铜表面相关论文
提出了一种运用爆炸产生的压力,将钨铜涂层压到铜表面的新工艺.运用机械合金化的手段制备钨铜合金,并对合金粉末进行表征,得到混合......
随着化学工业的发展，金属材料在产品的制造和加工中起着至关重要的作用。铜及其合金因其优异的物理化学性质，如优良的导电性、导热性......
添加缓蚀剂是工业水处理技术中最常用且经济有效的方法之一。添加三氮唑类缓蚀剂已成为水处理系统中对铜设备进行防护的传统手段。......
由于SF6具有极强的温室效应，而C5F10O气体不仅环境相容性好，而且绝缘性能优良，具有在中低压开关柜等设备中替代SF6的潜力。但是，C5F10O......
近年来,化石燃料的快速消耗加速了能源的短缺,尽快开发新的能源成了重要论题。氢能源就是其中之一,它具有清洁易生产的优点。甲醇......
在冶金行业中，结晶器是用铜或铜合金制成的，由于铜的耐磨性、耐腐蚀性差，结晶器的使用寿命大大降低。为了提高结晶器的使用寿命，提出在......
本文利用超高真空扫描隧道显微镜(STM)发现在常温下单个酞菁分子能够稳定地吸附在铜(100)表面上,且吸附分子在表面上仅有两种等价......
通过密度泛函理论系统分析了水在铜（100）面的吸附结构及其解离反应过程，对比不同的吸附位，水在顶位稳定，羟基和氧原子在空位稳定；各吸附......
采用密度泛函理论研究了吸附在铜表面的环丙烷的解离吸附过程，环丙烷在大约10eV能量的照射下被激发到第一激发态，处于激发态的分子与......
通过基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究硅烷（SiH_4）在Cu（111）,Cu（100）,Cu（110）表面的裂解过程,确定了4个反应步骤的所有反应物、生成......
利用稀土化合物CeCl3对纯铜表面渗铝进行催渗.采用工业N2中的余氧作为内氧化介质对纯铜渗铝后的试样进行内氧化,可在纯铜表面制备......
随着现代社会工业发展,大气中的二氧化碳含量持续上升,温室效应更加严重。二氧化碳的还原反应的重要性开始得到关注,该反应有两个......
<正>20世纪80年代开始,人们逐步认识到环境是医院感染病原体的储存库,如病人接触的物体表面、医务人员接触的医疗用品和器械表面等......
介绍了在-136℃用氧气脉冲色谱测定CuO-ZnO—Al_2O_3系催化剂中金属铜表面积的方法,文中阐述了吸附质和吸附温度选择的依据,O_2~’......
电子产品正在迅速向微型化的方向发展,对组装密度的要求也随之提高;与此相适应,印制电路的线条和间距也日益细密化。为了不造成生......
本文属于国家计划生育委员会科技攻关项目，并得到计划生育药具国家重点实验室和金属腐蚀与防护国家重点实验室的资助。 宫内节......
固体表面吸附研究领域中,某些功能分子吸附于金属表面形成具有一定取向、排列紧密的自组装单分子膜(Self-Assembled Monolayers, S......
分别以过硫酸钾、过硫酸铵及氨水为氧化剂,在铜表面制得纳米结构,并用十七氟癸基三乙氧基硅烷（FAS-17）进一步氟化处理,获得了差异化......
<正>超平滑无损伤铜表面的超精密加工技术在微电子器件和微机电系统制造中具有广泛的需求。目前,化学机械抛光作为常见的超精密加......
<正> HNO3-Fe（NO3）3型退锡液为九十年代新发展起来的退锡液,由于其对环境污染相对HF-H2O2型退锡液小,操作相对简单,成本较低等优点,......
<正> 一、前言印制板是当代电子技术的重要元件。在印制板生产中,铜箔与环氧玻璃胶布的粘接性能及其耐久性,又是影响质量的关健,要......
在多层板的制造工艺中,为了提高内层之间的结合力,过去都要进行黑氧化处理,但是黑氧化处理容易产生粉红圈问题,本公司仅进行微蚀刻......
期刊
<正> 一、前言 铜材在高温或潮湿的环境中,容易氧化变色,质量因此而下降。铜导线受环境因素的影响,时常会从多股导线的芯部或外部......
<正> 前言 H2SO4/H2O2蚀刻体系具有如下优点:（1）配制溶液方便,操作简单;（2）蚀刻效果好,侧腐蚀小;（3）废液处理简便,污染程度小;（4）可进行综......
<正>原电池实验是电化学中一个非常重要的实验,可是由于实验中所用锌片纯度不够(纯锌片难以买到),致使锌片上氢气泡比铜片上的还多......
采用高速电火花线切割机床在铜表面构筑复合粗糙结构,经自组装技术处理后得到了超疏水铜表面。结果表明,高速电火花线切割机床在铜......
<正> 由于更精细的线宽/间距、更薄的芯子材料和增加层数,使今天的 PCB 越来越增加其复杂化了。当电路的导线和间距达到微米级时,......
研究了正、叔十二烷基硫醇在铜表面上的自组装及混合自组装成膜情况,并利用交流阻抗和极化曲线电化学方法测试了正、叔十二烷基硫......
Ｔ５５１是苯三唑型衍生物，Ｔ１６１是噻二唑型衍生物。本文对Ｔ５５１、Ｔ５６１油样进行氧化及腐蚀试验，将试验后的铜片表面进行了俄歇能谱、电子能谱、多重红外光谱......
