【摘 要】
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一、前言一般所说的光致抗蚀剂,就是化学蚀刻掩模上涂布的高分子感光材料。从用于半导体元件制造的柯达公司的商品—Kodak Photo Resist,到类似的材料,都称之为“光致抗蚀剂
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一、前言一般所说的光致抗蚀剂,就是化学蚀刻掩模上涂布的高分子感光材料。从用于半导体元件制造的柯达公司的商品—Kodak Photo Resist,到类似的材料,都称之为“光致抗蚀剂”(Photoresist)。近来,由于照射用的光源已从可见光扩展到X射线,
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