约束刻蚀剂层技术最新进展——用于规整微结构图形加工刻蚀

来源 :第四届全国微米/纳米技术学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：acmevb

【摘要】

：

本文简要介绍了电化学应用于微系统技术中的几个例子,着重介绍了约束刻蚀剂层技术(CELT)在微加工方面的最新研究进展,用规整微结构模板对半导体材料的加工刻蚀.

【作者】

：

孙建军黄海苟田中群田昭武蒋利民罗瑾穆纪千叶雄英周兆英张涛孙立宁

【机构】

：

厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室,化学系,物理化学研究所(厦门)

【出处】

：

第四届全国微米/纳米技术学术会议

【发表日期】

：

2000年期

【关键词】

：

约束刻蚀剂层技术微结构图形加工微系统技术半导体材料结构模板化学应用加工方

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