TiN薄膜相关论文
微电子器件的迅速发展对TiN电极薄膜电阻率、表面粗糙度以及厚度均匀性均提出了更高的要求。本文采用半导体工艺兼容的反应磁控溅......
为探究脉冲频率对通过高功率脉冲磁控溅射制备TiN薄膜组织力学性能的影响，选用Ti靶和N2气体，采用反应磁控溅射技术通过改变HiPIMS电......
为改善医用不锈钢的耐磨性，采用反应磁控溅射在304不锈钢表面沉积了TiN薄膜，研究了Ti过渡层沉积时间对TiN薄膜微观结构和力学性能的......
在当前薄膜制备技术中,电弧离子镀因靶材表面发生电弧放电局部熔融,导致沉积粒子中夹杂微米尺度高温颗粒,引发薄膜表面粗糙和基体......
利用第一性原理从微观角度分析不同金属元素掺杂对TiN体系的弹性性能的影响及其作用机制,为氮基陶瓷薄膜掺杂金属元素的涂层提供理......
钛及钛合金因硬度低,摩擦磨损性能差,限制了其在耐磨工况下的使用。表面处理技术可有效地改善钛合金的硬度和耐磨性能。其中真空热......
采用多弧离子镀膜技术，在温度250℃、N2流量140sccm、沉积时间60min以及不同的弧电流(40-140A)实验条件下，于硬质合金基体上沉积得到......
不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的微观组织结构,采用扫描电镜(SEM)观察了......
TiN 薄膜是一种广泛应用的减摩抗磨防护涂层,将其与优化的润滑技术结合可显著改善涂覆TiN 摩擦副的摩擦磨损性能[1].目前的润滑技......
TiN薄膜具有耐磨、耐高温、耐腐蚀以及优良的光学、电学及生物相容特性,应用于机械、电子、冶金、建筑节能和医学领域.本文以四氯......
会议
采用毫牛力学探针技术的两步压入试验法研究了高速钢和不锈钢基片上不同厚度TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:采用同样工艺制备......
用直流磁控溅射法, 通过改变餓射总气压及N2与Ar的比例,在玻璃基片上制备了一系列TiN薄膜试样, 利 用X射线衍射仪(XRD)和X射线光电......
目的 提高钛合金与自润滑织物衬垫对磨的耐磨性.方法 采用多弧离子镀在TC4钛合金表面制备TiN和CrAlN硬质薄膜,利用扫描电镜、X射线......
基于材料可饱和吸收效应实现脉冲激光的被动调制方式具有系统结构紧凑、调制过程快、成本低等优势，并且有潜力获得比声光或电光等主......
针对磁控溅射、真空阴极电弧沉积技术、全方位离子注入等现有表面改性技术的适用范围和优缺点,本文介绍了一种新型的复合型全方位......
表面工程作为一门新兴的综合性学科,近年来,在国内外得到了迅速的发展。实践证明,表面工程的运用能有效改善材料的表面性能,提高生......
学位
目前我国开始推广单体泵燃油喷射系统，以使发动机的排放达到欧Ⅲ排放标准，这对于我国节约能源、保护环境、降低车辆运输成本等都具有......
在分析靶源粒子产生和输运过程基础上，建立了反应溅射TiN薄膜的生长速率方程，按此模型的计算与实验结果基本相符。
Based on the an......
本文进行了对模具表面离子镀TiN薄膜的研究,本实验采用直流二极型离子镀,实验设备是由一台真空镀膜机改装而成。离子镀是一个很复......
用离子束增强沉积 (IBED)技术在 1Cr18Ni9不锈钢上制备了TiN薄膜 ,并用电化学原子力显微镜 (ECAFM) ,从纳米级空间分辨度对其在 3%......
TiNx薄膜因其具有催化氢分子解离为氢原子的特性而受到氢气提纯领域的广泛关注。本文利用磁控溅射薄膜制备技术,系统研究了氮分压......
空间技术的发展既大大扩宽了人们认识自然的范围,也带来了不少特殊的摩擦学问题,如暴露于超高真空、辐照、原子氧、宇宙尘、极端高......
本文采用JGP-450多靶反应射频磁控溅射设备制备了不同氮氩比下的TiN薄膜、不同W含量的Ti-W-N薄膜以及不同V含量的Ti-W-V-N薄膜。利......
采用磁控溅射技术在异形工件表面制备薄膜时,工件各个部位与溅射靶材之间存在不同的倾斜角度,会导致“阴影效应”。“阴影效应”的......
本文考察了工艺参数对离子束增强沉积（IBED）氮化硅、氮化钛薄膜的成分和微观组织的影响。测定了薄膜的硬度以及薄膜与基体之间结合力......
本文中采用多弧离子镀TiN薄膜对钢基体进行表面改性与SiCH润滑油相结合的方式,研究了SiCH油/TiN薄膜复合体系的真空摩擦学性能,并......
本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法......
用微波电子回旋共振（ＥＣＲ）等离子体溅射法在常温下制备出优质的ＴｉＮ薄膜．采用静电探针技术，对ＥＣＲ等离子体进行了诊断，研究了等离子体参数与装置运行......
采用划痕法测定了离子束增强沉积ＴｉＮ薄膜的界面结合力。结果表明，由于在离子束增强沉积过程中ＴｉＮ薄膜和基体之间生成一层厚约３０～４０ｎｍ的过渡层，从而......
用直流反应磁控溅射法在普通玻璃上制备了 Alx Ti1 - x N(x...
主要论述了一种高精度的原子力显微镜AFM.IPC-208B型机在分子形态学方面的应用研究.以磁控溅射获得的TiN薄膜为例,从原子力显微镜......
利用磁过滤阴极电弧镀分别在硬质合金和高速钢基体上沉积厚度约2～3μm的TiN薄膜,并用MEVVA源离子注入装置对TiN薄膜注入金属离子V+......
对TiN薄膜进行阳极氧化处理，在TiN表面形成了一层氧化膜。氧化膜呈干涉色，其颜色随槽压变化；氧化膜色调均匀、耐磨性较好。XPS及AES分......
硬质TiN薄膜广泛用作高速钢刀具钢的耐磨镀层。但在其它钢种上的应用至今比较少见。本文介绍以高速钢、工具钢和表面硬化钢及硅钢......
采用固体Nd:YAG激光器对离子镀TiN薄膜进行织构化处理,表征了薄膜的结构、形貌及凹坑织构参数.通过UMT-2往复式球-盘摩擦磨损试验......
采用MIP-800C多功能离子渗镀设备,分别在H13钢表面及经表面渗氮后的H13钢表面渗镀TiN薄膜。对两种状态下渗镀的TiN薄膜层的形貌与......
利用正交设计试验探讨了基体温度、偏压、溅射时间、沉积时间对ZL109表面沉积TiN涂层时,对薄膜显微硬度和膜/基结合力的影响。结果......
采用电弧离子镀技术在NiTi形状记忆合金表面制备了TiN薄膜,利用X射线衍射、扫描电子显微镜、原子力显微镜、轮廓仪、纳米压痕仪和......
采用辉光弧光协同共放电混合镀方法在A3碳钢基体上沉积氮化钛薄膜,通过改变Ar/N2流量比,研究Ar/N2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影......
研究了有无屏蔽板以及屏蔽板位置对TiN薄膜表面形貌、组织结构的影响.在多弧离子镀电弧靶前安装屏蔽板,用镜面抛光的高速钢片作基......
采用高功率复合脉冲磁控溅射技术(HPPMS)在316不锈钢、硬质合金基体上制备了TiN薄膜,首先研究了氩氮流量比、气压、脉宽等工艺参数......
会议
采用射频磁控溅射方法在非晶SiO2上镀制TiN薄膜,通过在空气中、350℃下,不同退火时间(分别为15,30,45,60,75,90,105,120 min)氧化......
