掩模相关论文
本文主要研究基于二元四次Box样条的多进制细分算法。在文中,我们对二进制Loop （?）田分算法进行了推广,首次得到了规则三角形网格上......
采用光诱导光子晶格的方法，利用3 孔、4 孔、5 孔、8 孔和12 孔掩模在掺铁铌酸锂晶体中写入多重旋转对称结构的二维光子晶格。基于......
提出了一种使用飞秒激光直写掩模加工微柱阵列的方法。利用高重复频率飞秒激光的热氧化效应在硅表面制作出二氧化硅点阵列,然后经......
近年来，巡航导弹空地导弹等红外成像精确制导武器飞速发展，在现代战争中发挥了越来越重要的作用。基于红外成像的导引头在对地面目标......
软X射线平焦场光谱仪具有消像差、平焦场、结构紧凑等特点，广泛应用于同步辐射、强激光等领域。软X射线变间距光栅是平焦场光谱仪的......
采用金属有机化学气相沉积方法在无掩模的直径为400nm的圆柱Si(100)图形衬底上外延生长了GaAs薄膜。图形衬底采用纳米压印技术及反......
描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软Ｘ射线源而进行的接近式软Ｘ射线光刻研究。采用正性光刻胶ＰＭＭＡ．得到了一些新的研究结果．
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阐述了照明光学系统在分步投影光刻机中的重要作用，介绍了当采用部分相干光照明时相干度对分辨率的影响，以及Ｋｏｈｌｅｒ照明中聚光镜像差对成像......
在霍普金斯（ Ｈｏｐｋｉｎｓ）理论的基础上， 对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算......
对利用零级抑制均匀相位掩模版结合球面透镜制作啁啾（Ｃｈｉｒｐ）光纤光栅的技术进行了详细的理论和实验研究。结果表明这种方法适合于制作啁啾......
采用幅度掩模和程控扫描曝光技术在经过氢载敏化处理的普通单模光纤上研制出了可用于实现掺铒光纤放大器增益谱平坦化的长周期光纤......
斑点掩模法能有效地消除地球大气湍流的严重干扰，实现天文目标的望远镜衍射受限分辨率复原，而傅里叶相位谱的复原是核心和难点。讨论......
随着现代微电子技术向高集成度超微细化方向发展，不断提高制作微细图形分辨力水平，已成为光刻技术急需解决的核心问题。目前，在光刻机......
从光学邻近效应产生机理出发，提出用带灰阶衬线的灰阶掩模实现光学邻近效应精细校正的新方法，并指出掩模图形振幅信息的优化，即合理分......
介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴......
在深紫外LIGA加工中,制作高精度大高宽比的微器件是很困难的。难点在于SU-8光刻胶对紫外光的吸收系数随着波长变短而很快变大,而且......
1.激光增强电镀属于液相激光化学沉积,它也是一种可以不用掩模而直接制作微细金属原图的新技术。美国IBM公司及其他一些研究部门......
设计并制作了一种基于激光直写工艺的多模高聚物1×8光功率分配器。该器件采用了独特的次级非对称结构实现了光功率在各个输出......
微细厚铜金属互连线不仅具有耐大电流的能力,而且具有低的电阻值,在MEMS领域具有重要的应用。采用分布式涂胶法,通过控制各工艺参......
超大数值孔径(NA)光刻成像中,掩模保护膜上的入射光线入射角范围增大,用传统方法优化掩模保护膜难以增大斜入射光的透射率。基于薄......
针对接近接触式光刻技术的特点,提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术,以叠栅条纹相位作为对准信号......
光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位......
极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效......
离轴照明技术(OAI)是极紫外光刻技术中提高光刻分辨率的关键技术之一。为了实现考虑掩模阴影效应情况下离轴照明的优化选择,构造了......
随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是......
提出一种基于线性模型的光刻投影物镜偏振像差补偿方法。根据Hopkins矢量部分相干成像理论,推导了投影物镜含有偏振像差时交替型相......
双光栅叠栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点,适用于接近接触式光刻。为了实现高精度测量,实际应用中要求掩模光栅标记与硅......
提出一种基于二次规划的光刻机光源优化方法。采用空间像与目标像的图形误差为目标函数,根据空间像强度与不同位置的点光源之间的......
建立了一个基于单平面近似的极紫外（EUV）光刻三维含缺陷掩模的快速仿真模型。该仿真模型中,采用相位突变和振幅衰减表示缺陷对多层膜......
提出一种分析线性偏振照明条件下投影物镜偏振像差对交替相移掩模(Alt-PSM)空间像影响的解析方法。基于矢量光刻成像理论,从掩模空......
采用条形Al掩模在Si(111)衬底上进行了GaN薄膜侧向外延的研究。结果显示,当掩模条垂直于Si衬底[11-2]方向,也即GaN[10-10]方向时,G......
提出了一种基于多染色体遗传算法(GA)的像素化光源掩模优化(SMO)方法。该方法使用多染色体遗传算法,实现了像素化光源和像素化掩模......
采用无掩模反应离子刻蚀法制备了黑硅。利用扫描电子显微镜及紫外-可见-近红外分光光度计研究了黑硅的微结构和光学特性。结果表明......
基于叠加统计独立散斑图像的散斑抑制原理,设计了一个具有N个透光孔的掩模板,将其放置于成像透镜出瞳面上,理论研究了产生统计独立......
提出了一种基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模衍射谱快速仿真方法,在保证一定仿真精度的前提下提高了仿真速度。该方法将三维掩......
提供了一种制备连续面形螺旋位相板的方法。通过将三维目标面形在一维方向上按照一定的间隔进行抽样处理，进而将获得的样条按照......
细分法和拟插值问题是逼近论的重要内容,它们在理论研究及实际应用中起着非常重要的作用。大家都知道,多分辨分析的核心思想是通过......
低密度奇偶校验(Low Density Parity Check,LDPC)码是线性分组码中具有稀疏校验矩阵的一类码,已经被证实是继Turbo码后又一类接近......
光刻自动化是当前国内外发展集成电路工艺设备的重要趋势.本文通过对二个平面刚体的对(淮十)原理的分析,给出对(淮十)方程的一般形......
