椭偏仪相关论文
本征氢化非晶氧化硅(i-a-SiOx:H)是a-Si:H/c-Si异质结太阳电池中重要的钝化材料之一。本文采用PECVD法研究不同沉积衬底温度下n-Cz......
针对目前双伺服电机控制补偿器旋转的椭偏测量技术中电机同步旋转控制复杂,且探测器同步信号触发采集困难、长时间运行稳定性差等......
目前5G通信已经开始商用,同时人们也开始部署6G通信的蓝图。6G通信频段已经到达太赫兹被段,这就需要人们清楚地了解物质在太赫兹波......
具有“三明治”结构的D/M/D(dielectric/metal/dielectric)透明导电多层膜,基于其中金属功能Ag 膜中自由电子的导电性以及自由电子......
为保证微机电系统(MEMS)工艺制作过程中薄膜厚度测量的准确、可靠,依据《GJB/J5463-2005光学薄膜折射率和厚度测试仪检定规程》、......
采用空心阴极放电离子镀(HCD)技术，在硅基片上沉积Cr薄膜。用椭偏仪研究了Cr薄膜在大气环境里600°C的温度下，氧化层厚度随时间的变......
在椭圆偏振仪测量原理的基础上，采用Forouhi-Bloomer模型的参数匹配模型，分析非晶硅的物理性质，利用温度与禁带宽度间的关系，得到利用......
We report a non-destructive characterization of planar two-dimensional (2D) photonic crystals (PhCs) made in silicon on ......
基于椭偏仪实验测量的材料表面镜反射率谱数据，分析和结合了多种常用的光滑样片模型的优点，提出了适用于光滑样片的镜反射率谱模型。......
光谱,不仅能反映出低能态的带内电子响应,还可考察电子在能带之间从占据态向未占据态跃迁的现象。在众多光学表征手段中,椭圆偏振......
椭偏仪是研究薄膜与物质表面的一种很重要的仪器，其基本原理是利用偏振光在物质表面反射后偏振状态的变化来测量薄膜的厚度和折射率......
本文为研究γ-MPS/SiO_2界面层厚度与形态,使用自编程序,通过计算机数值模拟和图形分析后确定:当SiO_2膜厚为1250～1450A,激光源入射......
基于单晶硅原子计数原理实现阿伏加德罗常数精密测量以及质量千克单位的复现,需要测量单晶硅球体的质量和体积,球表面几个纳米厚的......
提出了一种用于ＭＯＣＶＤ系统在位实时监测的快速、自动、旋转检偏式激光椭偏仪（ＲＡＥ）。这种椭偏仪可由常规手动消光椭偏仪改装而成。阐述了它的工......
简要介绍了椭圆偏振测量术的基本原理，并对自动椭偏仪进行了介绍。由于自动椭偏仪具有无损探测、测量准确度高和测量迅速等特点，它非......
采用溶胶－凝胶方法制备了ＰＺＴ（５０／５０）薄膜。用椭偏仪和透射光谱分别测量并计算了制备在Ｓｉ（１１１）、石英玻璃基片上薄膜的折射率。研究了薄膜的相结构与折......
我们在硅锗合金衬底上采用氧化等制膜方式生成零维和三维的纳米结构样品,用高精度椭偏仪(HPE)、卢瑟福背散射谱仪(RBS)和高分辨......
Pt Se2是一种新型的过渡金属硫化物,具有室温下超高的载流子迁移率,空气中较高的稳定性等优良的物理性质。此外,其能带结构、吸收......
本文叙述了用计算机控制的椭偏仪测量单轴非吸收薄膜(如氧化钽、氧化钨等)光学参数的方法,包括系统结构、椭偏仪校准、阳极化容器......
本文根据红外电荷耦合器件设计制作中需要对3000(?)～1μm的二氧化硅膜层的厚度进行精确测量的实际问题,通过对干涉显微镜和激光椭圆......
我们使用TP-77型椭圆偏振仪测量Insb表面的光学常数,并探讨了不同抛光方法对Insb折射率的影响。我们选定的入射角为70°。首先测......
在椭偏测量中,吸收膜的三个参数n_1,k_1和d不能由一组测量数据△、ψ求出确定的解。本文讨论由膜的生长或溶解过程中不同厚度时测......
旋转元件式椭圆偏振仪,是一种光度式椭偏仪。它不采用消光原理而以测量椭圆偏振光的强度为基础,利用计算机求出偏振参数ψ、Δ,因......
借助高精度低反射率计和简单的数学处理,便能测出低折射率薄膜的折射率及其色散。
Refractive index and dispersion of low refr......
本文提出了一种多入射角椭偏术无损测定吸收薄膜ｎ、 ｋ、 ｄ的方法（ＱＷＤ－８４法）。叙述了它的基本原理和数据处理方法，探讨了测定技术中的几个要点，给......
给出了一种旋转检偏器式激光自动椭偏仪检偏器方位角的校正方法。方法的基本点是测量同一样品在不同起偏器方位角时反射光偏振状态......
一、引言自动旋转检偏器椭偏谱仪是一种研究薄膜及表面的光学仪器,用于测量不同波长下,样品的折射率n、消光系数k、介电常数e_1和......
各种薄膜工艺参数和质量(厚度、折射率的数值及其均匀性等)的精确、快速测定和控制,在半导体器件生产、研制中有着极其重要的作用.......
本文在旋转检偏器式椭偏仪原理的基础上,通过分析影响椭偏参数Ψ、Δ测量精度的主要因素,提出改进的测量方法,从理论上给出提高Ψ......
变角度光谱椭偏测量技术主要基于电磁场理论和麦克斯韦方程。这些方程的解对于平整表面的回队射，可以表示为偏振光的费涅耳反射系数......
提出一种可同时测量膜厚和折射率的新型快速高灵敏度薄膜测量方法——外差椭偏纳米薄膜测量技术，并给出了理论分析与设计、实验结果......
科研浮躁的一个重要表现是,只重视实验结果或者数据,而对获得这些结果、数据的方法重视不够,所以经常对别人发表的好结果望洋兴叹,......
本文简要介绍了自动椭偏仪的系统结构和硬件电路设计，着重叙述仪器的软件设计。
This article briefly introduced the automatic ......
斯托克斯椭偏仪可快速测量光束的偏振态,仪器矩阵的精确测量是斯托克斯椭偏仪一项非常重要的技术。为提高仪器矩阵的测量精度,基于......
提出了一种利用非线性最小二乘拟合法自校准测量偏振元件Mueller矩阵参数的新方法。通过测量放入待测样品前后输出偏振态的Stokes......
随着硬盘(HDDs)面记录密度的增加,读写数据时磁头的飞行高度不断降低。磁头与磁片表面液体润滑膜的接触,会在表面形成半月板,或润......
本文着重介绍了椭偏术的基本原理及其在腐蚀研究领域中应用的技术问题及解决方法。并应用椭偏仪和电化学测试方法对不锈钢缝隙腐蚀......
建立了铝与不锈钢两个平面磁控靶溅射系统。反应溅射沉积了一组SS-C复合材料、α-C:H与Al-C-F均匀薄膜。运用椭偏仪-分光光度计法......
本文研究了 x,y,z 三种切向的 LiNbO_3单晶片注入350keV 高能 Ti 离子(注入剂量为1.5×10~(17)/cm~2)后的表面光学性能。利用光谱......
测量在空气和真空中３０８ｎｍ准分子激光对Ｃ６０薄膜的刻蚀速率和刻蚀阈值，讨论了环境中氧气对刻蚀特性的影响。
The etching rate and etching t......
本文研究了ＰＥＣＶＤ抗反射膜ＳｉＮ的热退火特性。测量结果表明，经过制备ＧａＡｓ透射光阴极的热压粘结工艺的热退火处理ＳｉＮ薄膜的折射率增加了约０．１，薄膜厚度减少......
