电子束蒸发相关论文
利用电子束蒸镀设备沉积金属薄膜是微电子领域最常见的薄膜沉积工艺之一。然而使用普通钨坩埚电子束蒸镀铜薄膜时，沉积速度非常低。......
基于光催化的废水处理系统具有高效、简便和低成本的优点,已成为环保领域最有前途的技术。作为被公认的半导体光催化剂,二氧化钛（Ti......
持续增长的全球能源消耗总量和全球气候变暖等问题,不断推动着全球科学家大力发展绿色可再生能源。光电催化水分解（Photoelectroche......
利用电子束蒸发法在蓝宝石（Al2O3）衬底上制备了ZnO：Eu3+薄膜。其中靶材选用ZnO和Eu2O3混合制成的陶瓷靶，反应气体为O2。用X射线衍射仪......
热敏电阻是一类电阻率随温度上升而呈指数性下降的材料,因其具有这种特殊的电学性能使得该材料可以应用到各种温度测控领域。此外,......
随着半导体激光器应用领域的不断拓展,对器件输出功率和可靠性的要求也越来越高。而激光器腔面的工作稳定性是制约器件高功率输出......
采用钨坩埚和电子束蒸发设备蒸镀金属银薄膜时，银在熔融状态下和钨坩埚是浸润的，坩埚内熔融金属的液面呈凹陷形状。这类凹陷形状的蒸......
以Ta2O5为初始膜料, 采用电子束蒸发制备了Ta2O5薄膜, 以空气和氩气分别作退火保护气氛, 以X射线粉末衍射仪(XRD)为测试手段研究了......
采用电子束蒸发沉积技术制备了平板偏振膜。用Lambda900分光光度计测试了其光学性能。在中心波长1053 nm处P偏振光的透过率TP......
充氧口位置直接影响了真空室内的氧气分布，进而对薄膜的光学性能造成重要影响。为了研究充氧口位置对HfO2薄膜性质的影响，在2个典型......
碲锗铅（Pb1-xGexTe）是IV-VI族窄禁带半导体材料PbTe与GeTe的赝二元合金固溶体，是一种具有优势且机械强度高的高折射率光学薄膜材料。......
光学薄膜的缺陷是光学系统性能提高的瓶颈, 一直是实验和理论研究的重点。选取电子束蒸发工艺制备光学多层膜的典型缺陷, 用扫描电......
A broadband (~176 nm, R...
为简化主动频率选择表面(FSS)器件结构,提高其谐振频率的操控性能,提出一种利用光电导薄膜的光照导电特性控制FSS结构尺寸变化的光......
Until now, there are few reports on the effect of process conditions on abrasion resistance, which is the most important......
采用长短波通膜系组合结构,对膜系光学性能进行了优化设计以及仿真分析。采用电子束蒸发,离子束辅助沉积工艺在Si基底两面分别沉积......
对公转结构电子束蒸发镀膜机的膜厚误差进行研究.提出一种基于非余弦膜厚分布理论的膜厚误差分析方法,并用数学方法对膜厚误差的分......
三代微光像增强管需在所使用的微通道板(microchannel plate,MCP)输入面制备离子阻挡膜,以阻挡正离子轰击NEA光电阴极,维持和提高......
SiO2薄膜是重要的低折射率材料之一,针对离子束溅射(IBS)和电子束蒸发(EB)的SiO2薄膜,采用红外光谱反演技术获得在400—1500 cm 1......
在实验上研究了不同材料构成的一维窄带光子晶体带隙特性,采用电子束热蒸发技术,制备了一系列可见光范围内的窄带光子晶体反射镜。......
采用射频磁控溅射与电子束蒸发的方式,制备了ZnO/Ag/ZnO三层复合薄膜,研究了Ag薄膜厚度以及电子束蒸发的沉积速率对复合薄膜光电性......
为了研究衬底温度对硒化锌薄膜微观结构和光学特性的影响,采用电子束蒸发技术在K9玻璃基底上制备了单层的硒化锌薄膜。通过研究薄......
铝合金基材在新时代科技高速发展的背景下有着广泛的应用,其高反射特性作为主要的镜面材料在军事打击、民用监测方面发挥着显著的......
TFT阵列作为液晶显示（LCD）和有机发光二极管显示（OLED）的核心部件,一直是科研工作者的重要研究对象。非晶氧化物半导体薄膜晶体管（AOS-T......
随着激光技术的发展,大功率激光器越来越受人们的重视。大功率激光器在工业、军事和核聚变等方面起着重要的作用,人们在提高大功率......
纳米加工技术是人类了解微观世界的工具,但加工能力往往受设备所限。碳纳米管作为一种新型纳米材料,具有很多独特的物理性质。本文......
为了减少短波蓝光对人眼的伤害,同时确保蓝光对人体节律的有益调节,精确控制400~500 nm的透射斜率在蓝光防护中尤为重要。本文提出......
用电子束蒸发技术在K9玻璃及YAG晶体上沉积了HfO2/SiO2多层膜,采用纳米划痕仪对薄膜的力学性能进行了研究。实验结果表明:沉积在YA......
在石英基底上制备了铝(Al)薄膜,同时加热烘烤制备了Al纳米颗粒,研究了不同厚度的Al纳米颗粒的吸收特性。结果表明,随着烘烤温度的......
采用脉冲激光沉积的方法,在Pt/SiO_2/Si衬底上制备了掺Ca的(Pb,La)TiO_3薄膜。薄膜呈多晶结构,具有较好的铁电性和热释电性。由于......
报道用电子束蒸发法制备的ＳｒＳ（Ｅｕ，Ｓｍ）电子俘获薄膜的特性，给出了这种薄膜的Ｘ射线衍射图、原子力显微镜（ＡＦＭ）形貌观察结果、光谱及存储的图像照片等。......
沉积速率是电子束蒸发制备光学薄膜的重要工艺参数之一,影响着成膜的微观结构和化学成分,从而对薄膜的光学性质和机械性质都产生很......
在MgF_2基片上,采用电子束蒸发镀膜法制备了掺锡氧化铟(ITO)导电基底,研究了充氧及退火对ITO薄膜电阻及紫外透射比的影响。并与传......
采用电子束蒸发方法在LiB3O5(LBO)晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm倍频增透膜。利用Lambda900分光光度计、MT......
膜厚均匀性是评价光学薄膜的重要标准之一。膜厚均匀性不好,膜系特性就会遭到严重破坏。作为用于光学薄膜的主要低折射率材料,SiO2......
基于膜层结构的弛豫现象,建立了一个多晶膜的应力演化模型,并通过线性组合给出了复合膜的生长应力模型。利用双光束基底曲率测量装......
准确的测量薄膜的厚度和光学常数,在薄膜的制备、研究和应用中都是十分重要的。借助Cauchy色散模型,通过薄膜透过率测量曲线,用改......
利用电子束蒸镀方法，在K8玻璃衬底上沉积ZnO掺杂ITO（ZnO—ITO）与ITO薄膜。研究不同退火温度对ZnO—ITO薄膜的微观结构的影响；对比分析......
设计了45°入射反中波透长波分束膜系,并进行了误差仿真分析。选用"Ge+ZnS"和"ZnS+YF3"两组高、低折射率材料,采用离子辅助电子束......
本文报导了用电子束蒸发的方法,在GaAs衬底上制备Si_3N_4掩蔽膜的实验结果。在250℃～280℃下,用Cr激活的GaAs——Si_3N_4薄膜,附着......
采用电子束蒸发镀膜方法在K9玻璃基底上分别镀制了ITO/SiO2/ITO,ITO/Ti2O3/ITO和ITO/MgF2/ITO结构的多层薄膜,用四探针方块电阻仪......
设计和制作了用于和PtSi CCD集成构成多光谱成像系统的一个微滤波片阵列。可见光薄膜和红外干涉薄膜分别采用射频磁控溅射和离......
