深刻蚀相关论文
掩模制备是硅各向同性刻蚀中的一项重要工艺。要实现深刻蚀,掩模必须满足结构致密、强度大及抗腐蚀性好的要求。一般光刻胶掩模无......
强场非对称离子迁移谱技术(FAIMS)是离子迁移谱技术的一个分支[1]。与飞行时间离子迁移谱技术不同,FAIMS 利用在大气压下高电......
研究了一种基于深刻蚀的硅基周期波导一维光子晶体微腔，采用时域有限差分(FDTD)方法对设计的微腔结构进行了模拟分析；讨论了深刻......
本文采用离散谱折射率法对深蚀刻、Ga As/ Ga Al As多层脊形光波导模式特性进行了具体分析和设计 ,获得了较大截面、低损耗的单模......
超辐射发光二极管(SLD)是传感系统光源的一种,其发光特性介于激光器(LD)和发光二极管(LED)之间。因其有着较宽的光谱、较高的功率......
研究了一种具有广泛适应性的微机械制造方法,该方法可用于制备各种不同的器件,包括硅微陀螺仪、加速度计、剪切应力传感器以及光开......
本文介绍了一种用于密集波分复用系统的深刻蚀高密度熔融石英光栅的设计和制作过程。感应耦合等离子体刻蚀技术(ICP)被用来制作这......
本文基于MOEMS技术研究了一种用于仿生柔性光学传感器的曲面微透镜的制作方法.首先利用传统的光刻胶热熔工艺制作了平面微透镜阵列......
论文工作主要研究了MEMS技术的跨学科特征和发展过程中与硅工艺相关的问题；就解决这些问题进行了研究和探索，提出了新的研究思想和解......
本课题基于微机械加工技术、利用电荷感应原理,针对空间低频及静电场的检测进行了器件的方案设计和加工工艺研究。按照不同的技术......
深刻蚀光栅是一个新兴的学科方向,具有亚波长和深刻蚀双重特征的微纳光子学元件,表现出一系列特有的光学效应。石英玻璃是一种优......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
针对ICP刻蚀工艺进行了深入研究,探讨了气体流量、射频功率和工作室气压设定值等工艺参数对刻蚀效果的影响,最终在硅基底上获得了......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
采用离散谱折射率法对深刻蚀GaAs/GaAlAs多层脊形光波导的特性作了详细的理论分析，并对所获得的较大截面、低损耗的单模脊形光波导......
本文研究了一种具有广泛适应性的微机械制造方法，该方法可用于制备各种不同的器件，包括硅微陀螺仪、加速度计、剪切应力传感器以及光......
为了在平面微电机有限大尺寸的定子上制作高深宽比结构的绕组线圈,对高深宽比微结构的制作工艺进行了研究,综合比较各方面因素,从......
近期,中国科学院上海光学精密机械研究所精密光学制造与检测中心研究团队结合化学深刻蚀和激光抛光对精磨后的熔石英玻璃进行加工,......
采用离散折射率法对深刻蚀GaAs/GaAIAs多层脊形光波导的特性作了详细的理论分析，并对所获得的较大截面、低损耗的单模脊形波导的制......
采用深刻蚀SiO2脊型波导，利用其弯曲半径小的优点，设计了一种紧凑型1×2多模干涉功分器．在输入／输出波导与多模干涉区域之间引入了......
利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件.分析了影响深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀......
针对微机电系统中电热微执行器和位移放大机构都具有柔性的事实，从理论上分析了作为负载系统的柔性位移放大机构对微执行器输出位移......
本文采用离散谱折射率法对深蚀刻、ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ多层脊形光波导模式特性进行了具体分析和设计，获得了较大截面、低损耗的单模脊形光波导。利用这......
给出了一种硅微机械陀螺制造方法,该方法可适用于各种不同的微机电系统（MEMS）器件,包括加速度计、剪切应力传感器及MEMS光开关等。利......
MEMS应用领域的扩展要求开发硅材料之外其他新型材料的三维微细加工技术．为此，对金属钛这一新型MEMS体材料的三维加工进行了探索．金属......
研究了自终止腐蚀停法制备浓硼重掺杂硅薄膜的腐蚀孔问题．许多MEMS结构需要进行2次或2次以上的深刻蚀，有些需要在多次深刻蚀后释放超......
硅基集成波导滤波器通孔的显微结构和阵列精度对硅基集成波导滤波器的电磁性能和可靠性至关重要。采用 KOH 溶液刻蚀、皮秒紫外激......
为了简化电容式振动环陀螺仪的制作方法，进一步提高成品率，提出了一种结合反应离子深刻蚀（DRIE）与阳极键合的陀螺仪制备方法。分析了振......
为了提高微机电系统中微执行器的作用距离,设计了一种全硅结构的微型柔性力-位移传动机构,用于放大微执行器的输出位移。建立了传......
结合MEMS技术的发展历史,概括了当今硅基MEMS加工技术的发展方向.指出表面牺牲层技术和体硅加工技术是硅基MEMS加工技术的两条发展......
为了在平面微电机有限犬尺寸的定子上制作大深宽比结构的绕组线圈，对大深宽比微结构的制作工艺进行了研究，综合比较各方面因素，从中找......
以ICP-501为刻蚀设备，以C4F8和SF6为刻蚀气体，以Xe气为辅助气体，以lift-off方法得到的铬掩模对966线/mm的光栅进行刻蚀。结果表明，在选......
随着人们对带宽的需求急剧增加,光纤从光网络的干线网络,城域网络向接入网延伸。作为大带宽的“最后一公里的解决方法”的光纤到户......
深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件,具有衍射效率高、成本低、抗损伤,能在高强度激光条件下工作等优点。给出......
