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随着科技的快速发展,微机电系统、大规模集成电路、超精密光学系统等制造领域对微纳米加工技术的要求越来越高,传统微纳米加工技术普遍存在亚表层损伤、热应力、工具磨损等问题,而电化学微纳加工技术因其无切削力、加工过程稳定,加工效率高、表面质量好等优势受到了广泛关注。其中,约束刻蚀剂层技术(CELT)作为电化学诱导的化学刻蚀技术的一种,除了具有电化学微纳加工技术的优点以外,还具有加工不受工件原始粗糙度影响,适用于导体、半导体和绝缘体材料,可用于加工硬脆材料等优势。研究表明,约束刻蚀过程与运动流场之间存在着显著