基体偏压相关论文
为了防止氢扩散而导致金属材料的失效，通常在其表面制备一层CrN阻氢薄膜。但是CrN涂层的热稳定性较差，抗氧化温度低于600 ℃。采用高......
在严苛海洋环境下，传统单一的Ti掺杂类金刚石薄膜（DLC）无法满足减摩耐磨及耐腐蚀性能的要求，仍需进一步探索。为促进DLC薄膜在严苛海洋......
以高速干切削为代表的绿色加工制造业快速发展,迫切需要提高刀具涂层的宽温域使役性能,相较于作为刀具涂层而被广泛使用的传统金属......
采用高功率脉冲磁控溅射方法在不同基体偏压下的钢基体上沉积含Cr过渡层的DLC薄膜.利用原子力显微镜、场发射扫描电镜、Raman光谱......
利用多弧离子镀技术在Ti6A14V合金基体表面制备TiAIN陶瓷涂层.采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪( EDAX)对其组织形貌及成分进行了......
本文采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在载玻片、铝合金和单晶硅基体上制备了AISn20/C镀层。采用X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描......
采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的 (Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳......
研究磁场增强高功率脉冲磁控溅射技术的放电特性在不同工作参数下的演变规律.利用数字示波器采集HiP-IMS的基体离子电流用于表征其......
利用磁场增强的石墨阴极弧在Si片和M2高速钢上沉积了ta-C薄膜,重点研究了基体偏压对膜层截面形貌、沉积速率、膜层结构、耐腐蚀性......
电弧离子镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展.但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如弧......
应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能.......
采用磁控溅射技术在不同基体偏压(-60,-70,-80,-90 V)下制备了CrAlN纳米多层薄膜,研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响......
期刊
应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能。......
利用直流磁控溅射技术制备了三元硼碳氮（BCN）薄膜，通过改变靶功率（70W和210W）和基体偏压（-50V～-400V）得到不同成分和组织结构的薄膜。采用x......
采用镶嵌靶反应磁控溅射技术，通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的（Ti，A1）N硬质薄膜，并用XRD，EDS及纳米压入......
采用高纯硅靶和氮气,以直流非平衡磁控溅射技术在单晶硅表面制备氮化硅薄膜。借助台阶仪、原子力显微镜、红外光谱和X射线光电子能......
为了表征硬质合金工具涂层的内应力状态,利用阴极电弧法沉积制备各类单层和纳米多层硬质涂层,在不同的涂层偏压及反应气体分压的成......
采用脉冲偏压电弧离子镀技术沉积了CrN薄膜，并考察了在不同偏压下薄膜的表面形貌、相结构、显微硬度和耐磨性．随着偏压的增加，CrN薄膜......
为了研究基体负的低偏压Vb对氟化非晶态碳膜的结构、纳米硬度和疏水性能的影响,采用等离子体浸没与离子注入装置,CF4和CH4作为气源......
一种TiO2纳米光催化不锈钢和钛纤维丝条及其制备方法，在宽0．3—3mm、厚0．01—0．1mm的不锈钢和钛纤维丝条的前后表面上涂镀有TiO2纳米薄......
采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响。结果表明,氮......
为研究基体偏压对AlCrSiON纳米复合涂层结构、力学性能和热稳定性的影响规律及机制,采用电弧离子镀技术在硬质合金基体上沉积AlCrS......
AlCrSiN涂层因具有高硬度、优异的耐磨损性及抗高温氧化性而备受关注。为提高AlCrSiN涂层的性能,采用电弧离子镀技术制备了AlCrSiN......
通过分析不同基体偏压下磁控溅射(PVD)CrAlN薄膜的结构特征、硬度规律及磨痕形貌,研究基体偏压对CrAlN薄膜的结构、硬度及摩擦磨损......
采用离子束辅助真空脉冲过滤弧沉积技术,在硬质合金基体上制备了TiN涂层。对涂层的物理性能和机械性能进行了分析,利用XRD、SEM分......
利用4靶非平衡磁控溅射离子镀技术在Si（100）和W6Mo5Cr4V2高速钢基体上沉积类石墨镀层,研究了基体偏压与类石墨镀层的显微硬度、摩擦......
目的研究不同基体偏压对AlTiN涂层性能的影响,以得到车削高温合金性能最佳的AlTiN涂层。方法采用多弧离子镀技术,在不同偏压下在WC......
目的实现性能优异的CrN薄膜在低温沉积条件下的可控制备。方法利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS),通过调控脉冲放电波形(可调控......
基体偏压是多弧离子镀沉积TiAlN涂层工艺中的一个重要参数，它对涂层的结构以及涂层生长速度有重要影响。通过改变沉积过程中的基体......
采用多弧离子镀的方法,在1Cr13不锈钢及黄铜镀铬基体的表面上制备了氮化钛仿金装饰膜层.通过试验,得到了不同工艺参数情况下各种氮......
针对Cu/金刚石复合材料表面电绝缘性差的缺点,利用多弧离子镀技术在Cu/金刚石复合材料表面镀AlN膜层,基体偏压分别为-200、-300和-......
为了获得性能更加优异的刀具涂层,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在Ar/N 2混合气氛下制备了AlCrN涂层,研究了不同基体偏压对......
真空溅射镀膜是提高零部件表面性能、延长其使用寿命的一种重要手段。然而对复杂形状工件,如头罩、凸轮、模具等,工件表面不同部位......
本文利用多弧离子镀(Arc ion plating,AIP)技术在高速钢和硬质合金基体上制备了不同基体偏压和氮气分压的AlCrTiSiN/AlCrN涂层,利......
为使手术器械获得强耐蚀性和抗污染性等优异性能,根据“荷叶效应”,本研究创新性地在手术器械材料304不锈钢表面用化学溶液刻蚀出......
在磁控溅射离子镀技术中基体偏压对镀层的微观结构及性能有较大的影响。类石墨(Graphite-Like Carbon简称GLC)镀层是一种以SP~2键......
为了成功的将闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的CrAlTiN镀层应用于铣刀,提高铣刀的使用寿命,本文选择了五种不同的基体偏压在......
利用阴极电弧法在硬质合金基体上沉积制备 TiCrN,采用不同的基板偏压或气体分压的成膜条件,制备了硬度和结晶结构不同的涂层,我们......
目的实现对AlTiSiN纳米复合涂层微观组织结构的调控及力学性能优化。方法利用可调控脉冲磁控溅射技术,通过调控基体偏压(-50~-250 ......
