接近式光刻机相关论文
阐述了照明光学系统在分步投影光刻机中的重要作用，介绍了当采用部分相干光照明时相干度对分辨率的影响，以及Ｋｏｈｌｅｒ照明中聚光镜像差对成像......
本文介绍了JK—1半自动接近接触式光刻机显微物镜的结构,以及对该显微物镜高精度对心的方法,装置、精度分析和实测结果。实测结果......
前言采用接触式光刻机制作集成电路,这种光刻机的优点是装置简单,精度高;缺点是光照度均匀性差,硅片和掩模压紧曝光,二者容易划伤......
本文从物理光学的衍射理论出发,对照明系统如何消除衍射效应进行了理论分析,找出消除衍射效应和高均匀照明场的光学系统结构参数,......
提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基......
为满足接近式光刻设备中基片和掩模间隙分离的要求，设计了微动分离间隙机构。该结构由螺旋差动机构和杠杆机构组成。采用两同轴且旋......
