热丝CVD相关论文
采用脉冲偏压和直流偏压辅助热丝化学气相沉积装置在硅片表面制备了金刚石薄膜,对比研究了两种方式施加的偏压大小对薄膜表面形貌......
金刚石涂层刀具具有优异的硬度、耐磨性及导热性,在军事、航空航天等高精尖应用领域加工石墨、高硅铝合金、碳纤维增强塑料等难切......
采用热丝CVD法在N型体硅上以全程真空环境镀膜与IN镀膜后破真空再镀IP的不同形式,分别生长IN-IP非晶硅膜层,用WCT-120对薄膜钝化性......
用热丝 CVD的方法在 3英寸的硅衬底上生长均匀的金刚石薄膜， 应用了在热丝上方加石 墨电极，在形核阶段相对于热丝施加一直流负偏压......
分别采用热丝辅助反应溅射和等离子体增强热丝化学气相沉积的制备方法，制备出含有β-C3N4晶相的CNx薄膜．本文将重点报道CNx薄膜的结......
采用热丝CVD法在硅衬底上合成了金刚石薄膜，研究了工艺参数对金刚石形核与长大的影响规律。形核密度随甲烷深度的增加和抛光膏粒度......
研究了巴基管钨粉涂料、涂覆巴基管－沉积循环工艺和缓慢冷却措施等，在热丝化学气相沉积条件下同时使用时，对金刚石膜与硬质合金基底之......
化学气相沉积法(Chemical Vapour Deposition,简称CVD)制备出的金刚石膜具有和天然金刚石相近的一系列独特性能,在航空、航天、国......
该论文通过对HFCVD装置的相关参数进行研究,改装建立了一套HFCVD制膜设备,并确立了一组适用于在该实验设备上利用HFCVD方法制备纳......
:以市售大孔径 (>2mm)硬质合金拉丝模为衬底 ,经酸腐蚀去钴、研磨和还原处理后 ,以氢气和丙酮为原料 ,用穿孔直拉热丝CVD法制备......
利用改进热丝化学气相沉积系统在(WC-Co)硬质合金牙钻切刃上沉积粘着性金刚石薄膜。试验发现,原生薄膜通常为聚晶,且薄膜覆盖效果......
以紫铜为基体,采用热丝CVD法合成金刚石薄膜,研究了钛过渡层及研磨金刚石粉(俗称“种植晶仔”)预处理对金刚石薄膜生长状态的影响......
在热丝CVD装置中,以氢气、丙酮、硼酸三甲脂为原料,在YG6上制备了含硼金刚石薄膜.研究丙酮中硼含量对薄膜表面晶形及晶粒度的影响.......
利用改进热丝化学气相沉积系统在(WC-Co)硬质合金牙钻切刃上沉积粘着性金刚石薄膜.试验发现,原生薄膜通常为聚晶,且薄膜覆盖效果良......
为改善钽喷丝头的品质,提高其硬度和耐碱腐蚀能力,利用热丝CVD制备不同粒径的金刚石薄膜,并通过对钽衬底的碳化处理,成功使之沉积......
利用热丝化学气相沉积(HFCVD)装置研究不同气压下氩气体积分数对金刚石膜晶粒尺寸的影响,并对不同气压下其微米纳米尺寸转变的临界......
本文用热丝 CVD 法在氮化硅复合陶瓷及 Sialon 陶瓷上沉积了金刚石薄膜,用 X 射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、表面形貌仪、......
采用热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,以甲烷(CH4)和硅烷(SiH4)作为源反应气体在Si(111)衬底上生长了晶态SiC薄膜.通过X射线衍射(XRD)......
利用氮化铝陶瓷作为衬底，在不同甲烷与氢气的配比流量下，利用热丝ＣＶＤ方法制备了一个系列的金刚石薄膜，通过测量样品在４３０ｎｍ处的光致荧光（ＰＬ）谱及其......
采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚......
用HFCVD方法在Ho衬底上进行了金刚石薄膜生长研究,观察到在不同的反应压强条件下,金刚石薄膜晶粒的三种形貌,并且讨论了反应条件对......
用热丝化学气相沉积法在Ｓｉ（１１０）和钛合金衬底上沉积了金刚石薄膜。借助扫描电镜、喇曼光谱和Ｘ射线衍射等分析手段，研究了灯丝温度和衬底表面......
用热丝ＣＶＤ法，以甲烷、氮气和氢气为气源，在Ｓｉ（１１１）衬底上沉积了Ｃ－Ｎ薄膜。用Ｘ射线光电子谱（ｘｐｓ），喇曼光谱（ＲＳ），Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）和扫描电镜（ＳＥＭ），对Ｃ－Ｎ薄膜的结构及生长速率进行了......
在硬质合金和Si3N4陶瓷刀具表面采用热丝CVD法合成金刚石薄膜的结合性能具有明显差异.在沉积金刚石过程中,根据碳源通入系统中的时......
在不同的甲烷流量下,用热丝化学气相沉积方法(HFCVD)在N型(100)单晶硅片上制备了掺硼金刚石薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)和拉曼光谱......
采用热丝化学气相沉积（chemical vapordeposition,CVD）的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等......
采用HFCVD技术,通过两步CVD生长法,以CH4+SiH4+H2混合气体为生长源气,在Si衬底上生长3C-SiC晶体薄膜.对所制备的样品薄膜在氮气气......
采用热丝ＣＶＤ法在半底上合成了金刚石薄膜，研究了工艺参数对金刚石形核与长大的影响规律。形核密度随甲烷深度的增加和抛光膏粒度的减小......
由上海大学夏义本教授课题组承担的强磁场下纳米金刚石薄膜的制备技术项目通过有关部门验收。强磁场下热丝CVD方法制备金刚石薄膜......
本文以硅烷、乙炔和氢气为气源,采用热丝CVD法制备了非晶碳化硅薄膜。通过FITR、紫外-可见光分光光度计、四探针仪、台阶仪和霍尔......
采用热丝CVD法在单晶Si衬底上进行了Si和Ge薄膜的低温外延生长,用XRD和Raman谱对其结构性能进行了分析。结果表明：在衬底温度200℃......
以甲烷和氢气的混合气体为原料,用热丝化学汽相淀积法,在(100)硅衬底上800℃温度时异质生长出适合场发射的金刚石薄膜.然后用扫描......
以市售大孔径硬质合金拉丝模为衬底，经酸腐蚀为去钴、研磨和还原处理后，以氢气和丙酮为原料，用穿孔直拉热丝ＣＶＤ法制备了金刚石涂层。利用......
对高H2稀释比条件下热丝CVD法制备GeSi薄膜的工艺参数对薄膜的键结构的影响进行了研究。用Raman谱和FT-IR谱对薄膜中非极性键（Ge—G......
利用金刚石纳米粉引晶法和常规研磨方法分别在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜,并采用扫描电镜、激光拉曼方法对所制备样品进行表征,通......
利用金刚石纳米粉引晶方法在SiO2衬底上合成了高硼掺杂金刚石薄膜,并利用范德堡法、扫描电镜、激光拉曼方法对不同掺杂量下生长的......
利用金刚石纳米粉引晶法和常规研磨方法分别在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜,并采用扫描电镜、激光拉曼方法对所制备样品进行表征,通......
用热丝CVD的方法在3英寸的硅衬底上生长均匀的金刚石薄膜，应用了在热丝上方加石墨电极，在形核阶段相对于热丝施加一直流负偏压的预处......
以有机高分子化合物酒精和氢气为反应气体，用热丝CVD法在Al2O3陶瓷基片上沉积出金刚石薄膜,用拉曼光谱，X射线衍射等方法进行了表征。......
采用热丝CVD法制备的大面积金刚石薄膜存在基片变形严重的问题，通过对热丝CVD设备和沉积工艺进行改进，成功解决了直径76mm、厚度0．4mm......
本文通过电子增强热丝CVD方法在硬质合金基体上沉积金刚石薄膜，对硬质合金基体进行酸洗、表面研磨处理后用气相沉积方法沉积约1μm......
本文研究了热丝ＣＶＤ方法生长金刚石薄过程，衬底表面的损伤处理对金刚石薄膜光学性能的影响，以及膜中非本征杂质吸收对其红光学特性的影响......
利用改进热丝化学气相沉积系统在(WC-Co)硬质合金牙钻切刃上沉积粘着性金刚石薄膜.试验发现,原生薄膜通常为聚晶,且薄膜覆盖效果良......
本文针对金刚石涂层应用于工具、模具的需要，研究脉冲偏压在热丝法沉积金刚石工艺中促进金刚石形核、生长的作用。进行了不同脉冲电......
采用热丝化学气相沉积法(HFCVD),使用CH4和H2作为反应气源,采用控制变量,在其他参数不变的情况下,改变灯丝的温度,沉积的气压等参......
分别采用热丝辅助反应溅射和等离子体增强热丝化学气相沉积的制备方法，制备出含有β－Ｃ３Ｎ４晶相的ＣＮｘ薄膜。本文将重点报道ＣＮｘ薄膜的结构与形貌特......
目的 改善硬质合金表面金刚石薄膜的结合力。方法 采用热丝CVD法在硬质合金基体上制备金刚石薄膜,研究对比喷砂＋一步法、喷砂＋两步法......
本文主要对化学气相沉积法制备（类）金刚石薄膜专利申请中专利申请的年度变化趋势、专利申请国家/地区布局、制备方法、申请人类型、......
