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高功率MPCVD相关论文
工艺参数对高功率MPCVD金刚石膜择优取向的影响研究
使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源、沉积功率8 kW条件下,在不同CH4浓度、沉积温度和气体流量工艺条件下制备了......
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金刚石膜
高功率MPCVD
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择优取向
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