等离子体增强化学气相沉积相关论文
随着集成电路技术的快速发展,芯片结构更加复杂,尺寸越来越小,对薄膜沉积的性能提出了更高的要求.等离子增强化学气相沉积(PECVD)与C......
期刊
等离子体增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)是高端集成电路制造中的关键工艺。通过对PECVD工艺及......
碳化硅(SiC)材料具有较宽的带隙,较高的电子迁移率和优越的导热性,因此在电子器件开发中极有吸引力。众所周知,绝缘特性的SiO2层具有......
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺在多晶硅片上生长SiNx:H膜,研究了不同反应气体压力对SiNx:H膜层性能的影响,以寻求SiNx:......
本文以C2H4 和H2 稀释的SiH4 为先驱体,采用等离子体增强化学气相沉积法,通过改变C2H4 流 量制备了一系列富碳的氢化非晶碳化硅(a-......
本文考察了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)高压制备微晶硅薄膜过程中,长时间使用系统造成的微晶硅薄膜特性的漂移情况。发现同样......
会议
利用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)设备通过改变反应气体,H/SiH中的氢稀释比制备出一系列硅薄膜.薄膜的微区喇曼散射......
会议
固体表面发生的二次电子发射(SEE)会导致固体表面电荷的累积,产生电子云效应,这极大地阻碍了粒子加速器、航天器、电真空器件等多种器......
氮化镓(GaN)作为一种代表性的宽禁带半导体材料,因其优异的光电性能和稳定性,十分适合制备光电子器件和微波射频器件,在照明与显示、5......
Interface effects on the electroluminescence spectra in amorphous-Si/silicon oxynitride multilayer s
我们报导从多层的结构由血浆准备了的同样扔的 amorphous-Si/silicon oxynitride 的房间温度 electroluminescence (EL ) 提高了化......
作为一种具有高功率密度、快速充放电、长循环寿命的无污染环保储能器件,超级电容器在新能源汽车、太阳能与风力发电等诸多领域中......
由于对能源需求的不断增加和能源的有限供应已经开始制约世界经济的发展,能源问题越来越受到人们的关注,所以人们把目光投向新型、......
近年来,日盲紫外探测器因其在国防和民用领域具有潜在的应用价值而得到广泛关注,已成为了半导体光电子器件领域内的研究热点。如何......
利用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在不同CH4流量下制备非晶SiCx∶H薄膜,在室温下能用肉眼观察到薄膜较强的近红外光发射,......
石墨烯是一种新型的二维碳纳米材料,拥有独特的晶体结构。正因为其独特的结构,使其具有非常优秀的电学、光学、力学及热学性能。基......
学位
类金刚石(DLC)薄膜膜凭借其优异的摩擦学性能和自润滑性能,已经大量应用于微观系统中,以降低微观系统工件的摩擦磨损,延长其使用寿命......
如今,镁合金在各行各业已经得到了广泛的应用。但是,硬度低、耐磨性差及耐蚀性差等问题也限制了镁合金在一些领域的使用。表面涂层......
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在单晶硅表面沉积非晶硅层。在非晶硅层沉积的过程中,周期性地采用氢等离子体对样品......
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术制备高速率微晶硅太阳电池,针对微晶硅材料在生长过程中存在纵向不均匀性而导......
非晶硅或微晶硅薄膜是光伏电池、大面积平面显示和微机电系统等领域广泛应用的光电薄膜材料。采用等离子体增强化学气相沉积(P......
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,对p-i-n 型窄带隙(...
为制备高质量的结晶硅薄膜,以玻璃为衬底,利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备非晶硅(α-Si)薄膜,然后分别通过固相晶化和激......
本文采用多孔空心阴极等离子体增强化学气相沉积(HC—PECVD)技术,以二氯硅烷(SiH.Cl.)和氢气(H:)分别作为硅源和还原剂制备微晶......
以CH4和Ar为反应气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积的方法在纯钛基片上制备了类金刚石碳(DLC)膜。通过拉曼光谱(Raman)及X射......
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,对用于三叠层中间电池的非晶硅锗P/I/N型单结电池进行研究.针对本征层锗含量提......
在普通玻璃上采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备氢化p型非晶硅薄膜,研究了不同射频功率对氢化p型非晶硅薄膜性能的......
利用直流-射频等离子体增强化学气相沉积(DC-RF-PECVD)技术在单晶硅表面制备了类金刚子:(DLC)薄膜。采用Raman光谱和原子力显微......
通过对等离子体增强化学气相沉积法制备出的非晶碳化硅膜的微结构和光学特性进行了研究,发现结构和化学键组态的变化对其光学特......
介绍了离子注入、离子束沉积、等离子体增强化学气相沉积、等离子体化学热处理、双层辉光离子渗金属、等离子喷涂和高分子材料......
本文研究了在聚酰亚胺柔性衬底上采用等离子体增强化学气相沉积法制备非晶硅基薄膜太阳电池。在稳定各层材料沉积工艺的条件下,仅调......
本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术高速沉积优质微晶硅(μc-Si:H)薄膜。在等离子区屏蔽条件下,研究了沉积气压、射......
采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积(MW-ECRCVD)法,BF3-H2-N2-Ar为反应气体,制备立方氮化硼薄膜.应用傅立叶红外光谱(F......
本文主要介绍利用发射光谱对感应耦合等离子体增强化学气相沉积,类金刚石膜过程中的各种基团进行分析,并对不同条件下薄膜硬度和沉......
微晶硅(μc—Si:H)是国际公认的新一代硅基薄膜太阳能电池材料。综述了微晶硅的基本特性,器件质量级材料的表征参量,材料的生长技术,微晶......
期刊
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是制备非晶硅太阳能电池a-Si:H薄膜材料应用最广泛的技术。非晶硅材料在可见光内有较高的吸收系......
在等离子体作用下,以CO2/H2混合气为氧源,Zn(C2H5)2锌为锌源,在单晶硅上生长出高度择优取向的氧化锌薄膜.X射线衍射分析表明,薄膜......
期刊
射频电源是一类特殊的高频电源。广泛应用于电子工业、无线通信、现代医疗、石油化工和环境设备等领域。射频电源的优劣对关联设备......
近几年来,类金刚石膜(Diamond-LikeCarbonFilmDLC)凭借其优良的物理、化学性能,可以被大量应用于微机电系统(MEMS)和高密度信息存储......
目前人们研究这两种薄膜多采用直流或射频PCVD技术,并且设备多为实验室水平,在研究成果与实际应用之间还存在很大差距;对膜层的研......
硅基薄膜材料作为一种极具潜力的光电能量转化材料,由于其能耗低、可使用廉价衬底,并易大面积沉积等优势而备受人们关注,也使其在......
学位
硅碳氮(SiCN)薄膜作为一种新型的第三代宽带隙半导体材料,具有较高的硬度、良好的发光及场发射特性、高温抗氧化性以及抗腐蚀性和......
半导体硅材料是可大规模应用于太阳能电池的首选材料,硅基太阳能电池一直是光伏产业发展的主流产品。但由于晶体硅的光学带隙为1.1e......
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是硅基薄膜太阳电池的主要制备技术。目前,非晶硅(a-Si:H)薄膜太阳电池的工业化生产,主要采用13.......
近年来,随着太阳能技术的蓬勃发展,人们在日常生活中太阳能电池应用的领域越来越广泛,而且目前应用最多的就是硅电池。而如何增加......
学位
本文综述了模具表面改性的新技术,包括了化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PCVD)、物理气相沉积(PVD)等。重点介绍......
随着化石能源的日趋枯竭和环境污染问题的日益严重,如果找不到有效的替代能源,人类社会将面临全面的能源危机。燃料电池作为一种直接......
目前商业上常用的是晶体硅太阳能电池,而提高电池的光电转换效率,降低成本一直是研究工作者的目标。制备性能优良的减反射钝化膜是生......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......