【摘 要】
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利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜场发射性能的影响
【基金项目】
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河南省教育厅自然科学基金资助项目（2008B140004）
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利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜场发射性能的影响。结果表明,不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,其中起主要作用的是反应温度和气压。保持氢气的流量（100mL/min）不变,温度为700～800℃时,反应室压强为6.5kPa时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀。
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