膜基结合力相关论文
为了更好地了解化学镀Ni-P及Ni-W-P 2种镀膜的优缺点，利用X射线衍射仪、光学显微镜、电化学工作站以及维氏硬度计等测试分析手段对......
随着工业科技的进步,传统的切削刀具已不能满足工业加工领域的要求。目前,将高硬度和耐高温氧化的氮化物薄膜镀到刀具表面的方法成......
目的 通过对基体进行前处理,提高AlCrN涂层的摩擦磨损性能和切削性能.方法 采用不同前处理方法(湿喷砂、干喷砂和微粒子喷丸)对高......
金属表面纳米化可以明显改善材料表面力学性能,并能对原子的热扩散起到促进作用,本文尝试采用材料表面纳米化技术改善316L不锈钢金......
采用磁控溅射法,分别在AZ31和Mg-8Li镁合金基片上制备了TiSi/TiSiN/TiSi/TiSiN薄膜.借助X射线荧光光谱(XRF)、扫描电镜(SEM)、X射......
实验采用多弧离子镀膜技术制备了不同调制比的Cr/Cr2O3薄膜,其Cr2O3与Cr的调制比分别为3∶4、3∶2、5∶1、10∶1.研究不同调制比对......
四面体非晶碳(ta-C)薄膜具有高硬度和弹性模量、优异的耐磨性和抗蚀性、高热导率和电阻率以及良好的化学惰性等优异性质,已成为刀......
使用等离子增强化学气相沉积(PECVD)在304不锈钢基体表面制备含硅和不含硅类金刚石(DLC)涂层.采用拉曼光谱研究了薄膜的热稳定性,......
本文分析了影响铁基表面沉积金刚石膜的主要因素,讨论了改善膜基结合力的各种表面预处理的方法,介绍了近年来国内外学者在该领域的......
采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、1Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金四种基体表......
本文采用JGP450型反应磁控溅射仪,在室温下分别沉积了不同V含量的TiVN复合薄膜,采用XRD-6000型X射线衍射仪分析薄膜的微结构;采用S......
基体物相特性会对涂层硬质合金整体的力学性能产生重要影响.制备了具有不同WC晶粒度和Co含量的WC-Co系列硬质合金,采用直流磁控溅......
磁控溅射技术应用在铝合金、不锈钢等材料表面制备的薄膜存在膜基结合力差、疏水与疏油性差等问题。为提高薄膜的膜基结合力,研究......
TiN和ZrN薄膜是工业中最常用的硬质薄膜材料,由于TiN和ZrN的硬度高、膜基结合力强、耐氧化抗腐蚀性好而被广泛应用于工业上的刀具......
为了使手术器械具有疏水抗菌性,我们在手术器械表面制备了具有微纳米结构的Cr/Cr N/Cu-Ti N膜。基体表面微纳米化用化学刻蚀法,膜......
对316L不锈钢的镀铝层进行了热处理,并利用XRD、SEM、EDS分别对膜层进行了相结构、表面形貌、化学成分等分析,并测试了膜基结合力......
用Al和Al_2O_3双靶磁控共溅射工艺在抛光铝合金衬底上制备了Al-Al_2O_3复合涂层,同时制备纯Al涂层作对比。利用X射线衍射仪和场发......
采用Ti靶和ZrO2靶在Ar、N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,在不同预处理的基底上沉积制备了一系列的TiN/ZrON周期结构多层膜.利......
采用真空阴极多弧离子镀技术制备了Al Cr N多元复合纳米硬质涂层,利用洛氏硬度计、划痕仪、HV显微硬度计、球磨仪、扫描电子显微镜......
采用离子束复合磁控溅射沉积技术在硬质合金上制备了不同W过渡层厚度的类金刚石薄膜,重点考察了过渡层厚度对薄膜结构成分、表截面......
现代切削面临着不断发展的高速、高效、高精加工要求，和愈来愈多的高强度、高韧性、难切削等高性能级材料；加之硬加工、干切削等......
采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备了纯Cr涂层。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和划痕仪分析了弧电流对纯Cr涂层表......
对Zr-4合金表面分别进行多弧离子镀TiAlSiN涂层和TiAlN涂层.利用扫描电镜对涂层进行表面微观形貌观察;利用ImageJ对涂层大颗粒分布......
本文对纳米非晶金刚石薄膜与口腔材料的膜基结合力,耐磨性和抗菌性能进行了实验研究,以为将纳米非晶金刚石薄膜应用于口腔修复......
在40Cr基体上镀TiN膜存在膜基结合不牢的问题,在镀TiN膜前先进行离子渗氮予处理,性能测试与结构分析证实渗氮层的存在可以缓解膜基......
自润滑陶瓷轴承的润滑剂来源包括自润滑复合材料保持架、滚道表面改性润滑膜和滚动体表面改性润滑膜。随着无保持架满装氮化硅陶瓷......
该课题采用等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)技术在轴承钢GCr15表面形成TiN薄膜,PIIID过程通过RF射频辉光放电和脉冲阴极弧金属......
TiAlN具有硬度高、化学稳定性好、摩擦系数低、抗氧化温度高等优异性能。Al含量的不同会导致TiAlN薄膜晶体结构的变化,进而影响TiA......
复合材料薄膜钛硅氮(Ti-Si-N)，以其优异的力学性能和化学稳定性，一直以来成为硬质材料领域的研究热点。本论文通过利用磁控溅射技术......
本文研究了在射频等离子体增强化学气相沉积工艺中不同的预处理方法对不锈钢基底上类金刚石碳膜生长的影响.所沉积的碳膜的结构和......
使用划痕仪对多弧离子镀制备的TiN/TiCrN/TiCrAlN复合薄膜进行了划痕实验,结合金相显微镜观察分析划痕表面形貌,综合判定了该复合......
采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜,利用真空退火炉、EDS、XRD,台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分......
用工业型脉冲等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）设备、在高速钢（Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ）和钴基硬质合金 ＳＣ３０基材表面沉积了 ＴｉＮ薄膜，用扫描电镜（ＳＥＭ）和连续加载压入仪研究了脉冲电压......
高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微......
采用物理气相沉积(PVD)法制备TiN、Ti-Al-N和Ti-Si-N 3种薄膜,研究了铝和硅元素添加对薄膜组织和性能的影响。结果表明:Ti-Al-N薄......
用工业型脉冲等离子体化学（ＰＣＶＤ）设备。在高速钢（Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ）和钴基硬质合金ＳＣ３０基材表面沉积了ＴｉＮ薄膜，用扫描电镜（ＳＥＭ）和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基......
现有铝合金表面强化技术存在强化层薄，与基体结合力差或成本高等问题。采用多弧离子镀在硬铝合金LY12表面沉积了TiN薄膜，采用X射线衍......
采用Ti靶和ZrO_( 2)靶在Ar、N_( 2)混合气氛中进行反应磁控溅射的方法,在不同预处理的基底上沉积制备了一系列的TiN/ZrON周期结构......
硬质合金刀具在发达国家刀具类型中占主导地位,同时,硬质合金切削刀具在我国也已经成为加工企业所需的主力刀具,随着硬质合金刀具......
采用射频磁控溅射法在Si和Ti合金基体上沉积出类金刚石（DLC）薄膜．利用拉曼光谱仪、划痕仪和扫描电子显微镜分析了DLC薄膜的结构、膜基......
通过对TiN膜层上和膜层中微液滴的观测，探讨了微液滴对膜层和基底结合力产生的影响，并分析了划痕试验中微液滴破损和膜层剥落之间的......
为了满足复合材料高速切削加工的需要,用金属Ti靶和纯TiB2靶作为靶材料,在N2气氛下用多弧离子镀方法制备了TiN/TiBN纳米复合涂层。......
本文根据裂纹体自洽模型,推导出裂纹密度参数关系式,并采用压痕法,通过统计压痕域的裂纹几何,计算裂纹密度参数,以此来评价涂层的......
采用直流磁控溅射技术制备了CrNx涂层，研究了工艺参数对所制备的crNx涂层膜基结合力的影响．实验结果表明：N2含量较低时，膜基结合力较好......
采用多弧离子镀技术在不同的占空比条件下于锆合金表面制备TiAlN涂层。利用扫描电子显微镜观察涂层的表面和截面微观形貌;利用能谱......
本文利用射频等离子体增强化学气相沉积（RFPECVD）工艺在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜（a-C：H膜）。在沉积碳膜之前，首先在基底表面预先......
