分步重复投影光刻机同轴对准系统

来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:nish2008
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对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析,阐述了系统的成象机理和工作过程,并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模和硅片均刻有对准光栅标记,对光栅衍射后形成干涉信号,使对准信噪比大大提高,并实现了掩模和硅片之间的直接对准,同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制,由电路实施解调,提供了一种保持高信噪比,又使弱信号探测不降低精度的对准方案。该系统可适用于各种硅片衬底,工艺适应能力强
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