厚度均匀性相关论文
源炉是分子束外延设备中的核心部件之一,对于分子束外延设备及其成膜性质具有决定性的影响,源炉的性能对于外延薄膜的厚度均匀性、......
随着摩尔定律的逐步实现,大直径硅片的应用规模逐渐扩大,然而,大直径硅外延片的片内均匀性成为了外延的主要问题之一.使用具有五路......
目前，由于汽车车灯工件批量少、种类繁多，车灯喷涂机器人离线编程系统尚无法满足喷涂效果和效率要求，因此车灯喷涂主要还是靠人工喷涂......
磁控溅射系统中薄膜厚度的均匀性是关键指标之一.通过分析磁场强度、靶材与基板的距离和气体压强对Si3N4和SiO2两种薄膜厚度均匀性......
随着工业和科学技术的发展,在电镀技术中,对电镀层的质量提出了越来越高的要求,尤其是对电镀层厚度的均匀性的要求,越来越严格。......
自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,研究了有无真空搅拌除泡装置对荧光粉涂覆效果的影响,结果发现未经真空......
利用光内送粉技术对小间隙双层斜套的成形工艺进行了研究,采用依次独立堆积路径、法向分层、无错位堆积工艺方法成形了双层斜套。......
一、前言 真空蒸镀铝膜材料用做金属化电容器比之用轧制铝箔做电容器具有许多优点:(1)蒸镀铝膜薄,一般为300 (而铝箔7μm厚),故用......
随着磁控溅射技术应用日益广泛,难熔金属靶材需求不断增大。就难熔金属靶材应用、制备及发展进行总结和探讨,分析了制作过程中致密......
通过实践操作经验结合相应的理论知识,分析了在生产过程中温度参数设定、模口间隙调整、风刀装置、缩幅等影响流延聚丙烯薄膜厚度......
液态硅源硅酸乙酯(TEOS)在700~750℃分解的LPCVD工艺,二氧化硅薄膜沉积的速率可以达到20~30nm/min,薄膜的厚度均匀性小于1﹪,这些优......
微透镜阵列是重要的集成化微光学元件,采用微注塑成型技术或纳米压印技术实现批量化生产。电铸是微注塑模芯或纳米压印模芯的核心......
在微电子和集成电路技术高速发展的今天,石墨烯由于其独特的六角结构赋予了其独特的半导体特性,成为能够取代硅材料的最理想的半导......
电阻加热具有比较好的加热均匀性,可以认为对于非升华性材料,具有比较理想的平面源发射特性n=1。而电子束加热时,通常n=2~3,甚至可......
采用RF-PECVD法在锗（Ge）基片上沉积类金刚石（DLC）薄膜,研究了气体流量和气压对沉积区域均匀性的影响,以及基片厚度与沉积时间的关系。......
流延膜是通过熔体流涎骤冷生产的一种无拉伸、非定向的平挤薄膜,有单层流涎和多层共挤流涎两种方式。与吹膜相比,其特点是生产速度......
采用有限元方法通过Comsol Multiphysics软件模拟了电沉积通孔铜箔的过程。研究了镀液流速和电流密度对电沉积过程中铜离子浓度分......
利用有限元软件ANSYS对MEMS微电铸Ni工艺进行电场模拟，研究了光刻胶厚度、线宽以及片内辅助电极参数对微结构表面电场分布均匀性的......
提出采用新型阴极多自由度运动电沉积技术制作纳米结构模塑成型镍模板,研究不同流场分布状态下电沉积成型模板的厚度分布、表面质......
厚度分布尽可能均匀是绝大多数电沉积应用场合努力实现的目标。从电解液组分、电源、电沉积槽、阳极与阴极的结构形状及布局、电解......
层压时,板边溢胶会导致板边介质层厚度较板中间薄、介电常数较板中间高。板边与板中间介质层厚度差异受半固化片含胶量影响,含胶量......
层压时，板边溢胶会导致板边介质层厚度较板中间薄、介电常数较板中间高。板边介质层厚度、介电常数偏差均会对阻抗造成影响。本文对......
分析了形状复杂的零件镀硬铬生产中出现的与几何因素相关的7例镀层不均匀故障,给出了从几何因素方面提高镀液分散能力的措施。......
为解决透射式Cs2Te光阴极厚度不均匀问题，通过理论和实验研究，分析了产生此问题的机理及其影响因素。这些因素包括：蒸发源发生器形状......
红外减反射保护膜具有特定的厚度要求，如能进一步减小无氢类金刚石膜（DLC）的光学吸收，就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广......
采用自行设计的微球电沉积装置,建立了空心聚苯乙烯(PS)微球的电化学沉积金工艺.实验条件为:电源输出电压0.7～0.8 V,电流密度2.0 mA......
为了提高双组分硅橡胶防热涂料(TR-37G)自动喷涂厚度均匀性,对其自动喷涂工艺进行了研究。研究了喷涂参数对该涂料自动喷涂状态和......
“双向拉伸”是近年来颇受关注的塑料薄膜成型方法之一，采用双向拉伸技术可以显著提高薄膜的机械性能．阻膈性能．光学性能．热性能及厚度......
薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要的因素.利用脉冲真空电弧离子镀技术在Si基片上沉积出类金刚石薄膜,采用轮廓仪对膜......
为解决多尺度共存掩膜电沉积件的厚度不均问题,提出了直线状超微阳极扫描式电沉积加工技术,研究分析了共基底批量电沉积微构件和宏......
介绍了一种提高红外器件磁控溅射沉积镀膜厚度均匀性的方法。这种方法被称为基片离心旋转法,是在保持磁控溅射靶不动及靶和样品台......
采用统计过程控制(SPC)方法对压延过程进行管控,寻找控制点,开展DOE试验。确定最优压延工艺:压延方向为旋转法,辊间隙调节方法为分......
薄膜产品的厚度及其厚度均匀性是影响产品质量的重要因素之一。近年来,薄膜厚度测量的方法研究和工程实现越来越成熟,但是对薄膜样......
引言包装除了美观和物理防护外，其最重要的性能就是密闭性能，水蒸汽或其他气体进入或泄出包装的途径主要是渗透。渗透是指气体或水蒸......
本文应用计算和生产效果验证相结合的方法,研究了几何因素中的辅助阳极、绝缘隔板和电化学因素中的电铸主槽回液管出口流速对电铸......
LED晶片的贴片方法直接影响晶片最终减薄厚度的均匀性,本论文分别使用常规的2英寸蓝宝石晶片和砷化镓晶片,首先进行正常的外延结构......
为了给脉冲激光沉积（PLD）法沉积大面积均匀薄膜的应用提供相关的理论依据，以纯铝块作为靶材，采用PLD法在同轴和旁轴两种模式下对比研究......
采用硅橡胶替代传统下模具,压印成型聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）制品。硅橡胶的本构模型和PMMA的材料模型分别采用Mooney-Rivlin模型和广......
针对膜厚的均匀性对非晶硅薄膜透射光谱(400～1000nm)的影响问题，通过模拟计算分析在不同膜厚、厚度(线性)变化率和照射面积条件下，厚......
研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺.简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析......
通过采用整体包胶、结构可调的电镀夹具,将待镀微波印制电路片表面调整至与阳极平行,并令镀液温度和电流密度分别由52°C和0.1......
采用氨基磺酸盐体系对陶瓷类管壳电镀镍,研究了氯离子与溴离子的质量浓度对镀液pH稳定性,以及镀层厚度均匀性、表面形貌和抗疲劳性......
带钢表面的锡层厚薄是否均匀,在很大程度上决定了电镀锡板的耐蚀性能,并直接影响电镀锡板生产中金属锡消耗量的多少。众所周知,镀......
0背景随着电子技术向高速、多功能、大容量和便携低耗方向发展,多层印制板的应用便越来越广泛,其层数及密度也越来越高,相应之结构......
本文分析了双向拉伸聚丙烯粗化膜的粗化机理, 结合生产粗化膜的生产线工艺流程分析讨论了影响粗化膜表面粗化关键参数, 介绍了公司......
