磁控溅射法相关论文
氧化铟锡（ITO）薄膜作为一种透明导电氧化物薄膜,具有高可见光透过率和良好的导电性,因此被广泛应用于平板显示器、传感器及太阳能电......
为了有效提高柔性薄膜晶体管的电学性能，室温条件下，在聚酰亚胺（PI）衬底上使用HfO2、Ta2O5两种高介电常数材料相结合的叠层结构代替单......
利用磁控溅射法在铜箔上沉积了不同硅、碳含量的硅碳（Si/C）复合薄膜并将其用作锂离子电池负极，探究了硅碳含量比例分别为1.26、0.72、......
机械系统运行中遇到的摩擦磨损问题直接影响到系统的工作效率、运行可靠性以及使用寿命。因此，如何降低摩擦磨损对机械系统运行的影......
ZnO作为宽禁带直接带隙半导体材料,拥有很高的激子结合能、有较多相匹配的衬底材料和更低的生产成本,使得人们对ZnO材料的兴趣日益......
铁电薄膜具有良好的铁电性、压电性、热释电性、电光及非线性光学等特性,可广泛应用于微电子机械系统、光电子学和集成光学等领域......
近年来,工业技术不断朝向现代化、产业化以及规模化发展,各种极端的工作条件频繁出现,对于加工工具、材料提出了更加严苛的要求。......
由于信息时代的到来,信息存储技术受到了学术界广泛的关注。传统的存储器件具有一定的局限性,这就需要我们通过研究新型材料和开发......
用磁控溅射法制备了NiFe/PtMn双层膜,研究了在界面加入少量的Cr对交换偏置场的影响.结果发现:在Pt成分较高时,界面加Cr对反铁磁层......
采用磁控溅射法,分别在AZ31和Mg-8Li镁合金基片上制备了TiSi/TiSiN/TiSi/TiSiN薄膜.借助X射线荧光光谱(XRF)、扫描电镜(SEM)、X射......
溅射纳米晶Cu-40Cr合金涂层在700~800℃,纯氧气和空气中氧化后均形成了单一的CrO膜,但两种气氛下的CrO膜的形貌及合金氧化增重均不......
本文采用磁控溅射FeSi2合金靶、Si靶和Al靶共镀加后续快速退火工艺在4H-SiC衬底上制备了β-FeSi2/4H-SiC PIN光电二极管.采用Keith......
采用磁控溅射(magnetron sputtering)方法生长了磁隧道结结构,通过溅射不同厚度的MgO薄膜探索提高MgO晶化质量的方法.利用X射线衍......
设计了达到截止蓝光目的的膜系,并采用磁控溅射镀膜工艺,以TiO2和SiO2作为介质膜,通过优化工艺参数,在玻璃基片成功制备了具有截止......
齿轮钢在高速重载工况下由于齿面相对滑动速度高、接触应力大而在接触区域产生高温使齿面间的润滑油膜破坏,致使齿面胶合破坏.通过......
为适应高效率薄膜太阳电池应用,本文采用磁控溅射法生长三种不同沉积方式的氢化作用下Mg和Ga共掺杂ZnO(HMGZO)透明导电氧化物(TCO)......
为保证制造精度，对机械加工后的聚氨脂泡沫塑料制件，采取镀前表面封闭处理、刮涂腻子、喷涂底漆和磁控溅射镀不锈钢的工艺路线;并对......
本文首先就低温(140℃)下用Zn:Al合金靶直流反应磁控溅射法沉积ZnO:Al透明导电膜的工艺条件进行了优化研究.然后在单结(glass/SnO/......
采用射频磁控溅射法制备了BaSrTiO(简称BST)薄膜材料,研究了两种不同晶粒尺寸BST薄膜的介电偏压特性和电滞回线,分析了它们之间的......
本文采用RF磁控溅射法在Pt(111)/Ti/SiO/Si(100)衬底上制备(BaSr)TiO(BST)薄膜.我们采用了微波晶化法对BST薄膜进行退火.和气氛炉......
利用振簧技术测量了不同退火状态下的nc-TiN/a-SiN超硬薄膜的Youngs模量和内耗随温度的变化关系.以280-300℃附近观察到一个弛豫内......
防水透气织物是国内外纺织界几十年来竞相开发具有特殊功能的高档面料，目前国内外防水透湿织物的制备方法有其不足之处，如利用织物本......
在本文中,作者采用磁控溅射法在a-Si:H薄膜上溅射-薄层金属Ni,然后在500℃下退火晶化,获得多晶硅薄膜,并观察到横向晶化.......
随着人们对有机材料的性质认识的深入,有机物在传感器领域的应用也不断加宽.本文以不同工艺在差分结构pH-ISFET芯片敏感区域固定了......
采用射频磁控溅射技术在Ti6A14V基体上成功制备了含氟羟基磷灰石梯度复合涂层.利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)及红外光......
随着电子器件微型化的不断发展，人们对能源供应系统微型化和安全性能的要求也在不断提高。常规的电池系统已无法满足人们的需求，因此......
Since Sony realized the commercial applications oflithium ion battery in 1990，many materials forlithium ion battery have ......
如何区分晶粒尺寸与膜厚对金属薄膜力学行为的贡献一直以来是材料学和力学尚未解决的问题。本文采用磁控溅射法，通过间歇沉积工艺实......
用磁控溅射方法在(001)取向的SrTiO(STO)衬底上生长了LaCaMnO/YBaCuO(LCMO/YBCO)双层膜,在无外加磁场时用标准四探针法测量了样品......
用磁控溅射方法制备了系列(FeZrNbBCu)(AlO)颗粒膜样品.室温下在FeZrNbBCu体积百分比x=0.43时得到17.5μΩ cm的最大饱和霍耳电阻......
首次在氩气气氛中对用磁控溅射法制备CN薄膜的热稳定性进行了TG-MS研究。实验结果表明，CN薄膜在室温至700℃左右约有7℅的失重。经M......
本工作利用扫描电子显微镜和显微硬度及划痕实验较系统地研究了用反应磁控溅射法制备的TiN/CN复合涂层的显微结构特征和力学性能.......
随着第三代通讯技术的发展，声表面波(SAW)器件的使用频率不断提高，从最初的几MHz发展到现在的几GHz。高频应用系统的不断发展显著增......
无线通信、光纤通信系统飞速发展，低频段已经被占满，必须向高频段发展。高频声表面波(SAW)器件使用频率的升高，使它在雷达、电子战、......
声表面波(SAW)器件由于具有小型化、高可靠、多功能、一致性好等特点，所以它在雷达、电子战、声纳、无线通信、光纤通信及广播电视......
磁光材料是现代光通信产业中不可或缺的关键功能材料。为了实现光通信器件的小型化,高质量磁光薄膜材料受到关注。软铋矿型Bi25FeO......
采用磁控溅射技术在单晶硅衬底上沉积Ti、Cr、C类金刚石薄膜，用原子力显微镜(AFM)和俄歇能谱仪(AES)表征薄膜的微观形貌和成分分布，......
室温下采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备Mg0.05Zn0.95O薄膜，在500℃空气中退火1h后利用直流磁控溅射技术在Mg0.05Zn0.95O......
采用磁控溅射法在不锈钢、玻璃、单晶Si及Al2O3四种基底上制备了不同调制波长的Ni/Al纳米多层膜，用MTS的纳米压入仪的连续刚度法研......
为了确定重稀土—过渡金属非晶薄膜垂直磁各向异性的来源,我们采用磁控溅射法制备了带有金属Cr底层和不带金属Cr底层的TbCo非晶垂......
采用磁控溅射法制备了NiO顶部钉扎和底部钉扎的自旋阀.底部钉扎自旋阀的磁电阻值大约比顶部钉扎的要大30﹪,原因在于顶部钉扎自旋阀......
采用直流磁控溅射方法,以Ar/N作为放电气体(Ar流量为定值,改变N流量),在玻璃衬底上沉积了Fe-N薄膜.利用X射线衍射(XRD)、X射线光电......
本文对磁控溅射法制备的外延Sn1-xMgxO2薄膜的光学性质和室温铁磁性进行了研究。分析结果表明薄膜样品的可见光透射率均高于80......
