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为了适应光电子行业对特殊光学性能的要求,本文研究了双折射光学薄膜的理论设计方法、制备工艺。主要涉及以下几个方面的内容:
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采用磁控溅射技术在复杂形状工件表面沉积薄膜过程中,工件各表面与溅射靶之间存在不同角度,这造成了薄膜的斜入射沉积。在斜入射沉......