刻蚀技术相关论文
随着微电子技术的发展，尤其是铁电薄膜制备技术的发展，新型不挥发非破坏性读出存储器ＭＦＩＳ研究近年来受到人们普遍关注。制备ＭＦＩＳ存储器的铁电......
我国微电子进入新的飞速发展时期,新的生产线在不断兴建,集成电路设计公司已超过300多家.但大量的都是中小设计公司,对制版和流片......
近几年来,GaN以代表的新一代Ⅲ-Ⅵ族氮化物半导体材料发展迅猛.GaN具有禁带宽度大,热稳定性及化学稳定性好,电子极限漂移速度大等......
嵌段聚合物可以自发组装为尺寸周期低于100nm以下纳米的结构,进而作为制备具有特定纳米结构材料的模板。嵌段共聚物尺寸小且有高产......
本文报告了一种获得侧壁陡直的硅深槽新技术．实验中采用一种新材料──氮化锆（ＺｒＮ）作为反应离子刻蚀的掩模，所需掩模厚度约５００．采用氟基气体ＳＦ６作......
量子力学中的一个最超乎直觉的结论是粒子具有波动行为。这种波动特性看来不仅对基本粒子（如绕核旋转的电子），而且对于自由粒子束也存......
介绍了深紫外光刻技术、电子束光刻技术、Ｘ射线光刻技术以及与这些技术相关的一些单元技术的最新进展，概要介绍了这些技术最热门的研......
在0.13μm铜连线技术节点上,双镶嵌等离子体刻蚀的优化是最具有挑战性的问题之一。通过理论模型分析和实验对双镶嵌结构的刻蚀技术......
据《Solid State Technology》2004年第8期报道,日本NTT的基础材料科学实验室宣布,他们已经成功开发出一种可以提供微机电系统(ME......
用x光电子能谱(ESCA)和俄歇电子能谱(AES)结合氩离子轰击刻蚀技术来获得抗唆合不锈钢Cr20Mn10Ni4Si3N的组成元素在表层的随深度分......
在InP衬底上采用感应耦合等离子体刻蚀技术制备了高性能的AlAs/In0.53Ga0.47As/InAs共振隧穿二极管.正向偏压下PVCR=7.57,Jp=39.08......
二硫化钼与金属相摩擦可在金属表面上形成一层MoS_2转移膜。这种转移膜对润滑效果有着重要的影响。在相同的摩擦条件下,不同金属底......
近日,应用材料公司宣布推出先进的Applied Centura TetraTMIII掩膜刻蚀设备,它是目前唯一可以提供45纳米光掩膜刻蚀所需要的至关重......
为了分析干法刻蚀对应变多量子阱(SMQWs)发光特性的影响,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术对金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长......
软刻蚀制备组织工程3D可生物降解、生物相容性好的几何图案聚合物微结构,方法简单,使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)作为弹性铸膜.高分辨......
双重图形需要更新更苛刻的刻蚀能力,要求低于1.5nmCD均匀性、图形收缩和原位多层刻蚀。多数双重图形(DP)或多步图形化方法正处在研......
蘸水笔刻蚀(dip-pen nanolithography,DPN)技术是近年来发展起来的基于原子力显微镜(AFM)的一种扫描探针加工技术,有着广泛的应用......
利用普通光刻和感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术制作了红光GaInP/AlGaInP正方形微腔激光器,光功率电流曲线表明,器件实现了200 K的......
设计了基于绝缘层上硅(SOI)材料的8通道Si纳米线阵列波导光栅(AWG),器件的通道间隔为1.6nm,面积为420μm×130μm。利用传输函数法......
应用材料公司发布了基于Applied Centura~(?)Silvia~(TM)刻蚀系统的最新硅通孔刻蚀技术。新的等离子源可将硅刻蚀速率提高40%,快速......
激光热刻蚀技术是近年发展起来的利用激光热刻蚀薄膜的热变化阈值特性突破光学衍射极限进行纳米图形制备的新技术,在亚波长纳米结......
在普通大功率垂直腔面发射激光器(VCSEL)基础上,制备出了底部出光纳米孔径VCSEL。利用聚焦离子束刻蚀技术完成纳米孔径的制作。当......
等离子体深刻蚀技术是MEMS制备的关键,利用该技术进行刻蚀时,会出现lag效应和反常lag效应,严重影响器件的性能。为了消除lag效应,......
面向光印刷互连背板的应用需求,提出基于准分子激光消融原理对光波导的刻蚀技术进行研究,在背板上任意位置获得光波导端面实现光耦......
胶体刻蚀作为一个新兴的通用构造技术，拥有低成本和大面积的特点。我们利用改进的胶体刻蚀技术，制备了具有优良等离子体共振性质......
我们利用改进的胶体刻蚀技术，并结合掩蔽刻蚀和可控沉积，制备了具有纳米间隙的纳米火山-圆盘复合阵列。圆盘与火山内壁之间的间......
纳米科学技术是指在0.1～100纳米尺度上研究和应用原子、分子现象,并由此发展起来的基础和应用研究紧密联系的新的科学技术。它是基......
小，还要更小 20世纪末至本世纪初，纳米技术的发展给传统艺术带来了巨大冲击。其中，一个重要的特征就是艺术作品的小型化与微型......
据国家自然科学基金委员会2001年8月6日报道,由北京大学曹维孝教授主持、北京大学与清华大学合作完成的国家自然科学基金重点项目......
我们在铝衬底上制作了不同参数条件下的阳极氧化铝(AAO)模板。通过改变初次阳极化时间来得到不同尺寸的纳米孔。改变初次阳极化时......
采用纳米球刻蚀技术中漂移法在玻璃基片上制备较大面积不同直径的聚苯乙烯小球掩模板,采用磁控溅射技术在掩模板上沉积不同厚度的......
企业技术创新主体地位基本确立,科技创新与经济发展紧密结合,发明创造在创新驱动中起关键作用,创新型科技人才成为重要力量,海归获......
采用纳米球刻蚀法结合热蒸发技术制备了银和氧化硅交替层叠的纳米颗粒阵列.扫描隧道显微镜测量结果表明,该纳米阵列呈锥形多层结构......
纳米球刻蚀技术和磁控溅射方法在普通玻璃衬底上制备有序氧化锌(ZnO)纳米阵列。利用扫描电子显微镜对样品表面形貌进行了观测,并对......
用XPS考察了USY和FSY超稳Y型沸石及其起始原料NH_4Y沸石的表面组成,并结合Ar~+刻蚀技术与其体相组成进行了比较。结果表明,NH_4Y沸......
利用ＸＰＳ技术观测１．３５Ｖ恒电位极化形成的铅和铅锑合金阳极膜，发现锑对阳极膜表面层二氧化铅的生长有明显抑制作用；利用ＡＥＳ结合Ａｒ＋刻蚀技术对其内层主......
采用光刻技术、刻蚀技术和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在线阵掩模微结构表面沉积了SiO2和Si3N4薄膜,研究了线阵掩模的宽......
目的观察３．２ｍｍ切口行白内障超声乳化摘除及折叠式人工晶体的临床疗效。方法对１０８眼白内障行单一垂直刻蚀技术，辅以切劈技术，并植入折叠式人工......
