高功率脉冲磁控溅射相关论文
采用高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）和直流磁控溅射（DCMS）共沉积技术制备了不同硅含量的无氢Si-DLC薄膜，利用高温摩擦试验机对比考察了不同......
TiAlSiN涂层具有高硬度、良好的耐磨性和热稳定性,在切削刀具等领域具有广泛应用。高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术通过在短时间内对......
为了防止氢扩散而导致金属材料的失效，通常在其表面制备一层CrN阻氢薄膜。但是CrN涂层的热稳定性较差，抗氧化温度低于600 ℃。采用高......
类金刚石碳（DLC）膜是具有高硬度、高化学惰性、高耐磨性等优异性能的薄膜材料,在许多不同领域有着一定应用规模和发展前景。但目前类......
首先采用纳秒紫外激光器（355 nm）在H13钢（4Cr5MoSiV1）表面制备了不同密度及规则排布的微织构阵列，再采用高功率脉冲磁控溅射和电弧离子......
管状工件内表面涂层制备相比于一些其他平面件镀膜会有更多的技术障碍,对于复杂的和小尺寸的管道类型,现有的优异的处理方法不能被......
本文旨在以高功率调制脉冲磁控溅射（Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering, MPPMS）、等离子体基离子注入（Plasma-Based Ion I......
CrN薄膜的内应力低,韧性好,化学稳定性高,耐磨耐蚀性能好,并且在制备过程中与基材的结合强度大,沉积速率快,所以备受关注。用磁溅......
目的 比较两种沉积方法制备的AlTiN涂层的切削性能.方法 利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)和电弧离子镀技术(AIP),在硬质合金车......
氢在金属材料中主要做原子扩散,而在陶瓷材料中主要做分子扩散,因此渗透率相对于金属材料比较低,因此可以通过在金属材料表面溅射......
柔性硬质纳米涂层具有高致密性、高表面完整性、高硬度、高韧性和高裂纹抵抗力特性,是新一代高性能纳米涂层的一个重要发展方向,但......
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)是一种新型的电离物理气相沉积工艺，通过在磁控靶上施加高功率密度、低占空比的单极脉冲，能够产生1018～10......
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术能够产生1019 m-3以上的高密度等离子体和较高的溅射材料离化率,采用其放电沉积的薄膜具有高致密......
高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)制备的TiN 薄膜性能优异、应用广泛,但存在沉积速率低[1],残余应力高[2]两个问题.为了解决这两个问题,......
ARC离子速弧电源是一个适用于各种镀膜环境的工业级直流电源,能够简化用于各种镀膜制程中的电源集成.对于阴极等离子镀膜的工艺制......
铝合金已经被广泛应用于纺织机械.为了提高耐磨性,铝合金表面微弧氧化(MAO)是一种非常有效的方法.通过合适的溶液配方和电参数调节......
新型超硬涂层的开发和严苛的工作环境，对涂层综合性能及结合力提出越来越高的要求，较高的沉积粒子离化率及其带来的能量可控性成为开......
以高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获......
等离子密度及金属离化率是影响高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜质量的关键因素,高功率脉冲磁控溅射参数(如电压、脉宽、沉积气压及峰值......
高功率脉冲磁控溅射技术被提出以来就受到业界广泛关注,其较高的溅射材料离化率结合适当的电磁控制,可产生高致密度、高结合力和高......
本文提出在铝合金微弧氧化涂层表面中频磁控放电沉积Cr-DLC,以期获得高耐磨、低摩擦系数的高利用率的硬质薄膜。由于金属氧化......
为了获得新型HiPIMS稳定放电及制备优质膜层时的最优外部磁场参数,研究外部磁场变化对电-磁场协同增强高功率脉冲磁控溅射((E-MF)H......
类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)涂层是一种集高硬度、高耐磨性、高导热率、良好的生物相容性和低摩擦系数等优良特性于一体的......
Ti2AlN薄膜兼具金属和陶瓷的性能优势,真空退火Ti/AlN多层膜制备Ti2AlN薄膜的方法是实现其工业化应用的手段之一。Ti2AlN的晶体结......
基于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术开发的筒形溅射阴极,配合电磁系统可有效地提升等离子体的输运效率.然而电磁系统的引入反作用......
氧化锌薄膜材料由于具有高电导率、良好的光学透过率、原料储存丰富、成本低廉的特点,被认为是最具有潜力的透明导电薄膜.特别是其......
类金刚石(Diamond-Like Carbon， DLC)涂层具有诸多优异的性能，如硬度和弹性模量高、耐磨性好、摩擦系数低等，使其被广泛运用于刀具、......
高功率脉冲磁控溅射技术是近年来发展起来的一种新型的物理气相沉积方法,等离子体密度可高达1018m-3数量级,靶材原子的离化率可高......
采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)法,在工业纯铝基体上生长得到V薄膜,研究不同直流偏压对薄膜相结构、形貌及不同温度处理对耐蚀性的......
高功率脉冲磁控溅射是一种制备高质量薄膜的新兴方法.在相同的平均功率下分别采用HPPMS技术和传统DCMS技术在凹槽工件表面制备了钒......
采用高功率脉冲磁控溅射技术于Si基底表面制备了类石墨碳膜,研究了基体偏压对薄膜沉积速率、微观结构、力学性能及摩擦学性能的影......
采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜.分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织......
采用高功率脉冲磁控溅射技术在M2高速钢基体上沉积了TiN薄膜,研究了不同脉冲电流下TiN膜层的沉积速率、膜基结合力、晶体生长取向......
针对高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)存在的低溅射率靶材放电时离化率有待进一步提高的问题,通过增加辅助阳极的方法来提高HIPIMS的离......
研究不同类型过渡层对铝基体与钒涂层结合强度的影响,为合理设计过渡层提供一种新的研究思路。采用高功率脉冲磁控溅射技术在铝合......
研究磁场增强高功率脉冲磁控溅射技术的放电特性在不同工作参数下的演变规律.利用数字示波器采集HiP-IMS的基体离子电流用于表征其......
采用高功率复合脉冲磁控溅射技术(HPPMS)在316不锈钢、硬质合金基体上沉积了TiN薄膜,研究不同N2流量下TiNx膜层的沉积速率、硬度、......
柔性印制电路板是在聚合物基材上蚀刻铜电路,相比传统导线线束方法,其重量和体积可减少70%以上。近年来,电子工业发展迅速,电子产......
基于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术开发的筒形溅射阴极,配合电磁系统可有效地提升等离子体的输运效率.然而电磁系统的引入反作用......
使用AlCr合金靶材在高功率脉冲磁控溅射系统中低温反应溅射沉积氧化物薄膜，并与使用纯Al靶反应溅射的薄膜对比。用纳米压痕仪测量薄......
封面图片来自本期论文“高离化率电-磁场协同增强HiPIMS高速沉积特性”,是采用电-磁场协同增强HiPIMS新技术制备的钒膜AFM三维立体......
为了使高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术在保持高离化率的条件下实现HiPIMS高速沉积过程,采用电场与磁场双外场协同作用改善HiPIMS......
为研究Cr-B涂层在多测试环境（干摩擦、蒸馏水和海水环境）下摩擦磨损行为,采用高功率脉冲磁控溅射沉积技术制备Cr-B涂层,分析涂层成分......
采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速铜基底上制备类石墨（Graphite—likecarbon，GLC）非晶碳膜，研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性......
高功率脉冲磁控溅射以较高的溅射材料离化率及其所带来的高致密度、高结合力和高综合性能成为物理气相沉积领域的新宠,然而其沉积......
