氧氩比相关论文
为了有效提高柔性薄膜晶体管的电学性能，室温条件下，在聚酰亚胺（PI）衬底上使用HfO2、Ta2O5两种高介电常数材料相结合的叠层结构代替单......
在室温及不同的氧氩比条件下,采用射频磁控溅射Ag层和直流磁控溅射SnO2层,在载玻片衬底上制备出了SnO2/Ag/SnO2多层薄膜.用霍尔效......
探讨氧氩比对ZnO薄膜晶体结构和导电性能的影响。利用直流反应磁控溅射法在硅衬底上沉积C轴择优取向的ZnO晶体薄膜，在其他反应条件......
不同氧氩比对于ZnO薄膜的结构及其荧光发光的影响。随着氧氩比的增加,ZnO薄膜（002）面的衍射峰明显增高,且变得更尖锐,薄膜的晶化得到......
摘要：V2O5是一种具有热致相变特性的新型非线性光学材料，被广泛应用于激光致盲防护领域。V2O5薄膜的表面粗糙度是影响其性能的重要因......
利用直流反应磁控溅射法在硅衬底上沉积C轴择优取向的ZnO晶体薄膜，在其他反应条件不变的情况下，改变氩氧比，测量了样品的晶体结构和导......
氧化锌作为一种良好的发光材料广泛应用于太阳能电池、气敏传感器、紫外探测器、光电器件、透明电极等诸多领域。文章应用磁控溅射......
摘要：用直流磁控溅射制备TiO2薄膜，分析了氧氩比和溅射功率两项制备参数对退火后形成的锐钛矿二氧化钛薄膜亲水性的影响。实验结果表......
采用磁控溅射,通过氧氩比的调制在玻璃衬底上沉积了单斜结构的Cu O薄膜,并重点研究了氧氩比对薄膜微结构及光学吸收边的影响。研究......
利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下在石英玻璃基底上制备Cu2O薄膜,研究了O......
采用射频磁控溅射法利用铜靶在硅片和蓝宝石衬底上制备CuO薄膜,研究氧氩比对CuO薄膜的晶体结构、表面形貌和光电特性的影响。X射线......
利用中频脉冲磁控溅射工艺制备ITO薄膜,研究了在衬靶间距为60 mm、衬底温度为350℃、溅射功率为120 W、溅射气压为0.2 Pa的条件下,......
近些年来,锂离子电池在人们的生产和生活中扮演重要角色,它能量密度高、方便携带、使用寿命长,服务了我们生活的方方面面。而随着......
文章基于脉冲直流磁控溅射技术,在普通钠钙玻璃上沉积ZnO薄膜,主要研究了沉积过程中基底温度和O2/（O2+Ar）流量比对ZnO薄膜的结构,表......
在通氩气和不同比率氧氩混合气体的条件下,利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备铝（Al）掺杂氧化锌（AZO）薄膜（溅射功率为180W,衬底温度为3......
