MPCVD相关论文
目前受控热核聚变能被认为是能够有效解决人类未来能源需求的清洁新能源,燃烧等离子体、托卡马克聚变堆工程技术、聚变堆各类材料......
本文研究了在反应气体中引入不同浓度的CO2对微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法同质外延生长单晶金刚石内应力的影响，并对其作用机理......
被称作“终极半导体材料”的金刚石是目前最具发展前途的半导体材料。然而,由于金刚石尺寸及价格的限制使其很难快速推动金刚石半......
采用微波等离子化学气相沉积(MPCVD)法,以高纯甲烷和氢气为反应气体,在TiZrHf中熵合金表面碳化-沉积获得碳化物/金刚石涂层.利用扫......
The diamond nanowires are expected to possess unique mechanical and electronic properties,such as the predicted brittle ......
宽禁带半导体碳化硅(SiC)薄膜因其高热导率、高电子迁移率和高饱和电子漂移速度等优异性质而受到广泛关注.同时,其稳定的化学性质......
C3N4 films have been synthesized on both Si and R substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) metho......
为了在氧化铝上制备 (100)定向织构的金刚石薄膜，必须先提高金刚石的成核密度。在微波 等离子体化学气相沉积（ MPCVD）系统中，采用低压......
用微波等离子体化学气相沉积法（ MPCVD）在氧化铝陶瓷衬底上成功地制备出具有 [100] 织构的金刚石薄膜，并对该薄膜进行了 X射线衍射（ XR......
采用微波等离子体化学气相沉积（ MPCVD）法在附有 SiO2掩摸的硅衬底上选择性沉积出 了金刚石膜。采用扫描电子显微镜（ SEM）和 Raman光......
采用微波等离子体化学气相沉积（ MPCVD）法成功地在多孔硅上沉积出均匀、致密的金刚 石膜。光致发光测量表明，金刚石膜可以有效稳定多......
金刚石具有优异的光学、声学、热学、力学和电学等性质,且应用面十分广泛,是21世纪最具发展前景的材料之一。庞大的市场需求和前景......
为了满足生命科学、医学、微电子和光学等前言科学对高品质真空窗口的需求,制备高致密度高质量的纳米金刚石真空窗口变得越来越迫......
微波等离子体化学气相沉积法(microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD),因具有无电极放电污染、沉积速率快、稳定性好......
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。研究碳纳米管膜在放电过程中对其场发射性能的影响......
应用微波等离子体辅助的化学气相沉积(MPCVD)工艺成功地实现了金刚石薄膜在700-790℃范围内的低温沉积.发现氧在CH_4-H_2系统中的......
从等离子体发射光谱变化这一角度研究在不同沉积条件下等离子体中电子平均能量的特点，分析碳源气体分子与电子的碰撞以及碳氢基团的......
研究了磁等离子体化学气相沉积的不同工艺条件对ＳｎＯ２薄膜导电性的影响．实验结果表明，外加适当位形、大小的纵向磁镜场，可使等离子体化学气......
用微波等离子体化学气相沉积 ( MPCVD)法在氧化铝陶瓷基片上沉积了金刚石薄膜。实验表明 ,对基片进行适当的预处理 ,包括用金刚石......
用微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD)在硅片和铂基片上生长了氮化碳薄膜。扫描电镜(SEM)观察显示 ,在硅片上形成了多晶的膜 ;EDX......
采用微波等离子体技术在CH4-H2-C2H6气体条件下制备了钛基掺硼金刚石薄膜。四点探针法测得薄膜电阻率在零掺杂时为1×1012Ω·cm,......
研究了硬质合金基体的预处理对金刚石沉积的影响，并确定了用 MPCVD法在 WC－ Co刀具 上沉积金刚石薄膜的工艺参数。采用了一些提高成......
本文介绍微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)金刚石的研制及其应用研究.讨论了影响RF级金刚石膜生长的各种参数及其选择原则,给出了......
本文综述MPCVD金刚石的应用与展望.结合金刚石的各种优异性能,介绍金刚石在微波真空器件、光学武器、信息技术、生物医学和能源等......
本文以高温高压(HPHT)合成的金刚石为籽晶,通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)外延生长金刚石方法,研究了金刚石表面沟槽的横向......
介绍了用MPCVD方法制备纳米金刚石膜的工艺。用MPCVD方法实验研究了在光学玻璃上镀纳米金刚石膜:膜层厚度为0 4551μm,粒度小于200......
金刚石薄膜具有一系列优异性能,使其在多种领域得到广泛的应用,但是常规CVD金刚石薄膜晶粒度较大,呈柱状生长,表面较粗糙,同时高硬......
The effect of substrate holder size on the electric field and discharge plasma on diamond-film forma
本文通过对荣华二采区10...
该论文采用偏压增强微波等离子体化学气相沉积法(Bias-enhanced MPCVD)在附有SiO掩膜图形的镜面抛光的Si(100)衬底上成功地选择性......
本文采用微波等离子体化学气相沉积方法（MPCVD）研究在氧化铝陶瓷基片上沉积[100]定向织构金刚石薄膜的生长工艺和机理探讨.研究表明,......
该文详细介绍了自行研制的2450MHz/5KW带有石英玻璃窗、水冷却不锈钢腔体微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置.论述了包括微波系......
本文系统地研究了在硬质合金上MPCVD沉积金刚石薄膜的实验过程中，甲烷浓度、沉积气压、气体流量、基体温度等不同实验工艺参数对金......
该论文利用金刚石的宽禁带、高电阻率、低原子序数等优异性能,研制具有高信噪比、结构简单、抗辐射的单元金刚石薄膜粒子探测器.采......
宽禁带半导体碳化硅(SiC)薄膜因其高热导率、高电子迁移率和高饱和电子漂移速度等优异性质而受到广泛关注.同时,其稳定的化学......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
在硬质合金刀具表面沉积金刚石涂层是提高其切削寿命和切削性能的有效途径,然而在金刚石涂层沉积过程中由于刀具基材中钴催化石墨......
采用自制的1 kW石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积装置,以氢气和甲烷作为气源在镜面抛光的(100)面单晶硅片上沉积了金刚石薄膜。......
金刚石具有诸多优异的物理和化学性质,使得它在许多高新技术领域如:热沉、光学窗口、光导探测器等方面拥有广阔的应用前景。MPCVD......
通过微波等离子体化学气象沉淀装置(MPCVD),分别选用CVD金刚石种晶、HTHP金刚石种晶进行同质外延生长,用以合成单晶金刚石,对比两......
Systematic research on the performance of self-designed microwave plasma reactor for CVD high qualit
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
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Mechanical Properties and Uniformity of Nanocrystalline Diamond Coating Deposited Around a Sphere by
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
C3N4 films have been synthesized on both Si and Pt substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) meth......
利用MPCVD方法在玻璃基片上成功的制备了非常光滑、致密均匀的纳米金刚石膜。沉积工艺分为两步 :成核 ,CH4 /H2 =3% ;生长 ,O2 /CH......
