基板温度相关论文
近年来，准分子激光器快速发展，并得到广泛应用，推动了紫外薄膜研究的发展。大多数材料在紫外波段呈献明显的吸收，目前对193nm紫外薄膜......
本论文全面介绍了节能镀膜玻璃,特别是低辐射镀膜玻璃的发展概况、节能特性、原理、低辐射膜的种类以及常用的制备方法等,并总结得......
采用双靶磁控溅射镀膜系统,在普通玻璃表面沉积ITO膜层,研究了基板温度和工艺气体对薄膜光电性能的影响.实验结果表明:当基板温度......
用干涉法研究了热蒸发（ＰＶＤ）方法制备的ＣｄＴｅ薄膜材料的红外光学特性．通过对不同基板温度和不同薄膜厚度ＣｄＴｅ薄膜样品的研究，确定了在薄膜沉积过程中......
在不同沉积时间和基板温度下，采用反应磁控溅射的方法在~6ABV基板上沉积TiN薄膜，溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉......
采用EB-PVD方法共蒸发Al-Al2O3-YSZ混合源,在高温合金基体上沉积了梯度热障涂层.研究表明,基板温度显著地影响着梯度热障涂层的微......
研究了利用微波等离子体化学气相沉积方法制备的金刚石膜的拉曼光谱，讨论了金刚石膜中的非金刚石碳相与甲烷浓度、基板温度之间的关......
用直流磁控溅射法成功制备了高价态差掺钼氧化铟(IMO)透明导电薄膜.研究了氧分压,基板温度以及溅射电流对IMO薄膜结构和性能的影响......
针对电子束物理气相沉积（EB-PVD）设备的特点，研究基板温度对材料形成过程的影响。首先建立薄膜生长的基本扩散模型，然后用嵌入原子法（EA......
采用电子束沉积的方法，在紫外熔凝石英基片上制备了LaF3单层膜．研究了基板温度对LaF3薄膜紫外光学性能的影响，基板温度从200℃上升到3......
以单丁基三氯化锡(MBTC)和SbCl3为反应原料,采用常压化学气相沉积法(APCVD法)在不同的基板温度下制备Sb掺杂SnO2薄膜,用XRD、SEM表......
采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2（antimony-dopedt in oxide，ATO）薄膜。研究了基板温度、基板输......
本实验采用真空镀膜技术,在不同的蒸发电流、基板温度和退火温度下制备酞菁铜薄膜。通过激光扫描显微镜（LSM）测试薄膜的表面形貌和粗......
基于椭球模型,模拟了不同基板温度条件下超疏水表面上固着纯水液滴的蒸发过程,探究了蒸发过程中液滴蒸发时间、接触角演变行为、液......
本文设计一种应用于发泡模具的温控系统,包括控制器、温度传感器、触摸屏、报警器、电加热设备和冷却设备;控制器分别与温度传感器......
常压化学汽相淀积(APCVD)硼/磷硅玻璃膜(BPSG)已经确定了最佳条件,能更有效地利用反应剂,得到颗粒杂质比以前少得多的玻璃膜。这些......
采用冷气动力喷涂方法在不同温度的基板表面制备了304不锈钢涂层,研究了基板温度对冷喷涂涂层组织及沉积特性的影响。试验结果表明......
以C4H4SnCl3和SbCl3为反应先驱体,采用常压化学气相沉积法制备Sb掺杂SnO2薄膜,研究了薄膜沉积时间、基板温度以及Sb掺杂量对薄膜结......
采用三步热舟蒸发制作法研制了真空紫外Al/MgF2反射镜,研究了改善制备工艺有效提升反射率的方法。在两层Al/MgF2反射镜制备过程中,......
期刊
<正> 一、引言在真空镀膜中基板的清洁处理是直接影响薄膜质量的关键之一。实验表明,轰击处理能大大提高薄膜与基板的结合力。例如......
文章研究了在实际生产过程中,真空磁控溅射设备下制备ITO膜时,高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO......
磁控溅射自20世纪70年代诞生以来,因较高的沉积率和成膜质量而成为薄膜制备的重要手段之一,被广泛应用于集成电路制造、特殊功能材......
