类金刚石薄膜的微结构及其电学性质的研究

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通过透射-反射谱、红外光谱表征了类金刚石a—C:H:N薄膜微结构与氨含量的关系。实验结果表明,随N2/Ar气体流速比的增加,在a—C:H:N膜内N-H含量增加,C-H含量减少。在77~300K温度范围内,测量了a-c:H:N薄膜电导率与温度的依赖关系,讨论了其导电过程,估算了费米能级的态密度。 The relationship between the microstructure of diamond-like a-C: H: N films and ammonia content was characterized by transmission-reflectance spectroscopy and infrared spectroscopy. The experimental results show that the content of C-H decreases with the increase of N-H content in a-C: H: N film with the increase of N2 / Ar gas velocity ratio. The dependence of temperature on the conductivity of a-c: H: N thin films was measured in the temperature range of 77 ~ 300K. The conduction process was discussed and the state density of Fermi level was estimated.
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