干法显影相关论文
非银感光材料是使用卤化银以外的无机或有机光敏物质所制成的各种感光材料,它于20世纪50年代后发展成为一个新体系。借助于光、电......
第 2 9届国际影像科学大会 (ＩＣＩＳ’0 2 )和国际影像科学委员会 (ＩＣＩＳ)会议于 2 0 0 2年 5月 1 3日 - 1 7日在日本东京都召开 .本届大会由国......
光导热塑料是一种新型的全息记录材料,和普通银盐底片相比,有以下几个主要的特点:(1)实时、原位、干法显影:热塑料不需要化学药液(......
本文叙述了国外缩微胶片的分类、特性和保管情况,并对国内缩微胶片的现状和开发方向,提出了自己的看法。
This paper describes t......
美国贝尔研究所用该公司研制的 x 射线曝光装置、x 射线用掩模和可用干法显影的新的光致抗蚀剂制成了门延迟时间为40ps 的环型振......
本文报导了采用X线曝光技术制造有效沟道长度为0.3微米的MOS场效应晶体管的试制例子。用这种场效应晶体管构成的19级环形振荡器延......
一、前言一般所说的光致抗蚀剂,就是化学蚀刻掩模上涂布的高分子感光材料。从用于半导体元件制造的柯达公司的商品—Kodak Photo ......
本文讨论工艺技术,以声表面波器件用的微米和亚微米线宽的叉指电极为议题,概括了国外声表面波器件工艺技术的现状,从声表面波器件......
MMST工程的光刻技术关键取决于i线（365nm）和深紫外（248nm）激光光学重复步进曝光机。大多数的图形层制作均使用传统的用湿法显影的抗蚀......
本文介绍了微电子制造科学和技术（MMST）规划中所要使用的设备及工艺，这些工艺是在由测试台（AVP，由TI公司，设计和制造的先进真空处理器）和......
【正】 用光导材料硒(Se)或氧化锌(ZnO)制成的静电复印设备,由于其充电、显影、转印、清洁等过程都是在光导材料表面进行,所以容易......
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展......
本文介绍利用普通接触式曝光系统和等离子刻蚀机来制作亚微米线条。基本工艺是用深紫外线作为光源，对曝光后的光刻胶在ＨＭＤＳ或ＴＭＤＳ气氛下加热......
<正> 施乐公司最近推出一种高分辨率干法显影软片,这种材料被称为VerdeFilm,它可以使彩色分色片或黑白图像一步成像,就象把一张纸......
