对准精度相关论文
初始对准是捷联惯性导航系统的关键技术，它的好坏直接影响捷联惯性导航系统导航的性能。对准时间和对准精度作为衡量初始对准性能的......
USHIO is introducing the mass production system with large area projection elposure (8 inch one shot)and the high pr......
暗场对准技术是利用光学暗场成像原理和微光真空光电探测技术，使投影光刻硅片上的标记获得大幅值、高信噪比的对准信号通过双池偏差......
适用于６４ＭＤＲＡＭ批量生产的缩小投影曝光设备日本尼柯恩公司研制出适用于６４ＭＤＲＡＭ批量生产的ｉ线步进光刻机ＮＳＲ２２０５ｉ１２Ｄ。产品具有０．３５μｍ以下的高分辨率，并采用适用批量......
随着设计尺寸的缩小,改进曝光场内套准精度变得十分重要。通过跟踪研究每个工艺步骤(即隔离层蚀刻和多晶硅淀积),发现硅局部氧化(L......
自由空间的光互连,期待着实现超过信息处理系统中电互连界限的高速互连。为实现实用化,必须解决光学系统成本削减和元
Free-spac......
日本佳能最近开发了“ＦＰＡ - 5 0 0 0ＥＳｚ” 2 5 6ＭＤＲＡＭ和下一代ＭＰＵ等批量生产用ＫｒＦ准分子激光扫描步进光刻机。本机用于采用 30 0ｍｍ圆片的正规批量生产......
GaN基脊型激光二极管(LD)的制备工艺中,面临的一个主要困难是p电极和窄脊结构的制备受到光刻对准精度的严重制约。设计和验证了一......
提出一种快速标定捷联惯组常值零偏的六位置测试法.首先在传统解析式粗对准的基础上引入HMM/KF滤波器,利用HMM/KF滤波器滤除对准环......
提出了一种基于二维光栅叠栅效应的纳米光刻对准方法,用于接近式光刻实现二维同步对准。该方法采用两组周期接近的二维光栅重叠产......
伴随着半导体工艺的不断进步,微处理器的集成度和工作频率迅速提高,微处理器系统的应用也日趋广泛。单个芯片处理能力的不断增强,......
一、前言在大规模集成电路制造过程中,光刻中的掩膜对准是极其重要的一道工序。随着集成度的不断提高,电路图线的微细化,使制造更......
“光学测量与仪器的对准精度”是从事仪器设计、光学测量及装配校正工程技术人员必须掌握的基础知识。这里所说的对准包括横向对......
在基于莫尔条纹相位匹配的纳米压印对准方案中,因阻蚀胶引入引起压印对准标记光栅副间隙介质的改变,使得莫尔条纹图像的对比度下降......
点衍射干涉仪中小孔对准误差是影响衍射参考波面质量最主要的误差源。基于瑞利索末菲矢量衍射理论,建立了非傍轴高斯光束经小孔衍......
本文概述了弹道式导弹惯性平台自对准原理,解决了利用平台罗经原理在以重力惯性坐标系为对准基准时出现的方位控制信号消隐现象,从......
本文针对带单轴稳定的惯性导航系统提出了使平台在对准过程中围绕相应轴转动一定角度用以实现双位置对准的两种原理方案。文中对这......
利用传递对准滤波器来估计从动INS与主INS(惯导系统)之间的相对姿态误差。传递对准滤波器一般依靠来自主INS的速度测量(或速度积分......
介绍一种快速传递对准方法,它不要求飞机作横向机动飞行,能够在10s之内达到1mrad的对准精度。这种对准方法是在传统的主/从速度匹......
提出了一种新的变参数销定方位环小转角对准法的三阶调平系统。用经典的方法，对平台式游移方位惯导系统进行初始对准，可测定和补偿平......
针对空空导弹的特点,采用低成本惯性器件实现其动基座对准,文中重点研究了主、子惯导都是捷联式惯导系统的传递对准原理和精度计算......
提出了二次对准技术,即在首次对准的基础上进行再对准,成功地解决了动基座对准。利用零速修正的方法进行初始对准,在双轴手遥转台......
提出了一种大失准角情况下的传递对准方法,该方法基于回路对准使子惯导的姿态振荡误差衰减到小角度后进行滤波传递对准,设计了速度......
对车辆运动状态下捷联惯导系统的初始对准技术进行研究 .以里程计作为外部传感器 ,建立了运动状态下初始对准的数学模型 ,分析了系......
基于它的技术优势三维集成技术正在不断地被应用到新的产品中,也包括被应用到消费电子产品里。同时也对许多工艺提出了新的要求,其......
在用电子束曝光系统制造大规模集成电路工艺中,电子束场的线性与非线性畸变对曝光系统的对准精度有着很大影响。本文介绍的计算机......
据《Semiconductor International》83年1月号报道:地处巴黎近郊的Cameca公司已把他们第一台步进重复x射线光刻机交付于委托者—......
我们来谈谈卡诺PLA—500FA(掩模自动对准仪)中,自动对准图案的安排与形状。 1.掩模上的对准图案(简记为“M”) 在掩模的左右两侧......
一、引言对于任何一项发展中的微细加工技术,如果要付诸实用,不但它要有高的分辨本领和合算的经济效益,而且还要解决与其作图精度......
为了迎接256KDRAM正式大批量生产的到来,就要搞清楚做为关键生产设备——缩小投影光刻机的性能及光刻技术极限,人们对这种对未来......
河北半导体研究所与清华大学联合研制了我国第一台自动对准投影光刻机—ZGK-50型.其自动对准精度为±0.25μm,套刻精度为±1μm,这......
以逐个芯片曝光方式工作的分步重复投影复印法,要得到良好的芯片就需要一个快速而精确的对准系统,这在其它的图象转换系统中尤为重......
世界上很多半导体器件制造厂广泛使用的1:1扫描投影光刻机已成为一种主要的光刻设备。但是,随着以256K 动态 RAM 为代表的真正超 ......
1.前言自从半导体平面制造技术发展以来,主要使用的是接触式掩模对准仪。集成电路从大规模发展到超大规模,其集成度迅速提高。而......
微细图形加工技术是获得集成电路高度集成化的基本条件,其中将图形对准光刻,即所谓的直线对准器作用很大。接触曝光方法由于图形......
美国帕金,艾尔默公司继研制成功140型投影曝光机之后,最近又研制成功200型1:1投影曝光机,从而使能够制出的最小线宽由3微米提高到......
在现代电子工业中,随着超精细结构加工水平的发展,线宽为微米甚至亚微米的几何图形的制作已逐渐进入工业实用阶段,因此,对光刻时套......
光学投影曝光是目前 LSI 和 VLSI 中图形复印的主要方法。本文叙述1:1全反射投影曝光技术和缩小投影曝光技术的工作原理、性能、极......
本文从实用于大规模集成电路制备的观点出发,对紫外线光刻和电子束光刻图形制作工艺中的问题进行了综述。在紫外线光刻方面,对接触......
为了检验 Pcrkin—Flmer 公司的具有自动对准和自动放大校正功能的500型全视场掩模投影光刻机的性能,我们用各种尺寸的片子对其进......
