类金刚石碳膜相关论文
在原子级的厚度下,石墨烯展现出优异的机械性能以及超润滑性质,这使其非常适合对涂层厚度以及性能有很高要求的纳米机电系统。基底......
本文根据(Ge/SiO)膜堆红外滤光片特性退化的实验,讨论了特性退化机理,从而找到了改进特性退化的方法,并制备出能经受水、盐水和酸......
自润滑陶瓷轴承的润滑剂来源包括自润滑复合材料保持架、滚道表面改性润滑膜和滚动体表面改性润滑膜。随着无保持架满装氮化硅陶瓷......
微纳米尺度的DLC膜广泛应用于工业领域，尤其在陶瓷球轴承中起到了有效的减摩抗磨作用。本文运用分子动力学方法和有限元法来研究DLC......
本实验利用自制的磁控弧光射频等离子体增强化学气相沉积(RF magnetron PECVD)设备,在生物玻璃片上制备类金刚石碳(DLC)膜,利用探......
本文采用自制的磁控弧光射频等离子体增强化学气相沉积设备在生物玻璃基板上制备类金刚石碳(DLC)膜。采用探针轮廓仪、拉曼光谱仪......
本文采用自行设计的射频等离子体增强化学气相沉积设备(RFPECVD)在生物玻璃基板上沉积了超薄类金刚石碳(DLC)膜,并采用探针轮廓仪......
学位
目前牙种植体修复技术在口腔医学领域的应用已越来越普遍,金属钛是种植体系统最为常用的材料。然而纯钛本身硬度较低、疲劳强度和......
本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)，以甲烷气体为主要碳源，氩气为稀释气体，同时混入不同比例的氢气，在树脂镜片(CR-39)......
本课题采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)，以甲烷气体为主要碳源，氩气为稀释气体，同时混入氢气作为反应气体，在树脂镜片(P......
采用磁控溅射法沉积金属薄膜,退火后采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF-PECVD)和射频磁控溅射两种镀膜工艺在其上沉积类金刚......
类金刚石碳(DLC)膜可以使用多种方法在不同的基底材料上沉积,它不但具有许多与金刚石相近的性质,如高硬度、耐磨损、表面光洁度高......
本文利用中频磁控溅射技术以纯石墨靶/纯石墨靶&甲烷为碳源在单晶硅基底上制备了不含氢/含氢类金刚石碳膜(hydrogen-free/hydrogen......
本文研究了在射频等离子体增强化学气相沉积工艺中不同的预处理方法对不锈钢基底上类金刚石碳膜生长的影响.所沉积的碳膜的结构和......
类金刚石(DLC)膜是含有sp3杂化态的亚稳态非晶碳膜,是具有极高的硬度、化学稳定性和光学透明性的半导体材料。这篇综述介绍了用等......
期刊
以微波激励氙（Ｘｅ）发射的真空紫外（ＶＵＶ）光作光源，乙炔（Ｃ２Ｈ２）作反应气体，氮（Ｎ２）、氩（Ａｒ）和氢（Ｈ２）气为稀释气体，采用直接光化学汽相淀积（ＣＶＤ）工艺，在硅（Ｓｉ）、钼（Ｍｏ）及玻璃衬底上进行......
总结了各种DLC膜的热稳定性及分析手段 ,概述了加热退火情况下DLC膜结构、内应力的变化 ,评述了国内外的最新研究进展 ,并指出了有......
分别采刚带有和不带有弯曲弧磁过滤器的真空阴极弧离子镀方法,在不同镀膜电流以及不同基片偏流下分别制备了类金痧刚石碳膜,对比了......
利用微波ECR全方位离子注入技术,在单晶硅(100)衬底上制备类金刚石薄膜.分析结果表明,所制备的类金刚石碳膜具有典型的类金刚石结......
通过巨噬细胞、纤维原细胞、造骨细胞与DLC的相互作用以及动物实验,结果表明,DLC具有良好的组织相容性.从粘附的清蛋白/纤维蛋白原......
目的在PMMA树脂义齿表面沉积类金刚石碳(DLC)膜改善义齿的耐磨性能.方法采用真空阴极镀膜方法在PMMA树脂及义齿表面沉积DLC膜,应用......
用非平衡磁控溅射的方法在室温下制备了光滑、均匀、致密的类金刚石(DLC)薄膜,分析和研究了DLC膜的形貌、结构和摩擦特性.结果表明......
采用线性离子束沉积技术于AZ80镁合金微弧氧化（MAO）陶瓷层表面沉积不同厚度的类金刚石碳（DLC）膜,形成DLC/MAO复合膜层。对比研究4种膜......
采用系统的正交实验法对ECR-CVD法沉积类金刚石碳膜（DLC）的优化工艺进行研究，并分析不同工艺参数对DLC膜性能的影响。共选择基片温度......
利用PBII技术制备了TiN／DLC和TiN／Ag固体润滑膜，研究了膜层物成分结构及真空条件下的摩擦性能。结果表明：PBII有效地实现了表层润滑膜......
类金刚石碳膜作为低摩擦系数的固体润滑耐磨层越来越受到重视,但其摩擦学行为强烈地依赖于试验条件和膜的本质,而膜的本质又依赖于......
本文利用原子力显微镜(AFM)对电化学沉积的类金刚石碳膜(DLC)薄膜表面形貌进行观察,并初步考察了该薄膜的摩擦学特性.......
利用非平衡磁控溅射法制得厚度达到2.23μm的掺铬含氢类金刚石(Cr-DLC)碳膜。采用Raman光谱和XPS对制得的薄膜进行了结构和热稳定......
采用脉冲直流电源．以甲醇有机溶液作为碳源，在常压60℃的条件下，采用电化学沉积方法在不锈钢表面制备了类金刚石碳薄膜。在电沉积过程......
采用电化学沉积方法,甲醇有机溶剂作碳源,在直流电源作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.薄膜不溶于苯、丙酮等有机溶剂,具有较高的......
以乙炔为气源,用等离子体基脉冲偏压沉积(plasma based pulsd bias deposition缩写PBPBD)技术进行了不同负脉冲偏压条件下制备DLC......
用射频-直流辉光放电PECVD法在KCl透镜上沉积了非晶结构的类金刚石碳膜.测量显示镀覆了类金刚碳膜的KCl透镜在2.5μm～50μm红外范围......
采用直流电源,以有机溶剂作为碳源,通过电化学沉积方法在单晶硅表面制备了类金刚石碳薄膜.用原子力显微镜、拉曼光谱仪和傅立叶红......
改变CHF3/CH4流量比R=[CHF3]/([CHF3]+[CH4]),采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECR-CVD)方法沉积a-C:F:H薄膜.a-C:F:H......
采用液相电化学方法在硅基底上制备了石墨烯掺杂的类金刚石碳复合薄膜,探讨了电化学沉积复合薄膜的机理。利用扫描电子显微镜（SEM）、......
报道了在相同条件下用磁控溅射方法在硅片上制备类金刚石膜和氮化钛薄膜的研究结果,比较了两种镀膜在机械性能和结构上的效果. 实......
采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律.结果发现自偏压随着射频功率平方根而线性增加,随纯Ar和Ar,C2H......
类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。......
用正丁胺作碳源，采用射频辉光等离子系统制备类金刚石碳膜（DLC），沉积在聚合物发光器件中的发光层（MEH-PPV）和铝（Al）阴极间作电子注入层．制备......
以甲醇有机溶液作碳源，应用直流脉冲电化学沉积方法，在不锈钢表面制备了类金刚石碳薄膜．用原子力显微镜、扫描电镜、拉曼光谱仪和傅立......
本文首先使用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备了含氢碳膜，Raman光谱研究表明，当射频功率从500W上升到700W时，I_D／I_G从0......
本论文采用化学镀层法制备了掺杂银纳米粒子类金刚石碳膜的SERS活性基底,并通过对探针分子4-ATP的检测证实了所制备的基底具有较强......
在复杂型腔制件W18Cr4V钢基体上采用磁控溅射法涂镀类金刚石,研究不同的中间过渡层制备复合结构层的DLC碳膜,薄膜中含有sp3杂化碳......
采用真空阴极弧离子镀的方法，以乙炔和氢气分别作工作介质，以氩气为稀释气体，研究了类金刚石碳（ＤＬＣ）膜的制备工艺及其结构和硬度．喇曼光谱分......
采用电化学沉积方法,以甲醇溶剂作碳源,直流电压作用下在单晶硅表面沉积得到碳薄膜.通过研究石墨、金刚石和样品薄膜的XPS和XAES谱......
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本文报道用RFPECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳 (DLC)膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外......
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