双面光刻相关论文
该文主要阐述了真空微电子压力传感器敏感薄膜研制实验，着重在双面光刻，各向异性腐蚀，腐蚀自停止等几个方面做了阐述。腐蚀的薄膜厚度......
介绍了双面PSD器件的结构原理及其制作技术。重点介绍了双面对准技术，解决了双面PSD器件的工艺难题，研制出了灵敏度高、线性度好的双......
对于长线列焦平面器件,简单的单孔冷屏往往不能有效地抑制背景。本文在Hg1-xCdxTe光伏探测器背面镀制微孔冷屏的办法来降低背景，测......
采用基于半导体工艺的光刻、化学腐蚀等微细加工方法在石英晶体基片上批量制作石英音叉.化学腐蚀石英音叉时,叉指的一个侧面中央有......
重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能.该......
介绍了当今世界光刻技术的发展趋势,重点阐述了双面深度光刻机控制系统的功能、组成及各组成部分的软、硬件设计,最后简要总结了控......
总结了毫米波混合集成电路的工艺技术。讨论了影响电路性能的关键工艺因素，优化了工艺条件，确定了最佳的工艺参数，从而研制成功了多种......
基于MEMS器件的特殊结构,介绍了硅基电容式传感器MEMS器件刻蚀工艺的实现,工艺包含厚膜光刻、双面对准套刻和深沟槽刻蚀等难点.通......
本文简要地介绍了H~+-ISFET(氢离子敏场效应晶体管)的基本结构和工作原理,分析了目前多数常规H~+-ISFET在结构上的不足之处和对实......
双面PSD器件具有很高的灵敏度、良好的瞬态响应特性、紧密的结构以及简单的处理电路等优点。介绍了PSD器件的制作技术。重点介绍了......
介绍了双面光刻对准原理及技术新发展，表明了不变焦对准的技术优势。针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样，经重新调焦，利用基片透......
