氮分压相关论文
研制的焊丝能否在核能系统中应用于热交换设备的焊接,主要取决于它们可靠性能和是否满足严格的要求和规范.文章讨论了利用真空感应......
采用物理气相传输法,通过调节SiC生长过程中通入生长腔的N2流量(N2/(N2+Ar)-0～10％),改变晶体生长前沿的N分压,获得了不同掺N浓度的Si......
本文研究了氮分压对CrN薄膜相结构与力学性能的影响.结果表明CrN薄膜中的相结构随N分压连续变化.......
金属铀具有独特的核性能,在核工业领域得到广泛应用,但其化学性质十分活泼,在高湿和盐雾环境中极易遭受腐蚀,因而解决铀的易腐蚀问......
对向靶制备纳米多晶铁氮膜,多种因素影响着Fe-N膜的磁性质、相结构及成膜质量.本文采用透射电镜(TEM),震动样品磁强计(VSM)和X-射......
氦氧潜水是国防、经济和科学研究等方面完成水下任务的一种重要手段。用氦氧代替空气进行深潜水的主要原因有:在深海或高压下呼吸......
1984年夏我们曾收治1例在5m 水深的游泳池内由于连续屏气潜泳而罹患皮肤型轻型急性减压病患者。因属罕见病例,特报告如下。病历摘......
本文在不同工艺条件下进行多弧离子镀ＴｉＮ涂层。利用扫描电镜、Ｘ射线衍射仪、Ｍ－２００磨损试验机以及显微硬度计等，对ＴｉＮ涂层的表面形貌、组织结构和......
一、前言 自从Mattox将辉光放电技术与蒸发镀膜技术相结合创立离子镀以来,在工业发达国家里,离子镀技术受到了极大的重视。目前,在......
本文主要研究了在1570～1650℃范围内Fe-Ce-N-O、Fe-Y-N-S溶液的热力学性质,得到主要结果如下:(1)铈、钇增加氮的溶解度,氧轻微地增......
空心热阴极离子镀是七十年代发展起来的物理气相沉积技术。目前国内外正在对这种技术的工艺、涂层形成机理和应用进行深入研究。......
由热力学计算结果分析了高炉冶炼含TiO_2铁矿时钛的物理化学行为,指出:有固体碳存在的,渣—铁界面不可能有纯TiN生成,析出的固体应......
高温合金中氮含量的测定通常采用化学分析法,即凯氏法.但是对于氮含量低的试样,采用凯氏法分析则比较困难.因为高温合金的化学成分......
本文进行了对模具表面离子镀TiN薄膜的研究,本实验采用直流二极型离子镀,实验设备是由一台真空镀膜机改装而成。离子镀是一个很复......
本文主要研究了在1570～1650℃范围铁液中铈、钇与氮的平衡和在1300～1600℃范围碳饱和铁液中铈、钇、镧、钕、钐与碳的平衡。获得的主......
为改进反应磁控溅射离子镀氮化钛膜工艺,提高溅射速率和改善薄膜质量,本实俭测得了靶极电压与氮气流量;靶极电流与氮气流量;溅射室......
四、溅射镀膜的应用 以薄膜的功能而论,薄膜可大致分为电气的、磁学的、光学的、机械的、化学的和装饰的等几大类。表2是各种薄膜......
采用反应直流磁控溅射法在单晶硅(100)衬底上沉积纳米厚度的超薄NbN薄膜.通过X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),四探针电阻测......
使用Al2O3坩埚在真空感应炉内测定了1600℃时氮在含C还原渣和钢液之间的总传质系数βo.研究表明，βo与气相中氮分压PN2的大小有关，随......
用较早得到的 Mn-P 和 Ca-P 合金的热力学性质的实验性数据帮助分析了锰和锰铁合金用含钙熔剂脱磷的热力学条件。计算了在液态锰和......
用真空电弧等离子体反应蒸发制备了Ｆｅ－Ｎ纳米粉，通过改变气流量和真空度，可以控制粉末粒度。通入氮气形成氮等离子体，制成了Ｆｅ－Ｎ粉。改变氮分压......
研究了1600℃时,钙基中性渣及氧化性渣对氮在钢液及气相间传质的影响,测定了氮从渣相向钢液中传质的总传质系数,讨论了气相中氮分......
研究了１６００℃时钢液的吸氮和脱氮以及铁液的吸氮动力学，测定了相应的传质系数并与文献数据及理论计算值进行了比较
The nitrogen adsor......
建立了氮元素溶解到ＴｉＡｌＳｎ合金中的热力学模型，并以此计算了氮在ＴｉＡｌＳｎ合金熔体中的溶解度；分析了ＩＳＭ（感应凝壳熔炼）熔炼过程中影响氮元素在ＴｉＡｌＳｎ合金中溶解......
在不同溅射氮分压条件下,采用射频反应磁控溅射技术于单晶硅片表面制备了Zr-Nb-N薄膜。EDS、TEM和XRD分析表明,随着氮分压的升高,......
采用不同的氮在钢中的溶解度公式,计算了两种含氮不锈钢冶炼时所需要的氮气压力,并在50kg真空感应炉上,通过改变氮气压力,对两种不......
某年冬季的一天,在我国东海某海域,一场潜艇、猎潜艇的对抗演习正在紧张地进行。大海深处,一艘黑色的潜艇悄悄地逼近“敌舰”。艇......
离子镀技术是真空物理蒸镀法之一。特别是把化合物膜涂敷作为目的的反应性离子镀技术,在较低温度下,能容易地进行“TiN”、“TiC”......
采用空心热阴极放电(HCD)方法实行了铬和钛的氨化物的反应离子镀,研究表明沉积在基体上的硬度是温度施加于基体的偏压和氮气分压的......
一、引言空心阴极放电法(HCD)的特点是金属离子的通量和轰击基体的粒子的能量都很高。Wan 等人对 HCD 法如何应用于物理气相沉积......
本文中简单叙述了KYF-450型离子镀设备。用HCD工艺完成了反应离子镀氮化钛。膜层的硬度在2000kg/mm~2以上,沉积速率是0.08μ-0.23......
人们在寻求潜水的极限深度时,会涉及到受试者在高压下出现神经系统和神经与肌肉反应的综合性病征,通常把这些反应称为高压神经综......
本文总结了影响反应磁控溅射离子镀氮化钛膜层质量的主要工艺参数。测得了靶极电压与氮气流量、靶极电流与氮气流量、溅射室内压强......
本文利用多弧离子镀设备沉积了 ＴｉＮ薄膜，对不同工艺条件下沉积ＴｉＮ的薄膜用 Ｘ射线衍射方法进行了研究，给出了薄膜相结构随氮分压变化的实验结......
本文根据光的吸收和反射理论，讨论了ＴｉＮｘＣｙ装饰膜的费米能和其颜色间的定量关系。
In this paper, based on the theory of absorption a......
介绍了前苏联生产的ＨＨＢ－６６－Ｍ１型多弧离子镀膜机的技术条件、结构形式、性能特点。与美国ＭＵＬＴＩ－ＡＲＣ公司生产的ＭＡＶ－３２Ｄ多弧离子镀膜机的性能进行了对比分析。
......
用对向靶溅射方法制备出氮化铁梯度薄膜。利用X射线光电子能谱（XPS）对样品进行了深度剖面分析：铁原子和氮原子的百分含量沿膜厚方向呈......
实验证明Ｔｉ—Ａｌ－Ｎ系功能梯度薄膜在厚度方向上有金属Ａｌ，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ和（Ｔｉ＿２Ａｌ）Ｎ（１１０）三种相结构，在（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ相中又有（１１１）和（２００）两种择优取向．随着氮分压ＰＮ的不断增加，薄膜中金属相含量急剧下......
对多弧离子镀ＴｉＮ涂层的工艺（包括氮分区、弧靶啼场、弧源电流）进行了正交设计分析．表明，影响ＴｉＮ涂层表面硬度的主要因素为氮分压和弧靶磁场大......
介绍了等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）ＴｉＮ涂层的工艺、组织结构和性能．研究了氮分压和靶功率对涂层相组成和性能的影响，讨论了Ｔｉ２Ｎ对涂层硬度的......
利用等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）沉积ＴｉＮ涂层，研究涂层的组织结构和性能。随着氮气分压增加涂层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发......
