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X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究
X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qijich
【摘 要】
:
针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在
【作 者】
:
王德强
谢常青
叶甜春
刘业异
胡松
【机 构】
:
中国科学院微电子研究所,中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
2004年2期
【关键词】
:
X射线光刻
对准系统
拉普拉斯算子
识别精度
对准精度
X-ray lithography
alignment system
LAPLAC operator
p
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针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证.采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两个方面比较好,而改进后的SOBEL II算子的对准时间最短,对准精度也很高.
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