光掩膜缺陷和清洗：一种新环境

来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fulinbo

【摘要】

：

和几乎所有半导体光刻领域涉及的其它事情一样,光掩膜缺陷检测和消除正经历着一场革命,因为新的缺陷类型需要更多创新的清洗设备和工艺。

【作者】

：

Franklin Kalk Joseph Gordon David Chan

【机构】

：

Toppan Photomasks Inc.,Toppan Photomasks Inc.,Toppan Photomasks Inc.,

【出处】

：

集成电路应用

【发表日期】

：

2007年Z2期

【关键词】

：

掩膜版 AMC 光掩膜光刻胶晶圆厂硫酸盐

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和几乎所有半导体光刻领域涉及的其它事情一样,光掩膜缺陷检测和消除正经历着一场革命,因为新的缺陷类型需要更多创新的清洗设备和工艺。

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