约束刻蚀剂层技术相关论文
微/纳米技术正逐步广泛深入地渗透于材料、信息、能源、微电子、环境、生物、医学和国防安全等众多领域。为了将微/纳米科技领域的......
随着科技的快速发展,微机电系统、大规模集成电路、超精密光学系统等制造领域对微纳米加工技术的要求越来越高,传统微纳米加工技术......
当前微电子技术和微机电系统技术等微纳米科技不断发展进步，它们的共同特点均是依赖于尺寸在微米或纳米范围内的功能元件和结构。实......
今天，随着微机电系统（MEMS）的迅速发展，微型化、集成化、智能化已成为科学技术中最为重要的发展趋势。微系统将成为21世纪最具挑战性的......
微机电系统(MEMS)自上个世纪80年代诞生以来,就不断的推动着制造技术向微型化发展。其中利用电化学方法进行微纳米尺度的加工方法,......
以微齿轮图形结构作为规整模板 ,用约束刻蚀剂层技术对GaAs样品表面进行了加工刻蚀 .在有捕捉剂H3AsO3存在的情况下 ,规则微齿轮图......
该文主要包括以下几方面的内容:1、回顾了微系统的发展历史,论述了微系统与电化学之间的关系,包括电化学在微系统中的应用以及微系......
本学位论文以约束刻蚀剂层技术(Confined Etchant Layer Technique，CELT)为研究对象，根据其技术原理与特点提出一种大面积加工的新方......
研究了镁合金的约束刻蚀微加工方法.通过对电解过程中电极表面氢离子浓度变化以及刻蚀体系对镁合金的腐蚀速率的测量与分析,对一些......
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术.本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的......
<正>高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义.虽然光刻技术仍处于主导地位,但近年来许多新颖的微加工方......
应用约束刻蚀剂层技术（CELT）对GaAs进行电化学微加工.研究了刻蚀溶液体系中各组成的浓度比例、GaAs类型、掺杂以及阳极腐蚀过程对GaA......
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工，以规整的三维齿状微结构作模板，获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕......
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学......
本文对用于三维超出图形复制加工的约束刻蚀剂层技术进行了可行性研究。分析了刻蚀剂的扩出过程对电化学微细加工分辨率的影响，证明......
The etching resolution of electrochemical fabrication technique is influenced significantly by the diffusion layer of th......
微机电系统（MEMS）和微光机电系统（MOEMS）是当今科学技术的热点研究领域之一。微机电系统,泛指体积微小、集微型机械、微型传感器、微型......
工艺简单、用途广泛、能批量加工复杂三维微/纳结构的加工技术一直是微/纳加工领域的研究热点。近来,利用电化学手段进行三维微/纳......
详细阐述了硅微加工工艺以及近几年内国际上开发的一些新的加工技术,如3D电化学微加工、EFAB工艺等,并提出了目前这些方法中存在的......
砷化镓(GaAs)作为一种III-V族半导体材料,具有十分广泛的应用。在利用砷化镓晶片制造各种器件的过程中,常用的微纳加工方法通常无......
随着微机电系统（MEMS）技术的快速发展，大面积复杂三维微纳米结构的批量加工方法已成为当前高新技术领域的一个研究热点，各种可能的加工......
微／纳米科学技术作为二十一世纪的关键高新技术之一，将导致人类认识和改造世界能力的重大突破。而具有强烈交叉学科色彩的微系统(或......
随着科技的发展，现代制造日益趋向功能集成化、外形微小化和超精密化方向发展。面向精密微机电器件的微纳加工技术已经成为国内外研......
随着医药、生物、航空、军事等领域的技术革新和发展，人们越来越需要用一个微小器件就能执行许多功能，尤其是半导体技术的发展对微纳......
铜具有低的电阻率和高的电子迁移阻力,在半导体产业中作为为集成电路的互连材料而得到广泛的应用。为了解决随集成电路小型化而出......
随着微机电系统、微光学、微芯片等领域的发展，促进了微／纳加工技术的发展与完善。微细加工技术是当今微机电系统领域研究的热点和核......
随着光学制造技术与微电子技术的发展,应用领域对材料表面损伤与缺陷的限制越来越严格。以砷化镓单晶片为例,为保证经过外延生长、......
随着现代科技的快速发展，微纳米技术产品诸如微电子、微机电系统（MEMS）等，逐渐在生产和生活中发挥重要的作用。它们的共同特点是结构或......
在集成电路(Integrated Circuit,简称IC)制造过程中,需要对铜互连层进行平坦化加工。化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing......
介绍电化学微/纳米加工技术,特别是厦门大学电化学微/纳米加工课题组建立起来的约束刻蚀剂层技术,旨在让广大师生了解这一特种加工......
