ar+束刻蚀不仅可以有效地去除AAO反......
采用改进混合优化算法首次设计并制作了口径168.7 mm的连续衍射光学元件实现类环形光束入射,输出直径650μm超宽焦斑光束均匀照明......
提出了一种补偿刻蚀法 :在经过常规光刻热熔成形和离子束刻蚀技术制成的硅微透镜阵列上再涂敷几层光刻胶 ,以降低各单元微透镜的曲......
研制了用于激光印痕研究的Si平面薄膜和刻蚀膜。膜制备的主要工艺采用氧化、扩散、光刻等现代半导体技术 ,并结合自截止腐蚀技术。......
