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SB-601型曝光机主要用于功率电子器件、传感器、光电子器件、GaAs微波器件、微波电路、MEMS(微电子机械系统)以及其它新型电子元器......

本文简要介绍了ＳｕｓｓＭＡ２５双面对准曝光机的特点，对准原理以及它的一些关键结构。......

针对激光划片机中提出的双面图形加工要求，设计了双面对准光路系统．满足图形双面识别和激光划片的要求。介绍了正反面光路结构的设计......

介绍了双面光刻对准原理及技术新发展，表明了不变焦对准的技术优势。针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样，经重新调焦，利用基片透......

根据国内外双面对准曝光机中双面对准曝光技术及工艺的发展，系统地对目前国内外典型的几种双面对准原理进行了比较与分析。......

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究，并通过多年工作实践经验，对对准工作台的精度分析作了......

综述了国外近十多年来双面对准曝光机及其对准技术的发展，介绍了以面曝光机采用的红外对准技术和Ｋａｒｌ Ｓｕｓｓ、ＪＢＡ、ＯＡＩ、ＵＳＨＩＯ Ｉｎｃ、Ｕｎｉｏｎ、Ｅｌｅｃｔｒｎｉｃ Ｖｉｓｉｏｎｓ Ｃｏ。等公司研制的......