深蚀刻二元光学元件

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提出一种新颖的、蚀刻位相深度超过2π的深蚀刻二元光学技术,并从理论上分析深蚀刻二元光学元件与衍射效率的关系,然后用计算机进行模拟与分析,得到深蚀刻二元光学元件特性的一些初步研究结果 A novel deep-etched binary optical technique with a depth of phase deeper than 2π is proposed. The relationship between the deep-etched binary optical element and the diffraction efficiency is theoretically analyzed and then simulated and analyzed by computer to obtain deep-etched binary optical Some Preliminary Results of Component Characteristics
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