真空镀SiOx高阴透薄膜

来源 :中国科技成果 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qiyongde

【摘要】

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一、主要技术内容rn真空镀SiOx高阴透薄膜是中包云梦塑料薄膜厂以等离子体化学气相淀积技术为基础,利用激光电子束枪加热,将SiOx制成棒状连续供料,在塑料薄膜表面涂覆SiOx制

【出处】

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中国科技成果

【发表日期】

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2001年9期

【关键词】

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真空镀塑料薄膜连续供料表面涂覆气相淀积技术等离子体化学真空条件技术内容技术解决包装材料阻透性蒸发源真空度电子束加热激光基础棒状

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一、主要技术内容rn真空镀SiOx高阴透薄膜是中包云梦塑料薄膜厂以等离子体化学气相淀积技术为基础,利用激光电子束枪加热,将SiOx制成棒状连续供料,在塑料薄膜表面涂覆SiOx制成的一种新型高阻透性包装材料,该项技术解决了SiOx作为蒸发源,不能连续供料,需高温高真空度涂覆的难题,实现了在低温低真空条件下连续涂覆SiOx.

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