低温缓冲层相关论文
使用金属有机物气相沉淀方法(MOCVD),在GaAs衬底上生长InP外延层.先在GaAs衬底上生长一层低温InP缓冲层,然后再生长InP外延层.通过......
本文通过对于生长过程的在位监测,以及生长后的外延片的结晶和表面测量,研究了在MOCVD生长中,研究了低温缓冲层生长速率对于外延层......
提出一种结合低温缓冲层和应变超晶格优势的制备方法，利用超高真空化学汽相淀积(UHV/CVD)设备，在Si(100)衬底上外延出厚度约为880 nm......
用低压金属有机物气相外延(LP-MOCVD)技术,采用低温缓冲层生长法,在GaAs(100)衬底上直接生长了高质量的InP外延层。12 μm InP(0......
采用两步生长法用金属有机物气相外延技术在GaAs(100)衬底生长InP,用原子力显微镜探索了退火和未退火的低温缓冲层以及InP外延层的......
本文采用多低温缓冲层法和高低温联合缓冲层法在MOCVD系统上生长GaN外延膜,对薄膜进行了X射线衍射和光荧光(PL)测试,(0002)X射线摇......
本文通过自制的在位监控系统对MOCVD方法生长GaN缓冲层的特性及其对外延层质量的影响进行了深入的研究.实验结果表明,GaN低温缓冲......
铁电薄膜因具有优秀的铁电、介电、光电、非线性光学特性被普遍应用于各类微电子集成器件中。但是,传统的钙钛矿型铁电薄膜如Pb(Zr......
本论文在理论上分析了锑化物半导体材料的基本性质，采用线性插值法计算了材料体系中相对复杂的InGaAsAb、AlGaAsSb的晶格常数、禁带......
Ⅲ/Ⅴ氮化物半导体材料,由于其具有较宽的带隙,能够应用在蓝光和绿光发光波段的光电子器件和高温微电子器件中,因而成为国际上的研......
研究了低温缓冲层对在GaAs(001)衬底上用分子束外延(MBE)生长ZnTe薄膜晶体质量的影响。发现插入低温缓冲层后ZnTe的结晶质量、表面......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
用低压金属有机物气相外延(LP-MOCVD)技术,采用低温缓冲层生长法,在GaAs(100)衬底上直接生长了高质量的InP外延层.1.2 μm InP(004......
利用金属有机化学气相沉积（MOCVD）法，在Si衬底上外延生长ZnO薄膜。为了改善氧化锌薄膜的质量，首先在Si衬底上生长低温ZnO缓冲层，然后再......
研究了用分子束外延(MBE)方法,在SI-GaAs衬底上不同低温生长的台阶式组分渐变InAlAs缓冲层结构.用原子力显微镜(AFM)观测表面形貌,......
使用金属有机物气相沉积方法(MOCVD),在GaAs衬底上生长InP外延层.先在GaAs衬底上生长一层低温InP缓冲层,然后再生长InP外延层.通过......
为了研究晶格常数不匹配的异质结SiGe／Si生长过程中低温缓冲层内缺陷对位错运动的影响，使用位错偶极子模型在Si晶体内建立了一对30&#......
利用超高真空化学气相淀积系统,在Si（100）衬底上外延采用低温缓冲层技术外延生长Ge薄膜。实验测试得到外延Ge的X射线双晶衍射曲线半......
采用两步生长法用金属有机物气相外延技术在GaAs（100）衬底生长InP，用原子力显微镜探索了退火和未退火的低温缓冲层以及InP外延层的表......
In GaAs是1-3μm近红外波段重要的探测材料。高In组分的InxGa1-xAs（x>0.53）由于没有同质衬底,在生长中则会出现晶格失配,使外延层质......
GaN是一种非常重要的直接带隙宽禁带半导体材料,被广泛应用于光电子器件和电力电子器件。但是由于缺乏GaN单晶衬底,目前大部分GaN......
采用分子束外延技术，在GaAs衬底上生长GaSb薄膜时，利用反射式高能电子衍射仪（RHEED）对衬底表面清洁状况、外延层厚度等进行在线监控。......
本论文的研究工作是围绕以任晓敏教授为首席科学家的国家重点基础研究发展计划(973计划)项目“新一代通信光电子集成器件及光纤的......
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